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公开(公告)号：CN102626525A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210086231.X
申请日：2012-03-27
摘要： 一种人工髋关节摩擦副表面膜层及其制备方法。特征是依次由基材(1)；金属层(2)；金属氮化物层(3)；金属碳氮化物层(4)；金属碳化物层(5)和掺金属类金刚石层(6)构成。制备方法依次包括离子束清洗基材，沉积金属层、金属氮化物层、金属碳氮化物层、金属碳化物层和掺金属类金刚石层。本发明的人工髋关节摩擦副表面膜层大幅度地降低摩擦副球头和髋臼的摩擦系数，减少金属基体的磨损和金属离子的释放，提高人工髋关节的寿命，解决人工髋关节存在的关节头臼磨损和磨屑导致的关节植入失效问题。模拟人体环境试验结果表明，该人工髋关节具有优异的化学惰性和生物相容性，在人体中无不良组织反应和过敏反应，安全性高。
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公开(公告)号：CN103247742A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310140041.6
申请日：2013-04-22
申请人： 广州有色金属研究院
CPC分类号： H01L2224/48091 , H01L2924/00014
摘要： 一种LED散热基板及其制造方法，包括由金刚石-铜合金材料制成的基板主体，在基板主体上开设有凹槽，在凹槽内镶嵌有金刚石片，在金刚石片的上表面设有电极导线区和用于连接LED芯片的芯片连接层。本发明由于采用了将金刚石片与金刚石-铜合金材料制成的基板主体结合成LED散热基板的结构，有效地避免了现有的LED散热器因引入绝缘层而存在的散热瓶颈的问题，而且将金刚石片紧密地镶嵌在基板主体上开设的凹槽内，增加了金刚石片与基板主体的接触面积，使LED芯片传到金刚石片上的热量能快速地传导出去，同时金刚石片与基板主体、LED芯片与金刚石片分别通过钎焊的方式连接为一体，能够获得致密的合金界面，使界面的热导率高。
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公开(公告)号：CN102586735A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210072931.3
申请日：2012-03-16
申请人： 广州有色金属研究院
摘要： 一种无氢掺硅类金刚石膜层。其特征是依次由基体(1)；金属层(2)；金属碳化物层(3)；掺硅类金刚石膜层(4)构成。制备方法是采用直流磁控溅射石墨靶、中频磁控溅射碳化硅靶或硅靶以及离子源辅助沉积，依次氩离子清洗基体；沉积金属层和金属碳化物层；沉积无氢掺硅类金刚石膜层。与现有技术相比，本发明方法所制备的膜层具有摩擦系数和磨损率低、膜层质量好的特点。本发明膜层制备工艺简单，重复性好，可制备出不同含硅量的无氢掺硅类金刚石膜层，能满足湿度变化等特定环境下精密仪器传动部件精度的要求，提高其使用的精度、灵敏度和可靠性，适用于超集成电路、医用器械、光学元件、雷达、航空飞行器等。
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公开(公告)号：CN104193420B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201410333087.4
申请日：2014-07-14
IPC分类号： B32B9/00
摘要： 一种碳/碳复合材料多层涂层及其制备方法。所述多层涂层依次由在碳/碳复合材料基体上的SiC底层、SiC过渡层和陶瓷层/SiC层交替层构成。所述的碳/碳复合材料多层涂层的制备方法是SiC底层的制备方法为刷涂法、喷涂法或磁控溅射法。SiC过渡层和陶瓷层/SiC层交替层的制备依次方法为：将带有SiC底层的碳/碳复合材料用丙酮超声清洗，烘干；采用离子源溅射清洗；采用磁控溅射法制备SiC过渡层和陶瓷层/SiC层交替层。本发明制备的多层涂层在1500℃下具有良好的抗氧化性能和抗热震性能。本发明的制备方法具有厚度可控的特点，制备的涂层厚度均匀性好。
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公开(公告)号：CN103247742B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201310140041.6
申请日：2013-04-22
申请人： 广州有色金属研究院
CPC分类号： H01L2224/48091 , H01L2924/00014
摘要： 一种LED散热基板及其制造方法，包括由金刚石-铜合金材料制成的基板主体，在基板主体上开设有凹槽，在凹槽内镶嵌有金刚石片，在金刚石片的上表面设有电极导线区和用于连接LED芯片的芯片连接层。本发明由于采用了将金刚石片与金刚石-铜合金材料制成的基板主体结合成LED散热基板的结构，有效地避免了现有的LED散热器因引入绝缘层而存在的散热瓶颈的问题，而且将金刚石片紧密地镶嵌在基板主体上开设的凹槽内，增加了金刚石片与基板主体的接触面积，使LED芯片传到金刚石片上的热量能快速地传导出去，同时金刚石片与基板主体、LED芯片与金刚石片分别通过钎焊的方式连接为一体，能够获得致密的合金界面，使界面的热导率高。
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公开(公告)号：CN104087936A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410332681.1
申请日：2014-07-14
IPC分类号： C23C28/04
摘要： 一种碳基复合材料抗烧蚀涂层的制备方法，其特征是步骤如下：将碳基复合材料表面用砂纸打磨掉表面的毛刺，用丙酮超声清洗后烘烤，将烘干后的碳基复合材料放入真空室，压力＜5×10-3Pa，通入Ar气至2～4×10-1Pa，用离子源结合偏压轰击清洗碳基复合材料表面；在氩气环境，气压0.2～2.0Pa，偏压50～200V，SiC靶功率4～12A/cm2，制备SiC层；以ZrB2-MoSi2粉末为热喷涂材料，喷涂电压60～70V，喷涂压力10～100kPa，喷涂电流600～700A，氩气流量35～45l/min，氢气流量为5～15l/min，送粉末的氩气流量2～4l/min，粉末流量5～30g/min，喷涂距离100～300mm，制备ZrB2-MoSi2涂层。本发明的涂层具有结合强度高、抗冲刷性能优良、对碳基复合材料高温防护效果显著的特点。
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公开(公告)号：CN102586735B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201210072931.3
申请日：2012-03-16
申请人： 广州有色金属研究院
摘要： 一种无氢掺硅类金刚石膜层。其特征是依次由基体(1)；金属层(2)；金属碳化物层(3)；掺硅类金刚石膜层(4)构成。制备方法是采用直流磁控溅射石墨靶、中频磁控溅射碳化硅靶或硅靶以及离子源辅助沉积，依次氩离子清洗基体；沉积金属层和金属碳化物层；沉积无氢掺硅类金刚石膜层。与现有技术相比，本发明方法所制备的膜层具有摩擦系数和磨损率低、膜层质量好的特点。本发明膜层制备工艺简单，重复性好，可制备出不同含硅量的无氢掺硅类金刚石膜层，能满足湿度变化等特定环境下精密仪器传动部件精度的要求，提高其使用的精度、灵敏度和可靠性，适用于超集成电路、医用器械、光学元件、雷达、航空飞行器等。
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公开(公告)号：CN102517554A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110455531.6
申请日：2011-12-29
申请人： 广州有色金属研究院
摘要： 一种AZO膜层室温沉积方法。其特征是由以下步骤组成：(1)将衬底进行超声波清洗、烘干后放入真空室中，本底真空度小于4.0×10-3Pa，在室温，工件转速0～2rpm，气压0.2～0.5Pa，离子源300～500W和负偏压300～800V下，用Ar离子轰击清洗衬底5～20min；(2)中频磁控溅射沉积AZO膜层，Ar气压为0.1～0.5Pa，离子源功率为30～100W，负偏压为0～100V，AZO陶瓷靶功率为3～8W/cm2，沉积时间为5～10min。本发明采用中频磁控溅射结合离子源辅助技术，在室温条件下沉积AZO透明导电膜层。本发明的方法清洁环保，对人体无害，工艺简单，成本低，可以实现大面积工业化生产。
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公开(公告)号：CN103866241B
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201410063647.9
申请日：2014-02-25
摘要： 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置，主要由真空室、热蒸发装置、磁控溅射装置、离子轰击或偏压系统、鼠笼式自公转行星工件架和加热器构成。本发明既能实现离子辅助热蒸发复合磁控溅射沉积薄膜，也能实现单一的离子辅助热蒸发或磁控溅射沉积薄膜；采用离子轰击或偏压系统进一步提高膜基结合力和薄膜质量；采用鼠笼式自公转行星工件架结构，实现所镀工件在炉内三维转动，可保证工件表面膜层厚度均匀；且既保证被处理工件的批量化生产，实现工作表面100%覆盖涂层，又能保证膜层的质量，具有生产效率和自动化控制程度高，工艺可重复性好，易操作等优点，可广泛应用于钕铁硼永磁材料、高强钢紧固件及钛合金紧固件等材料的表面防护涂层处理。
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公开(公告)号：CN103866241A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201410063647.9
申请日：2014-02-25
摘要： 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置，主要由真空室、热蒸发装置、磁控溅射装置、离子轰击或偏压系统、鼠笼式自公转行星工件架和加热器构成。本发明既能实现离子辅助热蒸发复合磁控溅射沉积薄膜，也能实现单一的离子辅助热蒸发或磁控溅射沉积薄膜；采用离子轰击或偏压系统进一步提高膜基结合力和薄膜质量；采用鼠笼式自公转行星工件架结构，实现所镀工件在炉内三维转动，可保证工件表面膜层厚度均匀；且既保证被处理工件的批量化生产，实现工作表面100%覆盖涂层，又能保证膜层的质量，具有生产效率和自动化控制程度高，工艺可重复性好，易操作等优点，可广泛应用于钕铁硼永磁材料、高强钢紧固件及钛合金紧固件等材料的表面防护涂层处理。
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