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    基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元以及基板电镀设备
    6.
    发明公开
    基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元以及基板电镀设备 无效

    公开(公告)号：CN101228623A

    公开(公告)日：2008-07-23

    申请号：CN200680026891.1

    申请日：2006-08-25

    申请人： 株式会社荏原制作所

    发明人： 关本雅彦 ,  横山俊夫 ,  渡边辉行 ,  铃木宪一 ,  小林贤一 ,  加藤亮

    IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/304

    CPC分类号： H01L21/68707 ,  H01L21/6723 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/68728

    摘要： 提供了基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元和基板电镀设备，使得诸如机器人臂的基板载入机构在载入基板之后快速释放保持在基板上，从而缩短保持所述基板的时间并提高流通量。所述基板处理单元(10)包括用于将所述基板(11)保持在特定的保持位置的基板保持机构(10)，以及处理机构(32)，用于将规定的处理施加至由所述基板保持机构所述保持的所述基板，其中基板引导机构(20)设有引导销(15)，用于将所述基板引导至保持位置附近。所述基板引导机构具有位于保持位置的所述基板的外周上的多个辊(14)，而所述多个辊适于通过从所述基板的侧部将所述基板的周边支承在所述保持位置的附近而支承所述基板，所述辊具有一体的结构，所述一体的结构包括大直径部分以及形成在所述大直径部分上方的小直径部分，而大直径部分的上侧部分具有肩部，以便所述基板在传送中临时地支承在其上，并且所述肩部形成有朝向其外周向下倾斜的倾斜表面。

    用于镀敷基片的装置和方法
    7.
    发明公开
    用于镀敷基片的装置和方法 失效

    公开(公告)号：CN1572911A

    公开(公告)日：2005-02-02

    申请号：CN200410043155.X

    申请日：2004-05-12

    申请人： 株式会社荏原制作所

    发明人： 关本雅彦 ,  栗山文夫 ,  远藤泰彦 ,  斯蒂芬·斯特劳塞尔

    IPC分类号： C25D7/12 ,  H01L21/288 ,  H01L21/445

    CPC分类号： C25D5/08

    摘要： 本发明涉及镀敷装置和方法，通过该装置和方法可以容易地去除形成在镀敷表面上的气泡并且可以改善镀敷表面上的镀敷薄膜的厚度的均匀性。镀敷装置包括用于装载其中装有具有镀敷表面基片的盒的盒台。还设置有用于使基片对准的对准器、用于冲洗和干燥基片的冲洗器－干燥器；以及用于镀敷基片的镀敷单元。镀敷单元包括容纳镀敷液的镀敷器皿、和用于夹持基片以浸入镀敷器皿内的镀敷液中的夹持器。镀敷表面暴露于向镀敷表面喷射镀敷液的喷嘴。

    用于镀敷基片的装置和方法
    9.
    发明授权
    用于镀敷基片的装置和方法 失效

    公开(公告)号：CN101922034B

    公开(公告)日：2013-03-27

    申请号：CN201010265867.1

    申请日：2004-05-12

    申请人： 株式会社荏原制作所

    发明人： 关本雅彦 ,  栗山文夫 ,  远藤泰彦 ,  斯蒂芬·斯特劳塞尔

    IPC分类号： C25D7/12 ,  H01L21/288 ,  H01L21/445

    CPC分类号： C25D5/08

    摘要： 本发明涉及镀敷装置和方法，通过该装置和方法可以容易地去除形成在镀敷表面上的气泡并且可以改善镀敷表面上的镀敷薄膜的厚度的均匀性。镀敷装置包括用于装载其中装有具有镀敷表面基片的盒的盒台。还设置有用于使基片对准的对准器、用于冲洗和干燥基片的冲洗器-干燥器；以及用于镀敷基片的镀敷单元。镀敷单元包括容纳镀敷液的镀敷器皿、和用于夹持基片以浸入镀敷器皿内的镀敷液中的夹持器。镀敷表面暴露于向镀敷表面喷射镀敷液的喷嘴。