公开(公告)号：CN101592751B

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN200910145659.5

申请日：2009-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 山田朋宏 ,  黑田亮

IPC: G02B5/20 ,  H04N5/225 ,  H01L27/146 ,  G01J1/04 ,  G01J3/02

CPC classification number: G02B5/204 ,  B82Y20/00 ,  G02B5/008

Abstract: 本申请提供一种滤光器。该滤光器包括在基板表面上设置有多个开口的遮光导电层，其选择性地透射第一波长的光；以及与导电层接触的电介质层。开口的尺寸等于或小于第一波长，导电层的表面积与基板表面的表面积的比率在等于或大于36％且等于或小于74％的范围内。通过入射到导电层上的光而在开口中引起的表面等离子体振子，第一波长的透射率增大。

公开(公告)号：CN1977360B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200580021755.9

申请日：2005-06-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻生耕久 ,  黑田亮 ,  水谷夏彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7035 ,  B82Y10/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70691 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明公开了一种曝光设备、曝光方法和曝光掩模，用于改进的光学光刻。具体来讲，根据本发明的一个优选方式，该曝光设备被设置成与具有可弹性变形的保持部件和提供在该保持部件上并形成有开口图案的光阻挡膜的曝光掩模一起使用，其中，为了曝光，使曝光掩模弯曲以便与要曝光的物体接触。该曝光设备包括距离检测系统，用于检测弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离，和距离控制系统，用于根据来自所述距离检测系统的信号来控制弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离。

公开(公告)号：CN101592751A

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200910145659.5

申请日：2009-05-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 山田朋宏 ,  黑田亮

IPC: G02B5/20 ,  H04N5/225 ,  H01L27/146 ,  G01J1/04 ,  G01J3/02

CPC classification number: G02B5/204 ,  B82Y20/00 ,  G02B5/008

Abstract: 本申请提供一种滤光器。该滤光器包括在基板表面上设置有多个开口的遮光导电层，其选择性地透射第一波长的光；以及与导电层接触的电介质层。开口的尺寸等于或小于第一波长，导电层的表面积与基板表面的表面积的比率在等于或大于36％且等于或小于74％的范围内。通过入射到导电层上的光而在开口中引起的表面等离子体振子，第一波长的透射率增大。

公开(公告)号：CN1977360A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200580021755.9

申请日：2005-06-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻生耕久 ,  黑田亮 ,  水谷夏彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7035 ,  B82Y10/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70691 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7053 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明公开了一种曝光设备、曝光方法和曝光掩模，用于改进的光学光刻。具体来讲，根据本发明的一个优选方式，该曝光设备被设置成与具有可弹性变形的保持部件和提供在该保持部件上并形成有开口图案的光阻挡膜的曝光掩模一起使用，其中，为了曝光，使曝光掩模弯曲以便与要曝光的物体接触。该曝光设备包括距离检测系统，用于检测弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离，和距离控制系统，用于根据来自所述距离检测系统的信号来控制弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离。