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公开(公告)号：CN101156109A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200680011107.X
申请日：2006-02-22
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
摘要： 本发明提供一种可以通过减轻在图案形成材料的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均，来高精细而且有效地形成所述图案的图案形成方法。所以，本发明提供一种图案形成方法，其特征在于，在被处理基体上层叠在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层之后，相对于对该感光层，使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及具有n个排列成二维状的描绘部的光调制机构且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，所述方法包括：对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，指定用于N重曝光的所述描绘部的工序；对于所述曝光头，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制的工序；相对于所述感光层，使所述曝光头沿扫描方向相对地移动，从而进行曝光的工序。
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公开(公告)号：CN1721996A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510078177.4
申请日：2005-06-16
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H04N1/19 , B41J2/465 , H04N1/00734 , H04N1/00745 , H04N1/1008 , H04N1/1906 , H04N1/193 , H04N1/1933 , H04N1/195 , H04N1/19573 , H04N2201/0436
摘要： 一种多重描绘形式的描绘装置以及描绘方法。装入曝光装置(描绘装置)的各曝光头(30)的矩形的二维像素阵列，以相对扫描方向成规定的设定倾斜角度的方式，相对感光材料(12)的感光面安装。与各像素阵列的中心附近的像素列相对应的代表光点列的曝光面上的实际倾斜角度，是通过缝隙和光检测器的组进行测定。根据测定的实际倾斜角度，代表光点列附近的区域中，以进行将曝光的冗长或者不足抑制到最小限度的接近理想的多重曝光的方式，选择像素阵列上的使用像素。仅实际动作选择的使用像素，将各曝光头(30)相对移动载物台(14)移动的同时，进行曝光处理。由此，可以减轻由描绘头的安装角度误差以及图形变形引起的清晰度或者浓度的不均匀。
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公开(公告)号：CN101218542A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680019409.1
申请日：2006-05-24
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
摘要： 本发明提供一种曝光方法及装置，使多个曝光头相对于曝光面沿规定的扫描方向相对地移动，从而在曝光面上曝光图像，其曝光合适的图像而不产生每个曝光头的图像的偏离。使用在各曝光头3021、3012上预先设定的基准微反射镜r21、r12，在曝光面上形成各曝光头3021、3012的基准点rp21、rp12，并且控制基于各曝光头2021、3012的曝光时刻，以使每个曝光头3012、3012的基准点rp21、rp12排列在基准线RL上。
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公开(公告)号：CN101156110A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200680011134.7
申请日：2006-03-30
申请人： 富士胶片株式会社
发明人： 古和田一辉
IPC分类号： G03F7/207
摘要： 当从投影头(10)到感光材料(1)的投影距离(Fz)和聚焦位置(Pz)中的一个改变时，相同的测试图像图案(Gk)通过投影头(10)投影到基板(2)上的感光材料(1)的不同区域(R)上。因此，将感光材料(1)的每个区域(R)曝光。显影已经曝光的感光材料(1)。然后，根据与感光材料(1)已经通过显影被从基板(2)去除的区域相对应的投影距离(Fz)或聚焦位置(Pz)、以及与感光材料(1)通过显影没有从基板(2)去除的区域相对应的投影距离(Fz)或聚焦位置(Pz)之间的关系获得投影头(10)的聚焦位置。
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公开(公告)号：CN101223481A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680025418.1
申请日：2006-07-06
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G02F1/1333 , G02F1/13 , H01L21/027
CPC分类号： G02F1/13394 , G02F1/133707 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/70791
摘要： 本发明提供：在不使用光掩模的情况下，通过减小在光敏层的曝光表面上形成的图案的分辨率的变化和密度的不均匀性制备内单元结构的方法；通过上述方法制备的精细内单元结构；以及使用该内单元结构的显示器。所述用于制备内单元结构的方法包括通过指定用于N多次曝光的像素部分，使用曝光头将光敏层曝光，控制所述像素部分使得只有被指定的像素部分参与曝光，并且使所述曝光头朝扫描方向相对移动；以及将曝光的光敏层显影，其中安置所述曝光头使得所述像素部分的列方向具有相对于曝光头的扫描方向的倾斜安装角。
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公开(公告)号：CN101189557A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019820.9
申请日：2006-06-08
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70425 , H05K3/0082
摘要： 本发明提供一种可以通过平均图案偏斜引起的曝光量不均的影响从而抑制成像于感光层上的像的变形，来高精细而且有效地形成永久图案的永久图案形成方法。所以，本发明提供一种永久图案形成方法，其中，使用感光性组合物，在基材的表面形成感光层，然后使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及光调制机构的曝光头且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，相对于对该感光层，指定用于N重曝光(其中，N为2以上的整数)的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制，使得只有被指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头向扫描方向相对地移动，从而进行曝光、显影。
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