公开(公告)号：CN107015446A

公开(公告)日：2017-08-04

申请号：CN201610858785.5

申请日：2016-09-28

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈庆煌 ,  林书宏 ,  吕奎亮 ,  张雅惠 ,  谢弘璋

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7076 ,  H01L22/12 ,  Y10S438/975 ,  G03F9/708

Abstract: 用于半导体制造的器件包括衬底和形成在衬底上方的层，其中，层包括对准标记。对准标记包括沿着第一方向纵向定向的多个第一纵长构件，并且该多个第一纵长构件沿着第二方向分布。对准标记还包括沿着与第一方向垂直的第三方向纵向定向的多个第二纵长构件，并且该多个第二纵长构件沿着第二方向分布，其中第二方向与第一方向和第三方向中的每一个都不同。本发明还提供了光刻对准标记。

公开(公告)号：CN113126420B

公开(公告)日：2024-12-20

申请号：CN202010355364.7

申请日：2020-04-29

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 许倍诚 ,  陈庆煌 ,  蔡虹驿 ,  陈明威 ,  连大成 ,  李信昌

IPC: G03F1/24 ,  G03F1/54

Abstract: 本公开涉及极紫外线光掩模及其制造方法。一种反射掩模包括：衬底；反射多层，设置在衬底上；帽盖层，设置在反射多层上；以及吸收体层，设置在帽盖层上。吸收体层包括第一铬基质层和第二铬基质层的一个或多个交替对，第二铬基质层不同于第一铬基质层。

公开(公告)号：CN113126420A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN202010355364.7

申请日：2020-04-29

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 许倍诚 ,  陈庆煌 ,  蔡虹驿 ,  陈明威 ,  连大成 ,  李信昌

IPC: G03F1/24 ,  G03F1/54

Abstract: 本公开涉及极紫外线光掩模及其制造方法。一种反射掩模包括：衬底；反射多层，设置在衬底上；帽盖层，设置在反射多层上；以及吸收体层，设置在帽盖层上。吸收体层包括第一铬基质层和第二铬基质层的一个或多个交替对，第二铬基质层不同于第一铬基质层。

公开(公告)号：CN112445062A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010908400.8

申请日：2020-09-02

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈庆煌 ,  孙啟元 ,  林华泰 ,  李信昌 ,  陈明威

IPC: G03F1/54 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20

Abstract: 一种反射性光罩及其制造方法，反射性光罩包括基板、设置在基板上的反射性多层、设置在反射性多层上的覆盖层、设置在覆盖层上的光催化层，及设置在光催化层上且携载具有开口的电路图案的吸收层。光催化层的部分在吸收层的开口处被曝光，且光催化层包括选自由氧化钛(TiO2)、氧化锡(SnO)、氧化锌(ZnO)及硫化镉(CdS)组成的群组的一者。

公开(公告)号：CN112445062B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202010908400.8

申请日：2020-09-02

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈庆煌 ,  孙啟元 ,  林华泰 ,  李信昌 ,  陈明威

IPC: G03F1/54 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20

Abstract: 一种反射性光罩及其制造方法，反射性光罩包括基板、设置在基板上的反射性多层、设置在反射性多层上的覆盖层、设置在覆盖层上的光催化层，及设置在光催化层上且携载具有开口的电路图案的吸收层。光催化层的部分在吸收层的开口处被曝光，且光催化层包括选自由氧化钛(TiO2)、氧化锡(SnO)、氧化锌(ZnO)及硫化镉(CdS)组成的群组的一者。

公开(公告)号：CN108227391A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201710641484.1

申请日：2017-07-31

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 林华泰 ,  杨育铨 ,  梁文达 ,  陈庆煌 ,  孙启元 ,  王士哲

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/7015

Abstract: 一种光学微影系统，包含：一基底台，用以承载一工件；以及一罩幕，具有多个主要图形与多个次解析辅助图形(sub‑resolution assistant pattern)。此系统还包含一绕射光学元件(diffractive optical element；DOE)，用以将具有上述主要图形的一空中影像(aerial image)的辐射导引至上述工件上。上述绕射光学元件包含第一对的极(pole)，上述第一对的极是沿着一第一方向而相对于上述绕射光学元件的中心为对称配置。上述主要图形是沿着正交于上述第一方向的一第二方向而纵向地定向，上述次解析辅助图形是沿着上述第一方向而纵向地定向。