公开(公告)号：CN118103546A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202280070043.X

申请日：2022-10-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 布赖恩·海斯·伯罗斯 ,  塞卡尔·克里希纳萨米 ,  阿亚纳古达·拉拉维 ,  莫妮卡·穆达尔卡 ,  戈文德拉·德赛 ,  希曼塔·库马尔·拉朱 ,  巴萨瓦拉吉·帕坦谢蒂 ,  戴维·马萨尤基·石川 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  施里坎特·斯瓦米纳坦 ,  马里奥·坎布朗 ,  罗伯特·纳瓦斯卡 ,  王苗君 ,  乔纳森·弗兰克尔

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  B01J19/00 ,  B01J3/02 ,  B01J4/00

Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器，所述反应器包括可旋转反应器组件，所述可旋转反应器组件包括滚筒、入口管和出口管、静态气体入口管线、静态气体出口管线和马达，所述滚筒被配置成保持多个待涂覆颗粒，所述静态气体入口管线通过旋转入口密封件耦接至入口管，所述静态气体出口管线通过旋转出口密封件耦接至出口管，所述马达用于旋转可旋转反应器组件。

公开(公告)号：CN101896995B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200880120627.3

申请日：2008-12-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 曾明贵(迈克尔) ,  诺曼·塔姆 ,  横田义孝 ,  阿古斯·查德拉 ,  罗伯特·纳瓦斯卡 ,  梅德赫拉恩·贝赫贾特 ,  森德·拉马默蒂 ,  凯达尔纳什·桑格姆 ,  亚历山大·N·勒纳

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67115 ,  F27D7/06 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67098

Abstract: 本发明的实施例提供用于改善热处理期间的气体分布的设备及方法。本发明的一个实施例提供一种用于处理基板的设备，该设备包括：腔室主体，该腔室主体界定一处理容积；基板支撑件，该基板支撑件设置于该处理容积中，其中该基板支撑件配置以支撑并旋转该基板；气体入口组件，该气体入口组件耦接至该腔室主体的入口，并配置以提供第一气流至该处理容积；以及排气组件，该排气组件耦接至该腔室主体的出口，其中该气体入口组件及该排气组件设置在该腔室主体的相对侧，且该排气组件界定配置以延伸该处理容积的排气容积。