公开(公告)号：CN117642846A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202280049929.6

申请日：2022-06-30

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 高桥拓马 ,  筱原智之 ,  石井淳一 ,  中村一树 ,  筱原敬 ,  冲田展彬 ,  冈田吉文

IPC分类号： H01L21/304

摘要： 本发明的基板清洗装置具备基板保持部、下表面刷、第1液体喷嘴及第2液体喷嘴。基板保持部以水平姿势保持基板。下表面刷构成为能够在用于清洗基板的处理位置与在上下方向上重叠于由基板保持部保持的基板的待机位置之间移动。另外，下表面刷构成为能够绕上下方向的轴旋转。下表面刷在处理位置与基板的下表面接触，由此清洗基板的下表面。第1液体喷嘴在待机位置，对下表面刷的中央部喷出清洗液。第2液体喷嘴在待机位置，对下表面刷的端部喷出清洗液。

公开(公告)号：CN117730400A

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202280052087.X

申请日：2022-06-24

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 高桥拓马 ,  筱原智之 ,  石井淳一 ,  中村一树 ,  筱原敬 ,  冲田展彬 ,  冈田吉文

IPC分类号： H01L21/304

摘要： 基板清洗装置具备上侧保持装置。上侧保持装置与基板的外周端部接触，且不使该基板旋转地以水平姿势进行保持。将通过清洗液而湿润的下表面刷压抵于由上侧保持装置保持的基板的下表面中央区域。在该状态下，下表面刷相对于基板的下表面中央区域旋转或移动。由此，清洗基板的下表面中央区域。

公开(公告)号：CN117981056A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202280062880.8

申请日：2022-06-29

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 高桥拓马 ,  中村一树

IPC分类号： H01L21/304

摘要： 本发明的基板清洗装置具备：一对上侧保持装置，其保持基板的外周端部；下表面刷，其与基板的下表面接触而将基板的下表面清洗；以及控制装置，其在下表面刷清洗基板的下表面中央区域的期间，使向上方推压清洗工具的上推力变化。

公开(公告)号：CN118020144A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202280063180.0

申请日：2022-07-25

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 高桥拓马 ,  村元僚 ,  中村一树 ,  千叶一树

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/677

摘要： 本发明的基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；处理部，其处理基板的表面或背面；以及保持控制部，其在通过处理部处理基板的期间控制基板保持部，以使基板的中心部分向上方或下方位移。