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    衬底处理装置及衬底处理方法
    1.
    发明公开
    衬底处理装置及衬底处理方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118248588A

    公开(公告)日：2024-06-25

    申请号：CN202311791285.0

    申请日：2023-12-22

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 冈田吉文 ,  冲田展彬 ,  中村一树

    IPC分类号： H01L21/67 ,  B08B1/52 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

    摘要： 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是利用上侧保持装置保持衬底的外周端部，使用下表面刷将该衬底的下表面中央区域洗净。在将衬底的下表面中央区域洗净后，衬底从上侧保持装置下降，被交递到下侧保持装置的吸附保持部。使用处理液将由吸附保持部保持的衬底洗净。俯视下包围衬底的护罩设置成能够在能接住处理液的上护罩位置、与比上护罩位置更靠下方的下护罩位置之间进行升降。护罩在待机时处于下护罩位置。以衬底从上侧保持装置的高度位置移动到下侧保持装置的高度位置的衬底下降动作期间与从下护罩位置上升到上护罩位置的护罩上升动作期间至少一部分重叠的方式，开始各动作。

    衬底处理装置及衬底处理方法
    2.
    发明公开
    衬底处理装置及衬底处理方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118248585A

    公开(公告)日：2024-06-25

    申请号：CN202311778272.X

    申请日：2023-12-22

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 中村一树 ,  冈田吉文 ,  冲田展彬

    IPC分类号： H01L21/67 ,  B08B1/52 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  H01L21/02

    摘要： 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备多个衬底洗净装置及主机械手。主机械手构成为能够针对各衬底洗净装置搬入及搬出衬底。衬底洗净装置具有处理室。在该处理室内，设置着使刷与衬底的下表面接触而将该衬底的下表面洗净的刷洗净部。另外，衬底洗净装置具有向刷喷出刷洗净液的洗净喷嘴。在利用主机械手针对衬底洗净装置的衬底进行搬入动作及搬出动作期间，停止向洗净喷嘴供给刷洗净液。

    衬底洗净装置及衬底洗净方法
    3.
    发明公开
    衬底洗净装置及衬底洗净方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN115513093A

    公开(公告)日：2022-12-23

    申请号：CN202210719627.7

    申请日：2022-06-23

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 筱原智之 ,  中村一树 ,  冈田吉文 ,  髙桥拓马 ,  筱原敬 ,  冲田展彬 ,  石井淳一

    IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

    摘要： 本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。以如下方式使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的中心轴一致，在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。

    衬底处理装置及衬底处理方法
    4.
    发明公开
    衬底处理装置及衬底处理方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118248589A

    公开(公告)日：2024-06-25

    申请号：CN202311791912.0

    申请日：2023-12-22

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 冈田吉文 ,  冲田展彬 ,  中村一树

    IPC分类号： H01L21/67 ,  B08B1/52 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

    摘要： 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是利用上侧保持装置保持衬底的外周端部，使用下表面刷将该衬底的下表面中央区域洗净。在该洗净时，处于上侧保持装置下方的下侧保持装置的吸附保持部旋转。将由上侧保持装置保持的衬底交递到下侧保持装置的吸附保持部。由吸附保持部保持的衬底的下表面外侧区域被洗净。在将衬底的下表面中央区域洗净后，到衬底被交递给下侧保持装置的吸附保持部为止的期间，下侧保持装置的吸附保持部的旋转停止。另外，通过基座装置使吸附保持部沿水平方向移动。以动作期间的至少一部分重叠的方式进行吸附保持部的旋转停止动作及吸附保持部的水平移动动作。

    下表面刷、刷单元及基板清洗装置
    5.
    发明公开
    下表面刷、刷单元及基板清洗装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN117732765A

    公开(公告)日：2024-03-22

    申请号：CN202311214076.X

    申请日：2023-09-20

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 中村一树 ,  冈田吉文 ,  冲田展彬

    IPC分类号： B08B1/12 ,  B08B1/36 ,  B08B11/02 ,  B08B11/00

    摘要： 本发明提供一种下表面刷、刷单元及基板清洗装置。下表面刷在基板的下表面的清洗中使用，包括基台部、第1清洗部及第2清洗部。基台部具有上表面，且构成为能够以预先确定的中心点为中心旋转。第1清洗部从基台部的上表面向上方突出，且向一个方向延伸。第2清洗部从基台部的上表面向上方突出，且在俯视观察时配置在将第1清洗部的在一个方向上的一端部和基台部的中心点连结的路径上。

    衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法
    7.
    发明公开
    衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN114203583A

    公开(公告)日：2022-03-18

    申请号：CN202111079496.2

    申请日：2021-09-15

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 筱原智之 ,  冈田吉文 ,  冲田展彬 ,  加藤洋 ,  筱原敬

    IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677

    摘要： 本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法。本发明的第1衬底保持部保持衬底的外周端部。第2衬底保持部在第1衬底保持部下方的位置吸附保持衬底的下表面中央区域。下表面刷在与利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置、与下表面刷与利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置之间升降。第2衬底保持部及下表面刷设置在能够在水平方向移动的可动台座上。可动台座在下表面刷与衬底的下表面外侧区域对向的位置、与下表面刷与衬底的下表面中央区域对向的位置之间移动。洗净利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面中央区域。这时，衬底的高度位置高于处理杯的上端部。洗净利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面外侧区域。这时，衬底的高度位置低于处理杯的上端部。

    基板处理装置及基板处理方法
    9.
    发明公开
    基板处理装置及基板处理方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN117766447A

    公开(公告)日：2024-03-26

    申请号：CN202311193943.6

    申请日：2023-09-15

    申请人： 株式会社斯库林集团

    发明人： 冲田展彬 ,  中村一树 ,  冈田吉文

    IPC分类号： H01L21/68 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/02

    摘要： 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够抑制因位置偏离而引起的基板的处理不良的产生。所述基板清洗装置包含腔室、第一处理部及第二处理部。腔室形成包含第一处理位置及第二处理位置的处理空间。第一处理部对在腔室内配置于第一处理位置的基板进行第一处理。第二处理部对在腔室内配置于第二处理位置的基板进行第二处理。主机器人通过使对基板进行保持的手移动而进行相对于基板清洗装置而言的基板的搬入及基板的搬出。另外，主机器人通过使手进入至处理空间内而接收配置于第一处理位置的基板，搬送至第二处理位置并进行定位。