清洗极紫外辐射源设备的方法及极紫外辐射源设备

    公开(公告)号:CN110653221B

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN201910560150.0

    申请日:2019-06-26

    Abstract: 一种清洗极紫外(EUV)辐射源设备的方法,其中EUV辐射源设备包括用于在腔室内生成金属靶液滴的靶液滴产生器,以及干冰喷射组件。干冰喷射组件具有设置在腔室内部的喷射喷嘴及干冰支承构件。清洗方法包括以下步骤:形成包括来自干冰喷射组件的干冰支承构件的干冰颗粒及加压气流的加压干冰颗粒,接着,将加压干冰颗粒经由喷射喷嘴朝向靶液滴产生器的喷嘴处的残余材料喷出。从靶液滴产生器去除残余材料,以及收集残余材料及来自加压干冰颗粒的升华气态二氧化碳。

    极紫外辐射光源装置及排气去除方法

    公开(公告)号:CN110658691B

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN201910537974.6

    申请日:2019-06-20

    Abstract: 一种耦合到用于处理极紫外辐射的腔室的装置,即极紫外辐射光源装置,其包括配置以将来自腔室的排气引导到燃烧区域中的气体入口。燃烧区域被配置以无焰地点燃排气。空气入口被配置以将空气和燃料的混合物引导到燃烧区域中。控制阀被配置以改变从燃烧区域排出的流体体积。控制器被配置以控制控制阀以防止燃烧区域内的压力超过预设压力值。

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