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公开(公告)号：CN101900944A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010163965.4
申请日：2010-02-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： J·F·卡梅隆 , J·W·宋 , J·P·阿马拉 , G·P·普罗科波维奇 , D·A·瓦莱里
IPC: G03F7/09 , G03F7/16 , C08L33/10 , C08L35/00 , C09D133/10 , C09D135/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/091 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/06 , B05D5/061 , B05D7/54 , C08F220/36 , C09D5/006 , C09D133/12 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/322
Abstract: 提供一种有机涂层组合物，尤其是减反射涂层组合物，其包含二烯烃/二烯亲和物的反应产物。本发明的优选组合物有益于减少从基体背面到外涂的光致抗蚀剂层和/或作为平面化、保形或通孔填充层的曝光辐射的反射。
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公开(公告)号：CN101900943B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201010119475.4
申请日：2010-02-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 国际商业机器有限公司
Inventor： J·F·卡梅隆 , J·W·宋 , J·P·阿马拉 , G·P·普罗科波维奇 , D·A·瓦莱里 , L·维克里克 , W-S·S·黄 , W·李 , P·R·瓦拉纳斯 , I·Y·波波瓦
IPC: G03F7/09 , G03F7/00 , C09D135/00 , G03F7/004 , C08L35/00
CPC classification number: G03F7/2008 , C08L25/18 , C08L29/02 , C08L33/06 , C08L33/24 , G03F7/091 , G03F7/11
Abstract: 提供了能用水性碱显影剂显影(包括在外涂敷的光刻胶层的显影过程中的单一步骤)的有机涂料组合物，特别是减反射涂料组合物。优选的涂料组合物包括具有至少四个不同的官能团的四元聚合物。
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公开(公告)号：CN101788763B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200910261590.2
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及一种用于处理光刻胶组合物的方法，它包括：(a)将光刻胶组合物涂覆在基材上；(b)在该光刻胶组合物上涂覆有机阻挡组合物层；(c)在单独的步骤中，热处理所涂覆的光刻胶组合物和阻挡层组合物，以从所涂覆的光刻胶组合物和阻挡层组合物中除去溶剂，其中在涂覆所述阻挡层组合物之前，并不通过热处理除去所述光刻胶组合物的溶剂；和(d)将该光刻胶层浸渍曝光于活化辐射中。本发明主要涉及浸渍光刻技术的新材料和工艺。
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公开(公告)号：CN101788763A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200910261590.2
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及一种用于处理光刻胶组合物的方法，它包括：(a)将光刻胶组合物涂覆在基材上；(b)在该光刻胶组合物上涂覆有机阻挡组合物层；(c)在单独的步骤中，热处理所涂覆的光刻胶组合物和阻挡层组合物，以从所涂覆的光刻胶组合物和阻挡层组合物中除去溶剂，其中在涂覆所述阻挡层组合物之前，并不通过热处理除去所述光刻胶组合物的溶剂；和(d)将该光刻胶层浸渍曝光于活化辐射中。本发明主要涉及浸渍光刻技术的新材料和工艺。
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公开(公告)号：CN104698749B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201510148671.7
申请日：2011-01-25
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： 刘骢 , C·吴 , G·泊勒斯 , G·P·普罗科波维奇 , C-B·徐
Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光酸产生剂化合物；和(c)一种或多种含氮化合物，所述含氮化合物各自包含1)两个或更多个羟基取代基和2)一个或多个光酸不稳定基团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102207678A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201110063151.8
申请日：2011-01-25
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： 刘骢 , C·吴 , G·泊勒斯 , G·P·普罗科波维奇 , C-B·徐
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07C271/16 , C07C269/04
CPC classification number: C07C271/16 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32
Abstract: 包含含氮化合物的光致抗蚀剂。提供一种包含多个羟基部分的新含氮化合物以及包含该含氮化合物的光致抗蚀剂组合物。优选含氮化合物包含1)多个羟基取代基(即2个或更多个)和2)一个或多个光酸不稳定基团。
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公开(公告)号：CN1737685A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510109853.X
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及涂覆在用于浸渍光刻工艺的光刻胶组合物上的阻挡组合物。另一方面，提供用于浸渍光刻工艺的新方法。
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公开(公告)号：CN101900944B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201010163965.4
申请日：2010-02-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： J·F·卡梅隆 , J·W·宋 , J·P·阿马拉 , G·P·普罗科波维奇 , D·A·瓦莱里
IPC: G03F7/09 , G03F7/16 , C08L33/10 , C08L35/00 , C09D133/10 , C09D135/00 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/091 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/06 , B05D5/061 , B05D7/54 , C08F220/36 , C09D5/006 , C09D133/12 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/322
Abstract: 提供一种有机涂层组合物，尤其是减反射涂层组合物，其包含二烯烃/二烯亲和物的反应产物。本发明的优选组合物有益于减少从基体背面到外涂的光致抗蚀剂层和/或作为平面化、保形或通孔填充层的曝光辐射的反射。
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公开(公告)号：CN1877450B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200610079811.0
申请日：2006-05-08
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： G·P·普罗科波维奇 , M·K·格拉戈尔
CPC classification number: G03F7/091 , C08K3/36 , C09D129/04 , C09D133/02 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 在一方面，提供含有组分的涂料组合物，所述组分包括一种或多种硅、锑、铝、钇、铈、镧、锡、钛、锆、铪、铟和/或锌化合物。在另一方面，提供包含许多分立的颗粒的涂料组合物。本发明优选的涂料组合物，尤其是与下面的光刻胶涂层一起可用于减反射目的，以及用于浸渍印刷的阻隔层。
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公开(公告)号：CN1737685B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200510109853.X
申请日：2005-07-04
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor： M·K·加拉赫 , G·B·韦顿 , G·P·普罗科波维奇 , S·A·罗伯特森
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及涂覆在用于浸渍光刻工艺的光刻胶组合物上的阻挡组合物。另一方面，提供用于浸渍光刻工艺的新方法。
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