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公开(公告)号：CN101038436B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200710088522.1
申请日：2007-03-14
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/165 , C07F7/12 , C07F7/1804 , G03F7/0751 , G03F7/0755
Abstract: 本发明提供使用更少数量的处理步骤形成低缺陷的微粒图案，点阵图案或孔阵图案的光敏硅烷偶联剂，以及使用这种光敏硅烷偶联剂的构图方法，其中所使用的是具有被邻-硝基苄氧羰基保护的仲氨基的光敏硅烷偶联剂。
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公开(公告)号：CN102208752B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110102885.2
申请日：2009-07-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01S5/18391 , H01S5/18311 , H01S5/18347 , H01S2301/166 , H01S2301/176
Abstract: 本发明提供一种表面发射激光器及阵列、其制造方法和光学装置。该表面发射激光器制造方法等减少表面浮雕结构所出现的处理损伤，从而使得能够稳定地提供单横模特性。提供一种包含用于控制上部镜子的发光部分中的反射率的表面浮雕结构的方法，该表面浮雕结构包含阶梯结构，该方法包括：在上部镜子上面或之上，形成包含用于形成台面结构的图案和用于形成阶梯结构的图案的抗蚀剂图案，并执行第一阶段蚀刻，用于蚀刻上部镜子的表面层以确定阶梯结构的水平位置；在执行第一阶段蚀刻之后，形成电流限制结构；以及在形成电流限制结构之后，执行第二阶段蚀刻，用于进一步蚀刻已执行第一阶段蚀刻的区域，以确定阶梯结构的深度位置。
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公开(公告)号：CN101640376B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200910165015.2
申请日：2009-07-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01S5/18391 , H01S5/18311 , H01S5/18347 , H01S2301/166 , H01S2301/176
Abstract: 本发明提供一种表面发射激光器及阵列、其制造方法和光学装置。该表面发射激光器制造方法等减少表面浮雕结构所出现的处理损伤，从而使得能够稳定地提供单横模特性。提供一种包含用于控制上部镜子的发光部分中的反射率的表面浮雕结构的方法，该表面浮雕结构包含阶梯结构，该方法包括：在上部镜子上面或之上，形成包含用于形成台面结构的图案和用于形成阶梯结构的图案的抗蚀剂图案，并执行第一阶段蚀刻，用于蚀刻上部镜子的表面层以确定阶梯结构的水平位置；在执行第一阶段蚀刻之后，形成电流限制结构；以及在形成电流限制结构之后，执行第二阶段蚀刻，用于进一步蚀刻已执行第一阶段蚀刻的区域，以确定阶梯结构的深度位置。
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公开(公告)号：CN101640376A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200910165015.2
申请日：2009-07-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01S5/18391 , H01S5/18311 , H01S5/18347 , H01S2301/166 , H01S2301/176
Abstract: 本发明提供一种表面发射激光器及阵列、其制造方法和光学装置。该表面发射激光器制造方法等减少表面浮雕结构所出现的处理损伤，从而使得能够稳定地提供单横模特性。提供一种包含用于控制上部镜子的发光部分中的反射率的表面浮雕结构的方法，该表面浮雕结构包含阶梯结构，该方法包括：在上部镜子上面或之上，形成包含用于形成台面结构的图案和用于形成阶梯结构的图案的抗蚀剂图案，并执行第一阶段蚀刻，用于蚀刻上部镜子的表面层以确定阶梯结构的水平位置；在执行第一阶段蚀刻之后，形成电流限制结构；以及在形成电流限制结构之后，执行第二阶段蚀刻，用于进一步蚀刻已执行第一阶段蚀刻的区域，以确定阶梯结构的深度位置。
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公开(公告)号：CN101038436A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710088522.1
申请日：2007-03-14
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/165 , C07F7/12 , C07F7/1804 , G03F7/0751 , G03F7/0755
Abstract: 本发明提供使用更少数量的处理步骤形成低缺陷的微粒图案，点阵图案或孔阵图案的光敏硅烷偶联剂，以及使用这种光敏硅烷偶联剂的构图方法，其中所使用的是具有被邻－硝基苄氧羰基保护的仲氨基的光敏硅烷偶联剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105379034A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201480039669.X
申请日：2014-07-07
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 稻生耕久
CPC classification number: H01S5/0607 , G01B9/02091 , H01S3/105 , H01S3/1062 , H01S5/0078 , H01S5/0207 , H01S5/026 , H01S5/0264 , H01S5/0656 , H01S5/18311 , H01S5/18341 , H01S5/18363 , H01S5/18366
Abstract: 提供了需要更少组件并且可以降低成本的表面发射激光器。表面发射激光器包括由第一反射镜(101)和第二反射镜(102)构成的腔体，并且具有通过用第一反射镜(101)在面对第二反射镜的方向上的移动(106)改变腔长而改变的谐振波长。该表面发射激光器还包括活性层(105)、第三反射镜(103)和光接收元件(104)，活性层(105)被布置在腔体中并且发射光，第三反射镜(103)相对于第二反射镜(102)被布置在活性层(105)的相对侧，光接收元件(104)被布置为接收经过第三反射镜的光。波长扫描VCSEL可以包括可变形支撑构件(303)上的第一DBR(101)，可变形支撑构件(303)又由另一个支撑构件(302)支撑。活性层(105)可以是在基板(107)上的第二DBR(102)上的MQW，基板(107)具有用于辐射物的背面发射以便被光电二极管(104)检测的孔。所检测到的辐射物被Fabry-Perot过滤频率，所述Fabry-Perot由第二DBR(102)和低反射率的第三反射器(103)生成，其中所述低反射率的第三反射器(103)由石英基板(103)的未涂覆的下表面和空气之间的界面实现。另一个外表面上的抗反射涂层(301，306)防止不期望的其他Fabry-Perot谐振器。通过相应地选择所述Fabry-Perot的FSR，可以从VCSEL的经Fabry-Perot过滤和检测的背面发射获得用于OCT应用的时钟信号。
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公开(公告)号：CN101730857B
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN200880024006.5
申请日：2008-07-14
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B5/223 , G02B5/008 , G02B5/201 , G02B5/204 , H01L27/1462 , H01L27/14621
Abstract: 提供一种透射可见光区域的光的滤光器，该滤光器包括：电介质基板；在电介质基板的表面上形成的电介质层；和设置在电介质基板和电介质层之间的沿电介质基板的面内方向以隔离的状态二维配置多个第一金属结构的第一金属结构组，包括：第一金属结构具有沿相互正交的第一方向和第二方向的第一长度和第二长度，这些长度小于或等于可见光区域中的第一波长；并且，通过入射到电介质基板或电介质层上的光和第一金属结构之间的共振在第一金属结构的表面上引起的表面等离子体激元，减小第一波长的透射率或增加反射率。
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公开(公告)号：CN1977360B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200580021755.9
申请日：2005-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/14 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7035 , B82Y10/00 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/2014 , G03F7/70325 , G03F7/70433 , G03F7/70691 , G03F9/703 , G03F9/7053 , G03F9/7088
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备、曝光方法和曝光掩模，用于改进的光学光刻。具体来讲，根据本发明的一个优选方式，该曝光设备被设置成与具有可弹性变形的保持部件和提供在该保持部件上并形成有开口图案的光阻挡膜的曝光掩模一起使用，其中，为了曝光，使曝光掩模弯曲以便与要曝光的物体接触。该曝光设备包括距离检测系统，用于检测弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离，和距离控制系统，用于根据来自所述距离检测系统的信号来控制弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离。
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公开(公告)号：CN101730857A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200880024006.5
申请日：2008-07-14
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B5/223 , G02B5/008 , G02B5/201 , G02B5/204 , H01L27/1462 , H01L27/14621
Abstract: 提供一种透射可见光区域的光的滤光器，该滤光器包括：电介质基板；在电介质基板的表面上形成的电介质层；和设置在电介质基板和电介质层之间的沿电介质基板的面内方向以隔离的状态二维配置多个第一金属结构的第一金属结构组，包括：第一金属结构具有沿相互正交的第一方向和第二方向的第一长度和第二长度，这些长度小于或等于可见光区域中的第一波长；并且，通过入射到电介质基板或电介质层上的光和第一金属结构之间的共振在第一金属结构的表面上引起的表面等离子体激元，减小第一波长的透射率或增加反射率。
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公开(公告)号：CN1977360A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580021755.9
申请日：2005-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F1/14 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7035 , B82Y10/00 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/2014 , G03F7/70325 , G03F7/70433 , G03F7/70691 , G03F9/703 , G03F9/7053 , G03F9/7088
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备、曝光方法和曝光掩模，用于改进的光学光刻。具体来讲，根据本发明的一个优选方式，该曝光设备被设置成与具有可弹性变形的保持部件和提供在该保持部件上并形成有开口图案的光阻挡膜的曝光掩模一起使用，其中，为了曝光，使曝光掩模弯曲以便与要曝光的物体接触。该曝光设备包括距离检测系统，用于检测弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离，和距离控制系统，用于根据来自所述距离检测系统的信号来控制弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离。
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