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公开(公告)号：CN102603579B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110463334.9
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC: C07C309/42 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07D333/76 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F212/32 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
Abstract: 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。
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公开(公告)号：CN1821869A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200510128708.6
申请日：2005-11-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/114
Abstract: 提供了化学增幅的正光刻胶组合物，它包含含有缩醛和脂环族基团的树脂。本发明的光刻胶具有明显提高的光刻性能。本发明优选的光刻胶包含一种或多种光致酸形成剂化合物，且一种或多种酚醛树脂包含一个或多个光致酸不稳定的缩醛基团和一个或多个脂环族基团，如金刚烷基。
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公开(公告)号：CN104004128B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201410062164.7
申请日：2014-02-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/36 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法。一种共聚物，其包含共聚单体与具有式（I）的单体的聚合产物：其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H、F、‑CN、C1‑10烷基或C1‑10氟烷基；Rx和Ry每个独立地是未取代的或取代的C1‑10线型或支化的烷基基团、未取代或取代的C3‑10环烷基基团、未取代或取代的C3‑10烯基烷基基团、或未取代或取代的C3‑10炔基烷基基团，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6‑20芳基基团，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3‑C20杂芳基，其中C6‑20芳基基团或C3‑C20杂芳基可任选地被进一步取代。本发明还描述了：一种含有所述共聚物的光刻胶、具有所述光刻胶层的已涂覆的基材、和采用所述光刻胶制备电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN102603579A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201110463334.9
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC: C07C309/42 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07D333/76 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F212/32 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
Abstract: 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。
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公开(公告)号：CN1821869B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200510128708.6
申请日：2005-11-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/114
Abstract: 提供了化学增幅的正光刻胶组合物，它包含含有缩醛和脂环族基团的树脂。本发明的光刻胶具有明显提高的光刻性能。本发明优选的光刻胶包含一种或多种光致酸形成剂化合物，且一种或多种酚醛树脂包含一个或多个光致酸不稳定的缩醛基团和一个或多个脂环族基团，如金刚烷基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110531581A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910842301.1
申请日：2011-11-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
Abstract: 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II) 其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。
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公开(公告)号：CN102617430A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201110463187.5
申请日：2011-11-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC: C07C381/12 , C07C309/06 , C07C303/32 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00
Abstract: 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II)(II)，其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。
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公开(公告)号：CN103913951B
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201310757451.5
申请日：2013-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 产酸剂和含有它的光刻胶。提供作为光刻胶组合物组分特别有用的产酸剂化合物。在一个优选的方面，提供光刻胶，包括：(i)一种聚合物；(ii)第一鎓盐产酸剂，当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第一种酸；和(iii)第二鎓盐产酸剂，其1)含有共价键合的酸不稳定部分并且2)当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第二种酸，其中第一种酸和第二种酸具有相差至少0.5的pKa值。
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公开(公告)号：CN104004128A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201410062164.7
申请日：2014-02-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/36 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法。一种共聚物，其包含共聚单体与具有式（I）的单体的聚合产物：其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H、F、-CN、C1-10烷基或C1-10氟烷基；Rx和Ry每个独立地是未取代的或取代的C1-10线型或支化的烷基基团、未取代或取代的C3-10环烷基基团、未取代或取代的C3-10烯基烷基基团、或未取代或取代的C3-10炔基烷基基团，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6-20芳基基团，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3-C20杂芳基，其中C6-20芳基基团或C3-C20杂芳基可任选地被进一步取代。本发明还描述了：一种含有所述共聚物的光刻胶、具有所述光刻胶层的已涂覆的基材、和采用所述光刻胶制备电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN103913951A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201310757451.5
申请日：2013-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 产酸剂和含有它的光刻胶。提供作为光刻胶组合物组分特别有用的产酸剂化合物。在一个优选的方面，提供光刻胶，包括：(i)一种聚合物；(ii)第一鎓盐产酸剂，当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第一种酸；和(iii)第二鎓盐产酸剂，其1)含有共价键合的酸不稳定部分并且2)当光刻胶组合物曝光于活化辐射时，其产生第二种酸，其中第一种酸和第二种酸具有相差至少0.5的pKa值。
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