喷镀膜形成方法以及喷镀膜形成装置

    公开(公告)号:CN101353774B

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN200810134559.8

    申请日:2008-07-25

    Abstract: 本发明提供喷镀膜形成方法以及喷镀膜形成装置。即使在喷镀膜层中混入异物时,也能够除去该异物来降低次品率,使生产率上升。其中,暂时停止在缸孔(3)的内表面(3a)上形成喷镀膜(5)的动作,在该停止状态下,利用目视观察检测出在喷镀膜(5)中产生的异物即突起物(49)并通过手工作业将其除去,之后进行喷镀作业直到喷镀膜(5)成为规定膜厚。形成喷镀膜后,通过珩磨加工进行精加工。

    喷镀膜形成方法以及喷镀膜形成装置

    公开(公告)号:CN101353774A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200810134559.8

    申请日:2008-07-25

    Abstract: 本发明提供喷镀膜形成方法以及喷镀膜形成装置。即使在喷镀膜层中混入异物时,也能够除去该异物来降低次品率,使生产率上升。其中,暂时停止在缸孔(3)的内表面(3a)上形成喷镀膜(5)的动作,在该停止状态下,利用目视观察检测出在喷镀膜(5)中产生的异物即突起物(49)并通过手工作业将其除去,之后进行喷镀作业直到喷镀膜(5)成为规定膜厚。形成喷镀膜后,通过珩磨加工进行精加工。

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