一种钨钛靶材坯料的制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116970853A

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202310862536.3

    申请日:2023-07-14

    摘要: 本发明涉及一种钨钛靶材坯料的制备方法,包括:1)先通过纯钨粉体和纯钛粉体进行高能球磨增加两者表面缺陷程度,有利于提高烧结阶段的钨钛之间的扩散程度;2)对钨钛混合粉体进行通氢还原降低其表面氧含量;3)添加氢化钛粉体与钨钛混合粉体进行二次均匀化球磨,利用氢化钛在预烧结阶段的分解产氢作用降低块体钨钛靶材坯料内部的含氧量;4)利用预烧结和致密化烧结实现钨钛靶材坯料气体含量降低和微观结构可控性制备;5)利用热压塑性变形处理进一步提高钨钛靶材坯料的致密度和钨钛之间的扩散程度。本发明实现了对于钨钛靶材坯料致密度的提高、含氧量的降低和微观结构的可控性制备,所制备的钨钛靶材服役性能得到了提高。

    一种碗形靶材的机加工辅助工装及加工方法

    公开(公告)号:CN117620231A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311645317.6

    申请日:2023-12-04

    IPC分类号: B23B5/00 B23B31/103 B23B1/00

    摘要: 本发明公开了一种碗形靶材的机加工辅助工装及加工方法,该工装包括碗形弹性组件、内撑件及紧固螺栓;碗形弹性组件外侧面呈一定锥度,其大直径端中心区域下凹,内侧壁与外侧锥度相同,沿着其外边缘均分有数条沟槽;内撑件呈锥台状;紧固螺栓穿过碗形弹性组件中心过孔并紧固内撑件,使得碗形弹性组件向外扩张并夹持住碗形靶坯。加工方法包括:靶坯与工装装配,工装将碗形靶坯的内壁撑住;对已装配夹具的碗形靶坯进行装夹,外表面车削加工;靶坯反向装夹,内表面车削加工,对碗底内侧的弧形采用类双曲线的平滑过程方式进行加工。该方法不仅简单易操作、加工效率高、用料节约,而且加工的碗形靶材具有尺寸精度高、壁厚均匀、表面粗糙度小等优点。

    一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途

    公开(公告)号:CN116875952A

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202310839299.9

    申请日:2023-07-10

    IPC分类号: C23C14/35 B22F3/14 B22F3/24

    摘要: 本发明公开了一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途,该溅射靶材氧含量小于50ppm,表面粗晶层厚度小于50um,平均晶粒尺寸2‑8微米,晶界处孔洞呈近球形,直径小于1um,靶材相对密度大于理论密度的99%。制备方法以具有形貌和粒径分布可控的高纯钌粉为原料,通过真空热压烧结法制备钌靶材;通过对真空度控制、加压烧结获得靶材坯料,最终获得具有低氧高密度且具有良好机加工性能的溅射靶材。本发明通对粉末形貌和粒径分布以及真空热压烧结工艺的控制,改善了钌靶氧含量高、表面粗晶层厚、致密度低、机加工性能差等缺点,获得低氧含量和高致密度且加工性能好的溅射靶材,避免常规热压烧结工艺制备的靶材加工困难的缺点。

    一种靶材加工装置和加工方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110592540A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201910923533.X

    申请日:2019-09-27

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本发明公开了一种靶材的加工装置和加工方法。靶材的加工装置包括夹具、内固定件和外固定件。内固定件包括底板和内定位销,外固定件包括压板和外定位销。靶材加工方法包括:提供夹具,将靶材装夹于夹具上,加工靶材的溅射面;将靶材翻面,在靶材的装配面开设内固定孔;提供底板,在底板上开设内定位孔;采用固定件将靶材固定在底板上;将底板装夹于夹具上,加工靶材的装配面的外曲面;提供压板,在压板上加工配合曲面;在底板开设外固定孔,在压板开设第三固定孔;将靶材固定于底板和压板之间;加工靶材的内曲面和定位槽。本发明的优点是定位精度高,能保证靶材加工的尺寸和精度,同时效率高,成本低。

    一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111254398A

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN202010186276.9

    申请日:2020-03-17

    摘要: 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法,铂溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸为5~20 ;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于3。制备方法包括:选择4N及以上纯度的铂原料,熔炼获得铸锭;随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压,消除缺陷;再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制;再进行低温退火;最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合,较低压制及退火温度组合,获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜,其制备方法工艺简便,条件温和易操控,大大提高生产效率,极大地节约制备成本。

    一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111254398B

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202010186276.9

    申请日:2020-03-17

    摘要: 本发明公开一种晶粒高定向取向的铂溅射靶材及其制备方法,铂溅射靶材呈现(111)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸为5~20;所述(111)晶面与(200)晶面积分强度比不低于3。制备方法包括:选择4N及以上纯度的铂原料,熔炼获得铸锭;随后进行超声波探伤测定铸锭内部缺陷分布并对其进行真空热压,消除缺陷;再将锭坯浸泡在液氮容器中单向压制;再进行低温退火;最后机加工获得靶材。本发明采用浇铸速度和熔炼炉功率组合,较低压制及退火温度组合,获得性能优异的铂溅射靶材。靶材的高致密度和(111)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、膜厚均匀的铂薄膜,其制备方法工艺简便,条件温和易操控,大大提高生产效率,极大地节约制备成本。