冷喷装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113631757A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN201980094774.6

    申请日:2019-03-29

    Abstract: 至少具备:基座(45),其以预定的姿势载置气缸盖(12);底板(26),其配置到与气缸盖分开的位置;旋转部件(29),其使底板以旋转轴线(C)为中心旋转;喷枪(23),其以喷射方向朝向旋转轴线的方式安装固定到底板;高压配管(21b),其向喷枪引导工作气体;以及旋转接头(21k),其设置到所述高压配管的基端,高压配管沿着旋转轴线布置。

    珩磨方法和珩磨控制装置

    公开(公告)号:CN101318310B

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200810110640.2

    申请日:2008-06-06

    Abstract: 提供了一种珩磨方法和珩磨控制装置,其适于珩磨大的加工区域。该珩磨控制装置包括用于布置在工件的加工孔中的磨具和扩张构件。通过将珩磨头插入到具有与标准规的目标加工直径相同尺寸的标准孔中,而将当经由扩张构件使磨具与标准孔的内表面接触时的扩张移动量存储为目标扩张量。然后,通过将珩磨头插入工件的加工孔中、由安装在珩磨头内的扩张构件使磨具向径向外侧移动、从而转动珩磨头来执行对加工孔的内表面的珩磨。当磨具的扩张移动量达到由标准规建立的目标扩张量时,珩磨完成。

    成膜方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113631755B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN201980094711.0

    申请日:2019-03-29

    Abstract: 一种成膜方法,在该成膜方法中,一边使具有不相互连续的多个被成膜部(16c)的工件(3)和冷喷装置(2)的喷嘴(23d)沿着由相对于所述多个被成膜部的轨迹(T)和连结该相对于多个被成膜部的轨迹(T)的连接轨迹(CT)构成的连续的移动轨迹(MT)相对地移动,一边从所述喷嘴连续地喷射原料粉末,利用冷喷法向所述多个被成膜部分别喷射原料粉末而形成覆膜,其中,将所述移动轨迹中的所述工件与所述喷嘴之间的相对速度变低的折返点(TP1)设定于所述连接轨迹之上。

    成膜方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113631755A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN201980094711.0

    申请日:2019-03-29

    Abstract: 一种成膜方法,在该成膜方法中,一边使具有不相互连续的多个被成膜部(16c)的工件(3)和冷喷装置(2)的喷嘴(23d)沿着由相对于所述多个被成膜部的轨迹(T)和连结该相对于多个被成膜部的轨迹(T)的连接轨迹(CT)构成的连续的移动轨迹(MT)相对地移动,一边从所述喷嘴连续地喷射原料粉末,利用冷喷法向所述多个被成膜部分别喷射原料粉末而形成覆膜,其中,将所述移动轨迹中的所述工件与所述喷嘴之间的相对速度变低的折返点(TP1)设定于所述连接轨迹之上。

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