公开(公告)号：CN116218615A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202310178643.4

申请日：2016-07-14

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： 杉岛泰雄 ,  朴起永 ,  T·多瑞

IPC分类号： C11D7/08 ,  H01L21/02 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C11D7/60

摘要： 本公开涉及主要用于在多步骤制造工艺中作为中间步骤的从半导体衬底去除残留物(例如，等离子体蚀刻残留物和/或等离子体灰化残留物)和/或金属氧化物的无腐蚀性清洁组合物。

公开(公告)号：CN105873691B

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201480066376.0

申请日：2014-12-03

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： 高桥智威 ,  杜冰 ,  W·A·沃伊特恰克 ,  T·多瑞 ,  E·A·克内尔

IPC分类号： B08B3/04 ,  C11D7/60

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/0073 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5022 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31133

摘要： 本发明涉及一种清洗组合物，其含有：1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种第一螯合剂，该第一螯合剂为聚氨基聚羧酸；3)至少一种第二螯合剂，其不同于第一螯合剂，该第二螯合剂含有至少两个含氮基团；4)至少一种金属腐蚀抑制剂，该金属腐蚀抑制剂为经取代或未经取代的苯并三唑；5)至少一种有机溶剂，其选自水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、和水溶性醚；6)水；和7)任选地，至少一种pH调节剂，该pH调节剂是无金属离子的碱。本发明也涉及使用上述组合物清洗半导体基板的方法。

公开(公告)号：CN105849245A

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201480068420.1

申请日：2014-09-15

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： T·多瑞 ,  杜冰 ,  高桥智威 ,  E·A·克内尔

IPC分类号： C11D7/60

摘要： 本公开涉及清洗组合物，其含有：1)至少一种螯合剂，所述螯合剂为聚氨基聚羧酸；2)至少一种有机溶剂，所述有机溶剂选自水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯以及水溶性醚；3)至少一种单羧酸，其含有伯氨基或仲氨基、和至少一个额外含氮碱基；4)至少一种金属腐蚀抑制剂，所述金属腐蚀抑制剂是被取代或未被取代的苯并三唑；以及5)水。本公开还涉及一种使用上述组合物来清洗半导体基板的方法。

公开(公告)号：CN115044375A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202210464158.9

申请日：2015-03-17

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： T·多瑞 ,  E·A·克内尔 ,  高桥智威

IPC分类号： C09K13/00 ,  C23F1/10 ,  C23F1/40 ,  C23F1/44 ,  H01L21/3213

摘要： 本发明涉及一种蚀刻组合物，其含有1)至少一种氧化剂；2)至少一种螯合剂；3)至少一种金属腐蚀抑制剂；4)至少一种有机溶剂；5)至少一种脒碱；及6)水。

公开(公告)号：CN105849245B

公开(公告)日：2020-03-13

申请号：CN201480068420.1

申请日：2014-09-15

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： T·多瑞 ,  杜冰 ,  高桥智威 ,  E·A·克内尔

IPC分类号： C11D7/60

摘要： 本公开涉及清洗组合物，其含有：1)至少一种螯合剂，所述螯合剂为聚氨基聚羧酸；2)至少一种有机溶剂，所述有机溶剂选自水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯以及水溶性醚；3)至少一种单羧酸，其含有伯氨基或仲氨基、和至少一个额外含氮碱基；4)至少一种金属腐蚀抑制剂，所述金属腐蚀抑制剂是被取代或未被取代的苯并三唑；以及5)水。本公开还涉及一种使用上述组合物来清洗半导体基板的方法。

公开(公告)号：CN109790028A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780062080.5

申请日：2017-10-05

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： 朴起永 ,  E·A·克内尔 ,  T·多瑞 ,  高桥智威

IPC分类号： C01B21/14 ,  C11D3/30 ,  C11D7/50

CPC分类号： C11D7/20 ,  C11D3/0042 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/261 ,  C11D7/263 ,  C11D7/264 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02063

摘要： 本发明关于清洁组合物，其含有1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种有机溶剂，其选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯、及水溶性醚所组成的组；3)至少一种含金属的添加剂；及4)水。

公开(公告)号：CN110997643B

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN201880053404.3

申请日：2018-08-21

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： T·多瑞 ,  E·A·克内尔 ,  上村哲也

IPC分类号： C07D253/04 ,  C07D253/06 ,  C08K5/3492

摘要： 本发明涉及非腐蚀性清洁组合物，可用于例如作为多步制造工艺中的中间步骤，从半导体衬底上去除残余物(例如，等离子体蚀刻残余物和/或等离子体灰化残余物)和/或金属氧化物。

公开(公告)号：CN110475845B

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN201880020378.4

申请日：2018-03-16

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： J·G·麦卡平 ,  T·多瑞

IPC分类号： C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D7/50

摘要： 本公开关于清洁组合物，其含有1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种水溶性有机溶剂；3)至少一种含金属添加剂；4)至少一种环胺，及5)水。

公开(公告)号：CN107850859B

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN201580077213.7

申请日：2015-12-28

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： 杜冰 ,  T·多瑞 ,  W·A·沃伊特恰克

IPC分类号： G03F7/32

摘要： 本公开涉及光阻剂剥离组合物，其包括：1)至少一种水溶性极性非质子有机溶剂；2)至少一种醇溶剂；3)至少一种季铵氢氧化物；4)水；5)至少一种选自6‑取代‑2,4‑二氨基‑1,3,5‑三嗪的铜腐蚀抑制剂；和6)任选地，至少一种消泡剂。

公开(公告)号：CN110475845A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201880020378.4

申请日：2018-03-16

申请人： 富士胶片电子材料美国有限公司

发明人： J·G·麦卡平 ,  T·多瑞

IPC分类号： C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/33 ,  C11D7/50

摘要： 本公开关于清洁组合物，其含有1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种水溶性有机溶剂；3)至少一种含金属添加剂；4)至少一种环胺，及5)水。