集成电路封装件和方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113808960B

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202110693215.6

    申请日:2021-06-22

    Abstract: 提供了封装结构及其形成方法。一种方法包括在插件晶圆的第一面上形成第一电连接器和第二电连接器。使用第一电连接器,将集成电路管芯接合至插件晶圆的第一面。邻近集成电路管芯,将加强件结构连接至插件晶圆的第一面。在平面图中,加强件结构覆盖第二电连接器。用第一密封剂密封集成电路管芯和加强件结构。将插件晶圆和加强件结构单个化,以形成堆叠结构。本申请的实施例提供了集成电路封装件和方法。

    集成电路封装件和方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113808960A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202110693215.6

    申请日:2021-06-22

    Abstract: 提供了封装结构及其形成方法。一种方法包括在插件晶圆的第一面上形成第一电连接器和第二电连接器。使用第一电连接器,将集成电路管芯接合至插件晶圆的第一面。邻近集成电路管芯,将加强件结构连接至插件晶圆的第一面。在平面图中,加强件结构覆盖第二电连接器。用第一密封剂密封集成电路管芯和加强件结构。将插件晶圆和加强件结构单个化,以形成堆叠结构。本申请的实施例提供了集成电路封装件和方法。

    半导体器件及形成其接合结构的方法

    公开(公告)号:CN117174690A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310482967.7

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 实施例半导体器件可以包括电互连层、电耦合到电互连层的接合焊盘、包括部分地覆盖接合焊盘表面的第一膜和部分地覆盖第一膜的第二膜的堆叠膜结构,在接合焊盘的部分表面上形成在第一膜中的第一孔,形成在第二膜中使得第二孔大于第一孔并且形成在第一孔上方使得第一孔完全位于第二孔的区域下方的第二孔,以及形成为与焊盘接触的焊料材料部。焊料材料部可以包括小于第二孔的尺寸的第一宽度,使得焊料材料部不接触第二膜。本申请的实施例还公开了一种形成半导体器件的接合结构的方法。

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