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公开(公告)号:CN110875226A
公开(公告)日:2020-03-10
申请号:CN201910795673.3
申请日:2019-08-27
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/673 , H01L21/205 , C23C16/458
Abstract: 一种晶舟及使用晶舟的炉管机台以及形成膜层的方法。晶舟包含至少一支撑件、至少一组的至少一第一固定件、至少一组的至少一第二固定件以及至少一组的至少一第三固定件。支撑件沿第一方向延伸。至少一组的至少一第一固定件、至少一组的至少一第二固定件以及至少一组的至少一第三固定件,设置于支撑件上且于第一方向上依序并分开地设置。该组的第一固定件与该组的第二固定件间分隔第一间距,该组的第二固定件与该组的第三固定件间分隔第二间距,其中第一间距小于第二间距。
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公开(公告)号:CN109560013A
公开(公告)日:2019-04-02
申请号:CN201811087111.5
申请日:2018-09-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 本公开多个实施例提供一种在锅炉内加工多个半导体晶圆的方法。上述方法包括形成一薄膜在每一半导体晶圆上。上述方法还包括在形成薄膜的期间,控制锅炉的温度在一第一热模式下。在第一热模式下,锅炉中顺序排列的一第一端控温区、一中间控温区、及一第二端控温区的温度依序递增。上述方法还包括在形成薄膜之后,控制锅炉的温度在一第二热模式下。在第二热模式下,第一端控温区、中间控温区、及第二端控温区的温度依序递减。
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