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公开(公告)号：CN118412318A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202410021094.4
申请日：2024-01-05
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/677 , H01L21/68
摘要： 本发明涉及一种衬底保持装置及具备衬底保持装置的衬底处理装置。在衬底保持装置中，所述装置包含以下要件。具备3个以上保持部，所述3个以上保持部分别包含旋转台、基座部及位置限制部，空出间隔配置在所述旋转台上的外周部。至少1个保持部具备：转动基座部，所述基座部能绕纵向的轴芯转动；转动位置限制部，所述位置限制部限制所述旋转台的所述衬底在水平方向的位置；转动机构，将所述转动位置限制部在第1状态与第2状态间切换；及推出部件，在为所述第1状态时，与所述衬底分开，在切换为所述第2状态时，将所述衬底朝离开所述位置限制部的方向推出。
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公开(公告)号：CN115513093A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210719627.7
申请日：2022-06-23
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。以如下方式使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的中心轴一致，在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。
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公开(公告)号：CN115602596A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202210790732.X
申请日：2022-07-05
申请人： 株式会社斯库林集团(JP)
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 本发明涉及一种衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。衬底对位装置包含以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部的第1支撑部件及第2支撑部件。另外，衬底对位装置具备：第1按压部件，以俯视下与第1支撑部件对向的方式配置，在衬底由第1及第2支撑部件支撑的状态下，在从第2支撑部件朝向第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使衬底移动。第1支撑部件包含限制衬底超过预先确定的规定位置向第1方向移动的移动限制部。
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公开(公告)号：CN114203583A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111079496.2
申请日：2021-09-15
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
摘要： 本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底处理装置及衬底洗净方法。本发明的第1衬底保持部保持衬底的外周端部。第2衬底保持部在第1衬底保持部下方的位置吸附保持衬底的下表面中央区域。下表面刷在与利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置、与下表面刷与利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面接触的位置之间升降。第2衬底保持部及下表面刷设置在能够在水平方向移动的可动台座上。可动台座在下表面刷与衬底的下表面外侧区域对向的位置、与下表面刷与衬底的下表面中央区域对向的位置之间移动。洗净利用第1衬底保持部保持的衬底的下表面中央区域。这时，衬底的高度位置高于处理杯的上端部。洗净利用第2衬底保持部保持的衬底的下表面外侧区域。这时，衬底的高度位置低于处理杯的上端部。
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公开(公告)号：CN108573897A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201810090437.7
申请日：2018-01-30
申请人： 株式会社斯库林集团
摘要： 一边使基板旋转一边使刷体的下表面沿着基板的上表面移动。通过使刷体以及喷雾嘴向上方从离位位置移动至下侧非接触位置，来使刷体的下表面离开基板的上表面。通过在刷体以及喷雾嘴位于下侧非接触位置的状态下使喷雾嘴产生多个液滴，来使多个液滴与基板的上表面碰撞，然后，一边将与基板的上表面碰撞的多个液滴供给至刷体的下表面，一边将其从刷体的下表面与基板的上表面之间的间隙排出。
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公开(公告)号：CN117642846A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202280049929.6
申请日：2022-06-30
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 本发明的基板清洗装置具备基板保持部、下表面刷、第1液体喷嘴及第2液体喷嘴。基板保持部以水平姿势保持基板。下表面刷构成为能够在用于清洗基板的处理位置与在上下方向上重叠于由基板保持部保持的基板的待机位置之间移动。另外，下表面刷构成为能够绕上下方向的轴旋转。下表面刷在处理位置与基板的下表面接触，由此清洗基板的下表面。第1液体喷嘴在待机位置，对下表面刷的中央部喷出清洗液。第2液体喷嘴在待机位置，对下表面刷的端部喷出清洗液。
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公开(公告)号：CN115472528A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210659024.2
申请日：2022-06-10
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 本发明的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部。定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底的中心且与第1直线平行的假想性第2直线。第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域，清洗衬底的下表面。
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公开(公告)号：CN108701607B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN201780014125.1
申请日：2017-03-09
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/304 , G03F1/82
摘要： 基板处理装置(1)，其中，包含：基板保持旋转机构(41)，其将基板(W)保持为水平姿势，且使上述基板(W)围绕通过上述基板(W)的主面的铅垂的旋转轴线(AX)旋转；刷子(30)，其抵接于由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主面并对上述基板(W)的上述主面进行清洗；第一喷嘴(10)，其向由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主面喷出处理液；以及第二喷嘴(20)，其向由上述基板保持旋转机构保持的上述基板(W)的上述主面中的下游邻接区域(DR)喷出处理液，上述下游邻接区域(DR)从上述基板(W)的旋转方向的下游侧邻接于上述刷子(AR)。(30)抵接于上述基板(W)的上述主面的抵接区域
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公开(公告)号：CN115621162A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210854232.8
申请日：2022-07-14
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底洗净系统、衬底处理系统、衬底洗净方法及衬底处理方法。上侧保持装置将衬底以水平姿势保持且不使它旋转。下侧保持装置吸附保持衬底且使它旋转。使用洗净液洗净由上侧保持装置保持的衬底，使用洗净液洗净由下侧保持装置保持的衬底。处理空间的气体通过排气系统由工场的排气设备排出。在由上侧保持装置保持衬底时，不排出处理空间的气体或者以第1流量排出所述处理空间的气体。在由下侧保持装置保持衬底时，以高于第1流量的第2或第3流量排出处理空间的气体。
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