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公开(公告)号：CN115947648B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202211695370.2
申请日：2022-12-28
申请人： 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种交联剂及其制备方法、光刻胶，属于光刻技术领域。光刻胶包括溶质和第一溶剂，其中，溶质包括70wt％～95wt％碱溶性树脂、1wt％～30wt％光致产酸剂、0.1wt％～15wt％酸淬灭剂和5wt％～20wt％上述的交联剂，第一溶剂的质量为碱溶性树脂的质量的1倍～10倍。本申请的交联剂能够用于添加到光刻胶中，并使得光刻胶的基体树脂的交联反应更加均匀，减少或避免局部分子量太大引起的形貌缺陷，得到的图形线条边缘更加垂直，且窗口更大。
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公开(公告)号：CN115974880A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211695259.3
申请日：2022-12-28
申请人： 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC分类号： C07D487/04 , G03F7/004
摘要： 本申请提供一种交联剂及其制备方法、光刻胶，属于光刻技术领域。光刻胶包括溶质和第一溶剂，其中，溶质包括70wt％～95wt％碱溶性树脂、1wt％～30wt％光致产酸剂、0.1wt％～15wt％酸淬灭剂和5wt％～20wt％上述的交联剂，第一溶剂的质量为碱溶性树脂的质量的1倍～10倍。本申请的交联剂能够用于添加到光刻胶中，并使得光刻胶的基体树脂的交联反应更加均匀，减少或避免局部分子量太大引起的形貌缺陷，得到的图形线条边缘更加垂直，且窗口更大。
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公开(公告)号：CN115947648A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211695370.2
申请日：2022-12-28
申请人： 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种交联剂及其制备方法、光刻胶，属于光刻技术领域。光刻胶包括溶质和第一溶剂，其中，溶质包括70wt％～95wt％碱溶性树脂、1wt％～30wt％光致产酸剂、0.1wt％～15wt％酸淬灭剂和5wt％～20wt％上述的交联剂，第一溶剂的质量为碱溶性树脂的质量的1倍～10倍。本申请的交联剂能够用于添加到光刻胶中，并使得光刻胶的基体树脂的交联反应更加均匀，减少或避免局部分子量太大引起的形貌缺陷，得到的图形线条边缘更加垂直，且窗口更大。
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公开(公告)号：CN115925645A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211695383.X
申请日：2022-12-28
申请人： 上海彤程电子材料有限公司 , 北京彤程创展科技有限公司 , 北京科华微电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC分类号： C07D251/70 , G03F7/004 , G03F7/038
摘要： 本申请提供一种交联剂及其制备方法、光刻胶，属于光刻技术领域。光刻胶包括溶质和第一溶剂，其中，溶质包括70wt％～95wt％碱溶性树脂、1wt％～30wt％光致产酸剂、0.1wt％～15wt％酸淬灭剂和5wt％～20wt％上述的交联剂，第一溶剂的质量为碱溶性树脂的质量的1倍～10倍。本申请的交联剂能够用于添加到光刻胶中，并使得光刻胶的基体树脂的交联反应更加均匀，减少或避免局部分子量太大引起的形貌缺陷，得到的图形线条边缘更加垂直，且窗口更大。
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公开(公告)号：CN113461885B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110910692.3
申请日：2021-08-09
申请人： 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种光刻胶用酚醛树脂及其制备方法。所述制备方法包括制备步骤和纯化步骤，制备步骤：单羟基甲酚、多羟基苯酚和醛类化合物在酸性催化剂和水的条件下进行反应，得到反应液；纯化步骤：首先中和剂中和反应液，并分出水相；然后进行水洗处理，并分出水相；最后在35~80℃温度下进行干燥，得到光刻胶用酚醛树脂。所述光刻胶用酚醛树脂是由上述制备方法制备而得。本申请通过在酚醛树脂的结构中适当引入多羟基苯酚，提高酚醛树脂的耐热性，进而提高光刻胶的感光灵敏度、分辨率和反差，同时还可以调节酚醛树脂的碱溶解速率。
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公开(公告)号：CN113461885A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110910692.3
申请日：2021-08-09
申请人： 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种光刻胶用酚醛树脂及其制备方法。所述制备方法包括制备步骤和纯化步骤，制备步骤：单羟基甲酚、多羟基苯酚和醛类化合物在酸性催化剂和水的条件下进行反应，得到反应液；纯化步骤：首先中和剂中和反应液，并分出水相；然后进行水洗处理，并分出水相；最后在35~80℃温度下进行干燥，得到光刻胶用酚醛树脂。所述光刻胶用酚醛树脂是由上述制备方法制备而得。本申请通过在酚醛树脂的结构中适当引入多羟基苯酚，提高酚醛树脂的耐热性，进而提高光刻胶的感光灵敏度、分辨率和反差，同时还可以调节酚醛树脂的碱溶解速率。
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公开(公告)号：CN113621115B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202110910693.8
申请日：2021-08-09
申请人： 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC分类号： C08G8/24
摘要： 本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种分子量高度可控的酚醛树脂及其制备方法和应用。所述制备方法包括如下步骤：制备步骤：在惰性气氛下，甲基苯酚类化合物和醛类化合物在酸性催化剂、水存在下发生反应，得到反应液；脱水脱酚步骤：首先采用水对反应液进行水洗处理并分出水相，重复水洗处理，直至所分出的水相pH=6.5~7；然后在35~80℃温度下进行干燥，得到酚醛树脂。所述分子量高度可控的酚醛树脂是由上述制备方法制备而成。所述分子量高度可控的酚醛树脂在制备光刻胶中的应用。本申请在同一反应条件下达到高度控制酚醛树脂的分子量和软化点的目的，保证酚醛树脂的分子量和软化点稳定。
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公开(公告)号：CN113621115A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202110910693.8
申请日：2021-08-09
申请人： 北京彤程创展科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
IPC分类号： C08G8/24
摘要： 本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种分子量高度可控的酚醛树脂及其制备方法和应用。所述制备方法包括如下步骤：制备步骤：在惰性气氛下，甲基苯酚类化合物和醛类化合物在酸性催化剂、水存在下发生反应，得到反应液；脱水脱酚步骤：首先采用水对反应液进行水洗处理并分出水相，重复水洗处理，直至所分出的水相pH=6.5~7；然后在35~80℃温度下进行干燥，得到酚醛树脂。所述分子量高度可控的酚醛树脂是由上述制备方法制备而成。所述分子量高度可控的酚醛树脂在制备光刻胶中的应用。本申请在同一反应条件下达到高度控制酚醛树脂的分子量和软化点的目的，保证酚醛树脂的分子量和软化点稳定。
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公开(公告)号：CN113419404B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202110731453.1
申请日：2021-06-29
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 北京科华丰园微电子科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种光刻胶组合物，属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。
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公开(公告)号：CN115616860A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211258412.6
申请日：2022-10-14
申请人： 北京科华微电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要： 本发明涉及光刻胶技术领域，尤其是涉及一种深紫外化学放大正型光刻胶组合物和图案形成方法。深紫外化学放大正型光刻胶组合物，包括如下组分：聚合物、含有苯基的化合物、光致产酸剂、含氮化合物、表面活性剂和溶剂；聚合物包括聚合物A，聚合物A具有如式(I)所示的结构：式中，R1选自甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、环戊基和环己基中的任一种；R2选自氢、甲基和乙基中的任一种；结构单元x与结构单元y的摩尔百分比为65～80mol％：20～35mol％。该光刻胶具有光刻工艺窗口大、曝光宽容度大和焦深大的特点，在无抗反射底层保护的高反射基底上光刻可获得无驻波、CD波动小和侧壁角呈直角的光刻胶图案。
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