一种单侧双主缆钢桁架加劲梁悬索桥的分层悬吊结构

    公开(公告)号:CN111424561A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN202010375447.2

    申请日:2020-05-07

    IPC分类号: E01D21/00 E01D19/12 E01D11/02

    摘要: 本发明公开了一种单侧双主缆钢桁架加劲梁悬索桥的分层悬吊结构,靠桥面内侧的主缆通过索夹和吊索连接到钢桁架加劲梁的上弦,靠桥面外侧的主缆通过索夹和吊索连接到钢桁架加劲梁下弦伸出的牛腿。单侧双主缆采用一根主缆在上、另一根主缆在下的不等高布置,或采用内侧和外侧主缆平行等高布置,或采用内侧和外侧主缆双链布置。本发明可减少主缆悬吊区占用的桥面宽度,从而减轻加劲梁恒载,也减小桥塔的横向宽度。分层悬吊还能有效降低吊点力过于集中于上(或下)层节点的问题。内外侧吊索长度不一样,可避免吊索同频率共振。内外侧主缆高度不一样,可避免尾流引起的缆索振动。双主缆如果布置成双链形式,还可以减少加劲梁的S型挠度。

    一种具有优异光敏性能In2S3薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN107267942A

    公开(公告)日:2017-10-20

    申请号:CN201710462199.3

    申请日:2017-06-19

    发明人: 余洲 郭涛 闫勇 赵勇

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/06

    CPC分类号: C23C14/35 C23C14/0623

    摘要: 本发明公开了一种具有优异光敏性能In2S3薄膜的制备方法,包括以下步骤:S1:基片预处理:将基片清洗干净后吹干,并置于磁控溅射腔室内,备用;S2:预溅射:在磁控溅射仪靶枪上安装In2S3靶材,铟硫原子比为2:3,对磁控溅射腔室抽真空后再通入氩气,衬底温度为室温,挡板遮住衬底,开始预溅射以除去In2S3靶材表面的污染物;S3:溅射沉积In2S3薄膜:经步骤S2处理后,移开挡板,设置溅射功率为4~5W/㎝2,溅射气压为0.8~1.2Pa,在基片进行溅射沉积,溅射时间为60~300s,获得In2S3薄膜。该制备方法操作简单、薄膜厚度均匀可控、重复性好、沉积速度快、制备成本低、效率高,适合工业化大规模生产,值得在业内推广。

    一种(220)取向的铜铟镓硒薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN103531661B

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201310498733.8

    申请日:2013-10-22

    IPC分类号: H01L31/18 C23C14/35

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明涉及一种具有(220)取向的铜铟镓硒薄膜制备方法,其技术方案主要是:A:清洗基片,B:预溅射;C:溅射沉积薄膜:保持溅射功率为5W/cm2,基片温度为320-380℃,并将氩气气压调节为1.0~4.0Pa进行10分钟的溅射;之后将氩气气压降低至0.5Pa,并在基片上施加20~30V的偏压,进行2小时的溅射,即得到具有(220)取向的铜铟镓硒薄膜。该方法用磁控溅射方法制备出的CIGS薄膜取向为(220),用作铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池的吸收层,能有效降低晶界处的“电子-空穴”复合,提高电池转换效率。且其制备工艺简单、成本低,制备过程中无毒无污染,适合于工业化生产。

    一种悬索桥钢桁架加劲梁架设的窗口铰接法

    公开(公告)号:CN103103923B

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201210472077.X

    申请日:2012-11-20

    IPC分类号: E01D21/00

    摘要: 本发明公开了一种用于悬索桥钢桁加劲梁架设施工的窗口铰接法。在钢桁加劲梁架设阶段根据施工条件及加劲梁受力要求将部分加劲梁段间采用临时铰接,利用加劲梁架设阶段或桥面板安装阶段的加劲梁线形变化,实现临时铰接口逐步无应力固接,在加劲梁架设阶段或桥面板安装阶段完成全部临时铰向固接的转换。

    片状纳米形貌和带状纳米形貌的可控六方相In2Se3的制备方法

    公开(公告)号:CN103526172A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310499546.1

    申请日:2013-10-22

    摘要: 片状纳米形貌和带状纳米形貌的可控六方相In2Se3的制备方法,其中片状纳米形貌的In2Se3的制备方法是:A、将基片超声清洗,然后用热氮气干燥后放入磁控溅射设备的溅射室,B、在氩气气氛下用In2Se3靶材进行70-80秒的磁控溅射,溅射功率为4-8W/cm2,衬底温度为350-370℃。带状纳米形貌的In2Se3的制备方法则是:A、B两步操作后,再将衬底温度升高至基片的软化温度,纵向加机械压力,使基片发生曲率半径为3~50m的弯曲,并持续8-12min;然后再次沉积200-250秒。该方法能制备出具有完整纳米片状形貌和带状形貌的In2Se3,且其制备效率高,成本低,适合于工业化生产。

    一种磁控溅射法制备Bi<base:Sub>2</base:Sub>Se<base:Sub>3</base:Sub>薄膜的方法

    公开(公告)号:CN104152856B

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201410329154.5

    申请日:2014-07-11

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/58 C23C14/06

    摘要: 一种磁控溅射法制备Bi2Se3薄膜的方法,其步骤主要是:a、清洗基片;b、溅射准备:将硅基片干燥后放在衬底上,在溅射靶上安装纯度为99.99%的Bi2Se3靶材;c、溅射Bi2Se3薄膜:将溅射室抽真空至气压小于2×10‑4Pa,再通入99.995%的氩气,使溅射室气压为0.4‑0.6Pa,衬底温度为360℃,进行功率为4‑6W/cm2的60‑600秒的溅射沉积;d、后退火处理:将沉积后的硅基片和硒粒封入气压小于1×10‑2Pa的真空石英管中,置于管式炉中进行氩气保护气氛下,250℃‑300℃、2‑3小时的后退火处理,即得。该方法的真空条件要求低、制备时间短、成本低。

    一种用于大跨度桥梁的组合截面桥塔

    公开(公告)号:CN102747684B

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201210253508.3

    申请日:2012-07-23

    IPC分类号: E01D19/14

    摘要: 本发明公开了一种用于大跨度桥梁的组合截面桥塔,由混凝土中心塔柱10和对称设置在混凝土中心塔柱两侧的左钢箱20和右钢箱30组成,中心塔柱位于组合截面中央区域,混凝土中心塔柱内设置有电梯井11;钢箱与混凝土中心塔柱之间采用剪力键联接构件连接。本发明将钢结构与混凝土结构在横截面上进行组合。组合截面充分发挥了混凝土结构承压性能好和钢结构抗弯性能好的特点,可适用于各种类型桥塔,尤其适用于对承重及塔顶偏位要求较高的大跨度桥梁的桥塔,具有经济性好,结构受力明确等特点。

    一种(220)取向的铜铟镓硒薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN103531661A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310498733.8

    申请日:2013-10-22

    IPC分类号: H01L31/18 C23C14/35

    摘要: 一种(220)取向的铜铟镓硒薄膜制备方法,其步骤主要是:A:清洗基片;B:预溅射;C:溅射沉积薄膜:保持溅射功率为5W/cm2,基片温度为320-380℃,并将氩气气压调节为1.0~4.0Pa进行10分钟的溅射;之后将氩气气压降低至0.5Pa,并在基片上施加20~30V的偏压,进行2小时的溅射,即得到具有(220)取向的铜铟镓硒薄膜。该方法用磁控溅射方法制备出(220)取向的CIGS薄膜,以其制备的电池转换效率高。且其制备工艺简单、成本低,制备过程中无毒无污染,适合于工业化生产。