一种光栅光谱仪像质测量方法和装置

    公开(公告)号:CN109186759B

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201811091899.7

    申请日:2018-09-19

    Abstract: 本发明公开了一种高精度光栅光谱仪像质测量方法和装置,其中所述装置包括:一个经过积分球匀化的单色光源,一个带有狭缝靶标的平行光管,一个被测成像光谱仪和一个数据处理系统。狭缝靶标由微动位移台控制可沿垂直于被测光谱仪狭缝方向平移,被测光谱仪可接收该单色光源经过狭缝靶标的信号。通过分析计算光谱仪上某一组像元光强变化和狭缝移动量的关系得到光谱仪的线扩散函数,去除狭缝靶标宽度对测试结果的影响,经过傅里叶变换解算出系统光谱方向的MTF。通过将物狭缝旋转90度扫描,可以测试空间方向的MTF。此种方法解决了成像光谱仪光谱方向的传递函数无法测试的问题,实现了成像光谱仪像质的精确测试。

    一种低温真空遥感器焦面调整机构

    公开(公告)号:CN109120921B

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201811080988.1

    申请日:2018-09-17

    Abstract: 一种低温真空遥感器焦面调整机构,包括:焦面连接工装(4)、成像连接工装(5)等;焦面连接工装(4)、成像连接工装(5)之间通过锥形弹簧(8)压紧;微精密推进器(6)安装在焦面连接工装(4)上,沿焦面连接工装(4)的周向均匀分布,微精密推进器(6)的顶针立于成像连接工装(5)的限位槽内,通过控制顶针的上下移动,调节焦面连接工装(4)、成像连接工装(5)之间的距离和夹角;每个微精密推进器(6)周围安装两组精测组件(7),两组精测组件(7)分别安装在焦面连接工装(4)、成像连接工装(5)上。本发明可以降低定焦过程中的时间、试验等成本,消除干扰测试结果的影响,实现高精度的焦面配准。

Patent Agency Ranking