一种平面栅GaN垂直互补场效应晶体管反相器

    公开(公告)号:CN119789511A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411658383.1

    申请日:2024-11-19

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,且公开了一种平面栅GaN垂直互补场效应晶体管反相器,器件结构自下而上包括衬底、第一晶体管、石墨烯层和第二晶体管,第一源电极和第一漏电极沿水平方向布置在n管GaN沟道层的两端,第二源电极和第二漏电极沿水平方向布置在p管GaN沟道层的两端,在第一晶体管与第二晶体管之间的石墨烯层上布置可同时控制第一晶体管与第二晶体管的栅电极。在此结构基础上,将n型和p型晶体管的漏极用空气桥结构相连接并作为输出端,栅极作为输入端,p型晶体管的源极接高电平,n型晶体管的源极接低电平,实现反相器,其栅控能力强,漏电小,具有高效、低功耗的电子传输特性,在保持高性能的同时,具有更小的占地面积,提高了集成度。

    一种多沟槽金刚石场效应晶体管结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN119789463A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411623428.1

    申请日:2024-11-13

    Abstract: 本发明涉及半导体器件技术领域,且公开了一种多沟槽金刚石场效应晶体管结构及其制备方法,包括金刚石衬底,终端表面位于金刚石衬底表面,由若干个沟槽的侧面、底面和鳍型台面顶面连接形成,P+金刚石层分别位于金刚石终端表面的两端,源电极位于终端表面的一侧的P+金刚石层之上,漏电极位于终端表面的源电极相对的另一端的的P+金刚石层之上,栅介质覆盖在源电极和漏电极中间的终端表面上,栅电极位于栅介质上,且位于源电极和漏电极的之间,在同一水平侧向尺寸下增大了表面二维空穴气的密度,提高了金刚石晶体管的电流密度,降低了金刚石晶体管的导通电阻,也提高了栅电极对二维空穴气沟道的栅控能力,减少了金刚石晶体管的关态电流和功耗。

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