一种硅抛光面的清洗方法

    公开(公告)号:CN115207167A

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202211125312.6

    申请日:2022-09-16

    摘要: 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开一种硅抛光面的清洗方法。所述清洗方法包括以下步骤:依次采用混合酸液和纯水分别对硅片进行清洗,得一级处理片,其中,所述混合酸液为包括磷酸、氟硼酸和硝酸的水溶液;依次采用碱性混合液和纯水分别对所述一级处理片进行清洗,得二级处理片,其中,所述碱性混合液为包括强碱和乙醇的水溶液;依次采用氧化液和纯水分别对所述二级处理片进行清洗,烘干,得抛光硅片,其中所述氧化液为包括氢氟酸和双氧水的水溶液。本发明提供的清洗方法能有效去除抛光工序残留的微小颗粒,降低表面粗糙度,改善表面形态;还能去除表面残留的有机物及金属离子,有利于后续钝化工艺,能够提升光电转换效率。

    一种选择性钝化接触电池及其制备方法

    公开(公告)号:CN115020507B

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202210680656.7

    申请日:2022-06-15

    摘要: 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开一种选择性钝化接触电池及其制备方法。所述电池包括N型硅片,所述N型硅片的正表面上设有硼发射极,在所述硼发射极上设有金属栅线区和非栅线区,在所述正表面的栅线区域内由下往上依次为氧化硅/硼掺杂多晶硅叠层和正电极;在所述正表面的非栅线区域内由下往上依次为氧化铝层和第二氮化硅层;在所述N型硅片的背表面上设有氧化硅/磷掺杂多晶硅叠层,在所述氧化硅/磷掺杂多晶硅叠层上设有金属栅线区和非栅线区,在所述背表面的栅线区域内为背电极,非栅线区域内为第一氮化硅层。本发明提供的选择性钝化接触电池,其正表面仅栅线区域下存在钝化接触结构,背表面整面预设钝化接触结构,显著降低吸光效应。

    一种硅抛光面的清洗方法

    公开(公告)号:CN115207167B

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202211125312.6

    申请日:2022-09-16

    摘要: 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开一种硅抛光面的清洗方法。所述清洗方法包括以下步骤:依次采用混合酸液和纯水分别对硅片进行清洗,得一级处理片,其中,所述混合酸液为包括磷酸、氟硼酸和硝酸的水溶液;依次采用碱性混合液和纯水分别对所述一级处理片进行清洗,得二级处理片,其中,所述碱性混合液为包括强碱和乙醇的水溶液;依次采用氧化液和纯水分别对所述二级处理片进行清洗,烘干,得抛光硅片,其中所述氧化液为包括氢氟酸和双氧水的水溶液。本发明提供的清洗方法能有效去除抛光工序残留的微小颗粒,降低表面粗糙度,改善表面形态;还能去除表面残留的有机物及金属离子,有利于后续钝化工艺,能够提升光电转换效率。

    一种氧化硅制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115747751A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211423328.5

    申请日:2022-11-15

    摘要: 本发明涉及光伏组件制备方法技术领域,具体公开了一种氧化硅制备方法,包括对清洗后硅片按步骤S1~步骤S14进行隧穿氧化硅层的制备,然后进行掺杂多晶硅层制备;其中,步骤S1~步骤S14为:承载清洗后硅片载片舟进入工艺腔室;抽真空,并升温,温度200℃~300℃;氮气吹扫;抽真空;通入惰性气体,并开启微波,气体流量100~500sccm,时长30~150s;抽真空;氮气吹扫;抽真空;通入氧化气体,气体流量50sccm~200sccm,时长10s~100s;抽真空;氮气吹扫;通入氢气,并开启微波,气体流量100~500sccm,时长30~150s;抽真空;氮气吹扫。本发明提出的方法,优了化PECVD法制备氧化硅工艺,能够保证生长隧穿氧化硅层前硅片表面的洁净,能钝化氧化硅中的悬挂键,得到优质的隧穿氧化硅层。

    一种无遮光钝化接触MWT电池的制备方法

    公开(公告)号:CN115602754A

    公开(公告)日:2023-01-13

    申请号:CN202211090939.2

    申请日:2022-09-07

    摘要: 本发明提供了一种无遮光钝化接触MWT电池的制备方法,属于太阳能电池技术领域,包括以下步骤;N型硅片双面制绒、背光面抛光;背光面制备第一隧穿氧化层及掺磷多晶硅层,掺磷多晶硅层外表面制备一层磷硅层;在背光面设置多个预设区域,并去除预设区域上的磷硅玻璃层、掺磷多晶硅层及第一隧穿氧化层,在预设区域上制备贯穿硅片的通孔;在背光面及通孔内壁制备第二隧穿氧化层及本征多晶硅层;对硅片实行硼扩散工艺处理;对硅片化学清洗;在硅片双面沉积钝化减反层;在背光面和通孔内丝网印刷金属栅线;烘干、烧结。本发明提供的一种无遮光钝化接触MWT电池的制备方法,简化了生产工艺步骤,降低了生产成本。