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公开(公告)号：CN114425788B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202111562073.6
申请日：2021-12-20
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于导向磁标的平面定位装置及其定位方法。该装置包括非磁性样品板和机械臂，非磁性样品板上设有起始位和样品位，起始位和样品位之间、样品位与样品位之间设有导向磁标，机械臂上设有磁传感器。该定位方法中，机械臂通过磁传感器感应导向磁标的磁场方向，进行导向运动以及样品位的定位。本发明的有益效果：无需昂贵的伺服系统和位置、角度传感、视觉定位识别系统，即实现了平面物品位的定位；机械臂无需事先预知每个位置的坐标点，能够较快速的自动搜寻和定位；以极低成本实现了识别位置“编号”的功能。
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公开(公告)号：CN116105635A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202211683218.2
申请日：2022-12-27
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种基于材料表明纹理特征的移动精密测量方法及装置，方法包括：低分辨率图像传感器实时输出转轴的位移参数，基于位移参数进行速度判定，在达到满足高分辨率清晰成像速度后，高分辨率图像传感器开始对转轴进行拍摄，获取高分辨率图像；从高分辨率图像中提取待分析区域；计算待分析区域的不变矩以及其区域特征点在高分辨率图像上的空间坐标；基于空间坐标与预先存储的位置数据进行比较，获得区域特征点的偏移值，经修正后，即获得区域特征点的绝对位置参数。本发明直接使用转轴表面形成的自然纹理，无需使用额外且昂贵的光栅器件，同时省去了光栅安装和调试的过程，尤其对于大直径轴，使用便捷。
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公开(公告)号：CN103838080A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410124352.8
申请日：2014-03-31
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 一种微小图形制备方法：在基材表面涂覆感光面，感光面上方设置微透镜阵列，微透镜阵列上方设置微小图形掩模，掩模上方设置紫外灯光源；当紫外灯开启时，通过对掩模图形的缩小曝光实现感光面的嵌套光刻，最后取出涂覆感光面的基片显影获得所需微小结构，本发明可以实现微小图形及大面积结构的制作。
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公开(公告)号：CN117800279A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202311872621.4
申请日：2023-12-29
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种MEMS压敏芯片及其制备方法，芯片包括从上至下依次布置的第一至第六基底，第一基底保护芯片的顶部，第二基底通过金属互联引线与压阻器的欧姆接触区进行电学导通构成惠斯通电桥压阻电路，两组压敏电阻条基于MEMS压敏芯片的中心对称排布于半岛‑弧边梁结构中半岛区域上的应力集中区域内，第五基底的上表面与感压膜结构相连，设置于第五基底中间的孔岛结构的下方及四周均为空腔结构，支撑表框设置于第五基底的四周，支撑表框的上方连接感压膜结构，支撑表框的下方连接第六基底的玻璃基座，第六基底通过贴片胶与外壳固定。通过惠斯通电桥的敏感电阻将压力信号转换为电压信号实现对压力的测量。
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公开(公告)号：CN114418102A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111560795.8
申请日：2021-12-20
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种类生物体机器概率决策算法，按照行为决策、参数调整、动作执行的顺序进行，重复运行，每一个完整动作序列称为一个执行周期；在参数调整中，对于每种行为，每被执行一次，其发生概率下降a％；如果该行为在当前周期选中执行，则a会增加；如果该行为没有在当前周期选中执行，则a会衰减。本发明的有益效果：约束条件能够通过若干参数定义和限定，参数具有一定的意思，便于人类快速掌握调参原理；算法应具有一定的自学习能力，能够根据所出环境和应用场景，在人工限定约束的基础上，动态优化行为决策。
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公开(公告)号：CN114413946A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111561901.4
申请日：2021-12-20
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
IPC分类号： G01D5/347
摘要： 本发明公开了一种亮度定位的码盘及其编码器。该码盘包括码道，码道为环形区域，码道通过分割线分为两个区域，一个区域为暗色区域，另一个区域为亮色区域；绝对角度值为a，对应分割线距离码盘的圆心距离为r，r＝r0+a*/360°，其中r0为码道内圆半径，r1为码道外圆半径。一种包括上述的码盘的编码器，包括照明光源，照明光源与码盘相对，码盘与光强传感器相对，照明光源与光强传感器之间设有遮光阻隔。本发明的有益效果：使用黑白双色，在普通印刷打印设备上即可制作码盘；专门设计的码盘图案，仅靠黑白双色图案即实现了与绝对位置相关的连续灰度光强分布，实现了绝对式定位；采用反射式光强检测，读数头安装容许误差极为宽泛，便于产品批量生产。
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公开(公告)号：CN105467750B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201510924839.9
申请日：2015-12-11
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 一种基于微棱镜阵列的微结构成形方法：（1）在基底表面涂覆光刻胶；（2）将基底的光刻胶面放置于微棱镜阵列下方；（3）利用准直后的激光光源作为曝光光源照射微棱镜阵列；（4）在曝光过程中，移动微棱镜阵列或移动涂覆有光刻胶的基片，对抗蚀剂表面光强的连续调制；（5）取出基片进行显影，获得需要的局域干涉光刻微结构。本发明不需要大型设备制备光刻掩膜，大大降低了工艺的复杂程度。
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公开(公告)号：CN103809226A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201410067874.9
申请日：2014-02-27
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
发明人： 张宜文
摘要： 浸润刻蚀微透镜成形方法，在基底材料表面蒸镀牺牲层，再在牺牲层表面涂敷光刻胶，然后确定微透镜在基片表面的位置，如果微透镜非紧密排布则采用光刻方法去除微透镜口径范围以外的光刻胶，如果微透镜紧密排布，则取微透镜最底部横向若干微米的范围作为开孔，并去除该开孔范围内的光刻胶；采用辅刻蚀液去除光刻胶去除后暴露出的牺牲层，将主刻蚀液和辅刻蚀液按比例混合，再将牺牲层和光刻胶部分去除后的结构放置在混合液中腐蚀，当牺牲层材料被辅刻蚀液侧向腐蚀完后，取出元件清洗，烘干即得到需要的元件。本发明既避免了干法刻蚀对元件的污染，又降低了成本，可用于各种金属及半导体材料材质的各种浮雕深度的高抗损伤连续表面微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN109217554B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN201811407038.5
申请日：2018-11-23
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种线性模组闭环系统及其控制方法，该闭环系统包括滚珠丝杆、滑块、电机架、步进电机、光栅编码器和控制器，滑块安装在滚珠丝杆上，步进电机固定在机架上，步进电机的转轴的一端与滚珠丝杆连接，光栅编码器与步进电机的转轴的另一端连接，控制器与步进电机和光栅编码器均具有信号连接。本发明在现有的线性模组(由步进电机和模组的组合)基础上添加一个光栅编码器构成闭环的线性模组，实现线性模组的精度可控性。
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公开(公告)号：CN115902934A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211647459.1
申请日：2022-12-21
申请人： 四川云盾光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及光学探测设备技术领域，具体公开了一种能够实现图形成像和测距的光学探测系统及探测方法；其中，光学探测系统包括光收集系统、激光测距系统、红外成像系统、移动反射组件，移动反射组件位于光收集系统与红外成像系统之间且做进入或脱离光收集系统与红外成像系统所形成光路的运动。以及公开了探测方法，具体包括以下步骤：可见光成像系统与红外成像系统，进行目标搜索和识别；识别到目标后，移动反射镜向光路移动，进入光路；移动反射镜将光线反射到激光测距系统进行测距，获得距离信息；测距结束后，移动反射镜脱离光路。本发明能够有效的实现可见光和红外波段成像，并能够同时实现测距，测距精度高；结构简单、实用性强。
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