包括存储器单元和选择栅极的组合件;以及形成组合件的方法

    公开(公告)号:CN110010616A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201811567473.4

    申请日:2018-12-20

    发明人: 乌戈·鲁索

    IPC分类号: H01L27/1157 H01L27/11582

    摘要: 本发明涉及包括存储器单元和选择栅极的组装件;以及形成组装件的方法。一些实施例包含一种具有交替介电层级和导电层级的堆叠的组合件。沟道材料柱延伸穿过所述堆叠。所述沟道材料柱中的一些与第一子块相关,且其它所述沟道材料柱与第二子块相关。存储器单元沿所述沟道材料柱。绝缘层级在所述堆叠之上。选择栅极配置在所述绝缘层级之上。所述选择栅极配置包含与所述第一子块相关的第一导电栅极结构,且包含与所述第二子块相关的第二导电栅极结构。所述第一和第二导电栅极结构通过中间绝缘区域彼此侧向分隔。所述第一和第二导电栅极结构具有竖直分隔的导电区域,且具有竖直延伸的导电结构,所述竖直延伸的导电结构将所述竖直分隔的导电区域彼此电耦合。一些实施例包含形成组合件的方法。