公开(公告)号：CN116855789A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202310862518.5

申请日：2023-07-14

申请人： 云南贵金属实验室有限公司 ,  贵研铂业股份有限公司

发明人： 赵琪 ,  施晨琦 ,  闻明 ,  许彦亭 ,  李治东 ,  普志辉 ,  刘牛 ,  卯明辉

IPC分类号： C22C1/08 ,  C01B32/184 ,  C23G1/10 ,  C23G1/12 ,  C22C9/00 ,  C22C14/00 ,  C22C19/03 ,  C22C21/00

摘要： 本发明公开了一种原位生长石墨烯增强泡沫金属骨架基复合材料的制备方法，是将泡沫金属骨架作为基体，通过化学法结合煅烧的方法在泡沫金属骨架表面原位生长石墨烯，从而制备得到原位生长石墨烯增强泡沫金属骨架基复合材料；步骤包括：1)去除泡沫金属骨架表面的杂质；2)配制含碳有机物和碳量子点的混合溶液，将泡沫金属骨架浸泡于溶液中；3)置于放电等离子烧结系统中进行热处理。本发明在泡沫金属骨架表面原位生长石墨烯，其中石墨烯的微观形貌及含量可控；溶液浸泡法结合热处理工艺可实现石墨烯在泡沫金属骨架内部孔隙中的原位生长，从而可进一步提高泡沫金属骨架的综合服役性能。

公开(公告)号：CN116970853A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202310862536.3

申请日：2023-07-14

申请人： 云南贵金属实验室有限公司 ,  贵研铂业股份有限公司

发明人： 赵琪 ,  许彦亭 ,  闻明 ,  施晨琦 ,  李治东 ,  普志辉 ,  刘牛 ,  卯明辉

IPC分类号： C22C27/04 ,  B22F1/00 ,  B22F9/04 ,  B22F1/145 ,  B22F1/12 ,  B22F3/10 ,  B22F3/14

摘要： 本发明涉及一种钨钛靶材坯料的制备方法，包括：1)先通过纯钨粉体和纯钛粉体进行高能球磨增加两者表面缺陷程度，有利于提高烧结阶段的钨钛之间的扩散程度；2)对钨钛混合粉体进行通氢还原降低其表面氧含量；3)添加氢化钛粉体与钨钛混合粉体进行二次均匀化球磨，利用氢化钛在预烧结阶段的分解产氢作用降低块体钨钛靶材坯料内部的含氧量；4)利用预烧结和致密化烧结实现钨钛靶材坯料气体含量降低和微观结构可控性制备；5)利用热压塑性变形处理进一步提高钨钛靶材坯料的致密度和钨钛之间的扩散程度。本发明实现了对于钨钛靶材坯料致密度的提高、含氧量的降低和微观结构的可控性制备，所制备的钨钛靶材服役性能得到了提高。

公开(公告)号：CN117921021A

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202311669336.2

申请日：2023-12-07

申请人： 贵研铂业股份有限公司 ,  云南贵金属实验室有限公司

发明人： 普志辉 ,  巢云秀 ,  刘子其 ,  王传军 ,  闻明 ,  周利民 ,  施晨琦 ,  李治东 ,  刘牛 ,  朱武勋

IPC分类号： B22F9/30 ,  B22F1/142 ,  B22F1/145 ,  C22B11/02 ,  C22B11/00 ,  C22B7/00

摘要： 本发明公开了一种从铱残靶及其机加工废料中回收制备高纯铱粉的方法，包括如下步骤：(1)铱残靶及其机加工废料预处理；(2)混碱液化；(3)氧化造液；(4)选择性晶化；(5)热分解+高温氢氛围脱氧；(6)酸煮除杂。通过本发明可实现铱残靶及其机加工废料中回收提纯高纯铱粉，粉末粒径小于5μm，纯度大于99.999％，粉末均匀性较好，可用作信息存储用铱溅射靶材原料。

公开(公告)号：CN117606330A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202311600340.3

申请日：2023-11-28

申请人： 云南贵金属实验室有限公司 ,  贵研铂业股份有限公司

发明人： 许彦亭 ,  闻明 ,  沈月 ,  赵琪 ,  王传军 ,  普志辉 ,  施晨琦

IPC分类号： G01B5/06 ,  C23C14/35

摘要： 本发明公开了一种带背板的平面溅射靶材使用寿命的预估方法，主要针对整体原始厚度较薄、分离解绑后容易产生翘曲、靶材边缘不溅射或几乎不溅射的带背板的平面溅射靶材。具体方法是通过升温的方式分离溅射靶材与背板，通过模具硅胶确定溅射靶材最深溅射轨道，以所测边缘厚度最大值与所测最深溅射轨道厚度最小值的差值即最大厚度差作为溅射最大消耗厚度，以此为参考，预估剩余最小厚度消耗完的溅射功耗，进而预估溅射靶材使用寿命。本发明的方法操作简单，适合无三坐标仪、三维扫描仪等精密测量仪器的厂家操作，为带背板的平面靶材使用寿命的预估提供指导，保证溅射靶材的使用安全。

公开(公告)号：CN116875952A

公开(公告)日：2023-10-13

申请号：CN202310839299.9

申请日：2023-07-10

申请人： 云南贵金属实验室有限公司 ,  贵研铂业股份有限公司

发明人： 王传军 ,  闻明 ,  巢云秀 ,  沈月 ,  施晨琦 ,  许彦亭 ,  李思勰 ,  刘牛 ,  普志辉

IPC分类号： C23C14/35 ,  B22F3/14 ,  B22F3/24

摘要： 本发明公开了一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途，该溅射靶材氧含量小于50ppm，表面粗晶层厚度小于50um，平均晶粒尺寸2‑8微米，晶界处孔洞呈近球形，直径小于1um，靶材相对密度大于理论密度的99％。制备方法以具有形貌和粒径分布可控的高纯钌粉为原料，通过真空热压烧结法制备钌靶材；通过对真空度控制、加压烧结获得靶材坯料，最终获得具有低氧高密度且具有良好机加工性能的溅射靶材。本发明通对粉末形貌和粒径分布以及真空热压烧结工艺的控制，改善了钌靶氧含量高、表面粗晶层厚、致密度低、机加工性能差等缺点，获得低氧含量和高致密度且加工性能好的溅射靶材，避免常规热压烧结工艺制备的靶材加工困难的缺点。

公开(公告)号：CN114289727A

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN202111501964.0

申请日：2021-12-09

申请人： 贵研铂业股份有限公司

发明人： 巢云秀 ,  闻明 ,  施晨琦 ,  周利民 ,  管伟明 ,  王传军 ,  李思勰 ,  沈月 ,  许彦亭 ,  李治东 ,  刘牛

IPC分类号： B22F9/22 ,  B22F1/145 ,  B22F1/065

摘要： 本发明公开了一种高均质微粒径高纯钌粉及其制备方法，所述高纯钌粉的由重量百分浓度的钌离子水溶液、沉淀剂和分散保护剂制备得到；所述高纯钌粉纯度≥99.999%，近球形，分散性好，平均粒径＜3μm；所述高纯钌粉由前驱体制备、前驱体煅烧、前驱体还原、钌粉纯化工艺制备获得。本发明采用化学液相法通过改变反应条件的一种或几种可以有效低控制反应进程，有效控制反应生成物的粒径、形貌；选择了不参与反应、易溶于水的高分子树脂作为分散保护剂，通过物理吸附作用，能有效控制反应生成物的粒径大小，使形貌趋于球形生长，同时改善分散性，助于获得高均质优分散性的产物。本发明获得具有尺寸稳定的微米粒径钌粉，其尺度在1~3μm之间得到控制。从附图可见钌粒子具有尺度均匀、呈类球形的特点，颗粒间分散性好。