公开(公告)号：CN104698749A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201510148671.7

申请日：2011-01-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·泊勒斯 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  C07C271/16

Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物各自包含1)两个或更多个羟基取代基和2)一个或多个光酸不稳定基团。

公开(公告)号：CN102207678B

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：CN201110063151.8

申请日：2011-01-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·泊勒斯 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C271/16 ,  C07C269/04

CPC classification number: C07C271/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32

Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种包含多个羟基部分的新含氮化合物以及包含该含氮化合物的光致抗蚀剂组合物。优选含氮化合物包含1)多个羟基取代基(即2个或更多个)和2)一个或多个光酸不稳定基团。

公开(公告)号：CN104698749B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201510148671.7

申请日：2011-01-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·泊勒斯 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  C07C271/16

Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物各自包含1)两个或更多个羟基取代基和2)一个或多个光酸不稳定基团。

公开(公告)号：CN102207678A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110063151.8

申请日：2011-01-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·泊勒斯 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C271/16 ,  C07C269/04

CPC classification number: C07C271/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32

Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种包含多个羟基部分的新含氮化合物以及包含该含氮化合物的光致抗蚀剂组合物。优选含氮化合物包含1)多个羟基取代基(即2个或更多个)和2)一个或多个光酸不稳定基团。