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公开(公告)号：CN114843348A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202210451632.4
申请日：2022-04-26
Applicant: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L21/308 , G03F7/20 , G03F7/16
Abstract: 本申请实施例提供了一种薄膜晶体管及其制备方法、显示面板。该薄膜晶体管包括层叠设置的栅极绝缘层、有源结构、掺杂结构和源漏极结构，有源结构包括源漏极区和沟道区，掺杂结构覆盖所述源漏极区。本申请通过掺杂结构覆盖有源结构的源漏极区，能够有效避免水波纹不良，利于提升显示面板的亮度均一性，以及利于提高显示面板的良率和品质，且采用该薄膜晶体管能够提升大尺寸高端显示产品的品质，且不需要增加额外掩膜版，可以在现有产线的基础上直接完成，降低生产成本，具有广泛的推广价值。
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公开(公告)号：CN107572152B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201710841455.X
申请日：2017-09-18
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC: B65D90/00
Abstract: 本发明提供一种液体存储装置，包括：箱体，所述箱体具有第一腔体，所述第一腔体用于存储作业液体；设置在所述箱体外部的驱动部；设置在所述箱体内部的清洗刷；所述清洗刷具有磁性，所述驱动部用于产生驱动所述清洗刷对所述第一腔体的内壁进行清洗的磁力；处理器，用于在需要对所述第一腔体清洗时，控制所述驱动部工作。本发明实施例提供的液体存储装置能够通过磁力驱动内部清洗刷对存储作业液体的腔体进行清洗，由于不需要人工操作，因此特别适合应用在操作空间狭小的设备上，具有很高的实用性。
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公开(公告)号：CN106345623A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610829242.0
申请日：2016-09-18
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC classification number: B05B1/326 , B05B1/005 , B05B1/044 , B05B1/267 , B05C5/0262 , B05B1/04 , B05B1/30 , B05B12/085 , B05B15/70
Abstract: 本发明公开了一种气液刀和气液刀的控制方法，属于机械设备领域。气液刀包括：腔体和刀头，刀头设置在腔体上；刀头设置有喷射口，喷射口与腔体的内部连通；刀头包括第一刀唇和第二刀唇；腔体由滑动连接的第一壁板和第二壁板构成，第一壁板相对第二壁板滑动时，带动第一刀唇相对第二刀唇移动，并改变第一内壁与第二内壁的最小距离。本发明通过两个刀唇的内壁来形成喷射口，且使这两个刀唇能够发生相对移动来改变两个刀唇的内壁的最小距离，解决了相关技术中通过贴覆垫片来调节喷射口的宽度时，会由于垫片厚度上存在误差以及贴覆时的紧密程度造成喷射口宽度的误差较大的问题，达到了喷射口的宽度的调节误差较低的效果。
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公开(公告)号：CN103316862B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201310293522.0
申请日：2013-07-12
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种基板清洗装置，包括内部具有清洗室的壳体；枢装于壳体、且沿基板移动方向并排分布的多个喷淋管道，每一个喷淋管道具有将喷淋管道内的液体导向基板被清洁面的若干个喷液口，每一个喷淋管道的一端具有与其同轴固定的传动齿轮；通过传动齿轮驱动喷淋管道同频率往复转动的驱动系统，其中一部分喷淋管道的往复转动方向与另一部分喷淋管道的往复转动方向相反。本发明提供的基板清洗装置能够保证对基板移动速度影响较小的前提下，提高对基板表面的清洁效果。
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公开(公告)号：CN103149760B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201310053580.6
申请日：2013-02-19
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L27/02 , H01L29/786 , H01L21/77
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/136209 , G02F1/1368 , G02F2001/13685 , G09G3/36 , H01L21/02271 , H01L21/0273 , H01L21/2855 , H01L21/28556 , H01L21/3081 , H01L27/1214 , H01L27/1218 , H01L27/124 , H01L29/78633
Abstract: 本发明实施例提供一种薄膜晶体管阵列基板、制造方法及显示装置，涉及液晶显示技术领域，解决了现有的薄膜晶体管阵列基板遮光处理差的问题。本发明实施例中，由于设有黑矩阵及顶栅型薄膜晶体管，黑矩阵设置在衬底与顶栅型薄膜晶体管的半导体层之间，能够遮挡住背光源射向半导体层的光线，避免了光线对半导体层照射产生的影响，提高了遮光处理效果，从而提高了液晶显示器的显示效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103149760A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310053580.6
申请日：2013-02-19
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L27/02 , H01L29/786 , H01L21/77
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F1/136209 , G02F1/1368 , G02F2001/13685 , G09G3/36 , H01L21/02271 , H01L21/0273 , H01L21/2855 , H01L21/28556 , H01L21/3081 , H01L27/1214 , H01L27/1218 , H01L27/124 , H01L29/78633
Abstract: 本发明实施例提供一种薄膜晶体管阵列基板、制造方法及显示装置，涉及液晶显示技术领域，解决了现有的薄膜晶体管阵列基板遮光处理差的问题。本发明实施例中，由于设有黑矩阵及顶栅型薄膜晶体管，黑矩阵设置在衬底与顶栅型薄膜晶体管的半导体层之间，能够遮挡住背光源射向半导体层的光线，避免了光线对半导体层照射产生的影响，提高了遮光处理效果，从而提高了液晶显示器的显示效果。
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公开(公告)号：CN103316862A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310293522.0
申请日：2013-07-12
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种基板清洗装置，包括内部具有清洗室的壳体；枢装于壳体、且沿基板移动方向并排分布的多个喷淋管道，每一个喷淋管道具有将喷淋管道内的液体导向基板被清洁面的若干个喷液口，每一个喷淋管道的一端具有与其同轴固定的传动齿轮；通过传动齿轮驱动喷淋管道同频率往复转动的驱动系统，其中一部分喷淋管道的往复转动方向与另一部分喷淋管道的往复转动方向相反。本发明提供的基板清洗装置能够保证对基板移动速度影响较小的前提下，提高对基板表面的清洁效果。
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公开(公告)号：CN106345623B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201610829242.0
申请日：2016-09-18
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种气液刀和气液刀的控制方法，属于机械设备领域。气液刀包括：腔体和刀头，刀头设置在腔体上；刀头设置有喷射口，喷射口与腔体的内部连通；刀头包括第一刀唇和第二刀唇；腔体由滑动连接的第一壁板和第二壁板构成，第一壁板相对第二壁板滑动时，带动第一刀唇相对第二刀唇移动，并改变第一内壁与第二内壁的最小距离。本发明通过两个刀唇的内壁来形成喷射口，且使这两个刀唇能够发生相对移动来改变两个刀唇的内壁的最小距离，解决了相关技术中通过贴覆垫片来调节喷射口的宽度时，会由于垫片厚度上存在误差以及贴覆时的紧密程度造成喷射口宽度的误差较大的问题，达到了喷射口的宽度的调节误差较低的效果。
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公开(公告)号：CN107572152A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710841455.X
申请日：2017-09-18
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC: B65D90/00
Abstract: 本发明提供一种液体存储装置，包括：箱体，所述箱体具有第一腔体，所述第一腔体用于存储作业液体；设置在所述箱体外部的驱动部；设置在所述箱体内部的清洗刷；所述清洗刷具有磁性，所述驱动部用于产生驱动所述清洗刷对所述第一腔体的内壁进行清洗的磁力；处理器，用于在需要对所述第一腔体清洗时，控制所述驱动部工作。本发明实施例提供的液体存储装置能够通过磁力驱动内部清洗刷对存储作业液体的腔体进行清洗，由于不需要人工操作，因此特别适合应用在操作空间狭小的设备上，具有很高的实用性。
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公开(公告)号：CN203242607U
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201320276243.9
申请日：2013-05-20
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本实用新型公开了一种导向轮、基板传送装置及基板加工设备，其中上述基板传送装置的导向轮，包括支撑杆、内环体、以及外环体，外环体可绕其轴线旋转地套设于内环体外围；内环体可沿其轴线延伸方向滑动地套设于支撑杆的外围，支撑杆与内环体之间具有锁定支撑杆与内环体相对位置的锁止机构。上述导向轮，其外环体与基板接触的部分磨损之后，可以沿内环体的轴线延伸方向滑动上述内环体，调节内环体与支撑杆之间的位置，将外环体已磨损的部位移开，将未与基板接触的部分调节至与基板接触的位置，然后通过锁止结构锁定内环体与支撑杆之间的相对位置，从而保证导向轮可以继续使用。所以，上述导向轮中外环体的利用率较高，导向轮的使用寿命较长。
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