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公开(公告)号：CN105824197A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610177374.X
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , C09D167/02 , G03F7/0045 , G03F7/091 , H01L21/0271 , C08G73/0655
Abstract: 本发明提供了一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物，其中该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基团和疏水性基团的树脂。所述涂料组合物可以增强外涂光刻胶浮雕像的分辨率。
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公开(公告)号：CN102591154A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110463289.7
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 用于与外涂的光刻胶一起使用的涂料组合物。提供了有机涂料组合物，特别是减反射涂料组合物，其包含这样的组分，该组分包含一种或多种仲班酸部分。优选本发明的组合物能够用于减少曝光辐射从基底返回到外涂的光刻胶层中的反射和/或充当平坦化的、保形的或者塞孔层。提供了一种涂覆的基底，所述涂覆的基底包含：(a)在基底上的涂料组合物层，该涂料组合物包含这样的组分，该组分包含一种或多种仲班酸部分；和(b)在该涂料组合物层上的光刻胶层。
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公开(公告)号：CN101935307A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010233738.4
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07D251/34 , C08G63/685 , C08L67/00 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: C07D251/32 , C08G73/0655 , G03F7/091
Abstract: 本发明提供了一种氰尿酸酯组合物，它特别适用于作为形成在外涂光刻胶下层的涂料组合物的树脂组分的反应物。优选的异氰尿酸酯化合物的多个氰尿酸酯氮环原子被至少两个特定的羧基和/或羧基酯基取代。
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公开(公告)号：CN101201542A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200710170198.8
申请日：2007-09-26
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , C09D201/02
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392
Abstract: 提供一种用于光刻蚀法的涂料组合物，其包括一种或多种含有一种或多种改性的二酰亚胺基团的树脂。这些涂料组合物被特别用作外涂的光致抗蚀剂层的抗反射层。优选的体系可被热处理以增加所述组合物涂料层的亲水性，从而阻止与外涂的有机组合物层的不希望的混合，而在使用碱性水溶液光致抗蚀剂显影剂时可使得组合物涂料层是可移除的。
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公开(公告)号：CN105759569A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610064533.5
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/09 , C07D251/32 , C08G73/06
CPC classification number: C07D251/32 , C08G73/0655 , G03F7/091
Abstract: 与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物。本发明提供了一种形成光刻胶浮雕像的方法，所述方法包括：(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物，所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物；(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和(c)曝光和显影所述光刻胶层，从而制得光刻胶浮雕像，所述树脂包含聚酯键，所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104004128A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201410062164.7
申请日：2014-02-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/36 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法。一种共聚物，其包含共聚单体与具有式（I）的单体的聚合产物：其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H、F、-CN、C1-10烷基或C1-10氟烷基；Rx和Ry每个独立地是未取代的或取代的C1-10线型或支化的烷基基团、未取代或取代的C3-10环烷基基团、未取代或取代的C3-10烯基烷基基团、或未取代或取代的C3-10炔基烷基基团，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6-20芳基基团，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3-C20杂芳基，其中C6-20芳基基团或C3-C20杂芳基可任选地被进一步取代。本发明还描述了：一种含有所述共聚物的光刻胶、具有所述光刻胶层的已涂覆的基材、和采用所述光刻胶制备电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN101201542B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200710170198.8
申请日：2007-09-26
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , C09D201/02
CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0392
Abstract: 提供一种用于光刻蚀法的涂料组合物，其包括一种或多种含有一种或多种改性的二酰亚胺基团的树脂。这些涂料组合物被特别用作外涂的光致抗蚀剂层的抗反射层。优选的体系可被热处理以增加所述组合物涂料层的亲水性，从而阻止与外涂的有机组合物层的不希望的混合，而在使用碱性水溶液光致抗蚀剂显影剂时可使得组合物涂料层是可移除的。
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公开(公告)号：CN101935492A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010233728.0
申请日：2010-05-20
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C09D167/00 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/11 , C09D167/02 , G03F7/0045 , G03F7/091 , H01L21/0271
Abstract: 本发明提供了一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物，其中该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基团和疏水性基团的树脂。所述涂料组合物可以增强外涂光刻胶浮雕像的分辨率。
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公开(公告)号：CN104004128B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201410062164.7
申请日：2014-02-24
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C08F220/10 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/36 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种光敏共聚物，包含所述光敏共聚物的光刻胶，和形成一种电子器件的方法。一种共聚物，其包含共聚单体与具有式（I）的单体的聚合产物：其中c是0、1、2、3、4或5，Ra是H、F、‑CN、C1‑10烷基或C1‑10氟烷基；Rx和Ry每个独立地是未取代的或取代的C1‑10线型或支化的烷基基团、未取代或取代的C3‑10环烷基基团、未取代或取代的C3‑10烯基烷基基团、或未取代或取代的C3‑10炔基烷基基团，其中Rx和Ry一起任选地形成环；Rz是由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C6‑20芳基基团，或由含有缩醛的基团或含有缩酮的基团取代的C3‑C20杂芳基，其中C6‑20芳基基团或C3‑C20杂芳基可任选地被进一步取代。本发明还描述了：一种含有所述共聚物的光刻胶、具有所述光刻胶层的已涂覆的基材、和采用所述光刻胶制备电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN103524680A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201310264410.2
申请日：2013-06-27
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
Inventor： M·D·克里斯蒂安森 , M·M·梅耶 , O·昂格伊
IPC: C08F234/02 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F216/14 , C08F216/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F14/185 , G03F7/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046
Abstract: 本发明涉及聚合物组合物、包含该聚合物组合物的光致抗蚀剂以及包含该光致抗蚀剂的涂覆制品，提供了一种共聚物，其包含如下化学式（I）的溶出速率控制单体、化学式（II）的非环乙烯基醚单体以及化学式（III）的环乙烯基醚单体的聚合产物：其中Ra、X、Z1、Rb、Rc和L如本文所定义。还揭示了包含所述共聚物的光致抗蚀剂和涂覆制品。
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