一种N型TOPCon电池背面掺杂性能监测方法

    公开(公告)号:CN116313864A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310128311.5

    申请日:2023-02-17

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本发明涉及晶硅电池制备领域,具体公开了一种N型TOPCon电池背面掺杂性能监测方法,包括:S1以P型硅片作为实验片,并双面抛光处理;S2将多个抛光后的实验片与N型TOPCon产线poly后的硅片放置在相同炉管,对炉内实验片和硅片进行同工艺的磷扩散;S3对实验片进行方阻测试;S4对实验片进行ECV曲线测试;S5测试电池效率;S6将S1处理后的实验片投入N型TOPCon产线,作为监控片,与产线的量产硅片做相同的磷扩散工艺;S7对磷扩后的监控片进行方阻测试、ECV曲线测试,通过比对实验片的测试结果来监测产线是否存在异常。本发明使用P型片作为监控片,扩散后在硅片基体与扩散层中间形成了PN结阻挡层,能解决磷扩后的TOPCon半成品硅片无法准确测量方阻的问题。