具有调节装置的带电粒子多射束光刻系统

    公开(公告)号:CN102687233A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201080059454.6

    申请日:2010-10-26

    IPC分类号: H01J37/317 H01J37/04

    摘要: 一种用于将图案传送到目标表面上的带电粒子光刻系统。该系统包括:用于生成多个带电粒子射束的波束产生器(3)、定义柱体的多个射束、具有用于阻挡射束到达目标表面的表面和在表面中的用于允许射束到达目标表面的孔隙阵列的波束停止阵列(10),以及,用于调节射束,以通过使射束偏转或不偏转使得射束被或不被波束停止阵列阻挡,来阻止一个或更多射束到达目标表面或允许一个或更多射束到达目标表面的调节装置(9)。调节装置包括:布置成阵列的用于让射束通过调节装置的多个孔隙、布置成阵列的多个调节器(30),每个调节器配备有在孔隙的相对侧上延伸用于生成跨越孔隙的电压差的电极(32、34),以及,布置成阵列的多个光敏元件(40),用于接收经调节的光束并将光束转换成用于激励调节器的电信号,其中,光敏元件被放置在柱体中,其中,调节装置被再划分成多个备选的波束区域(51)和非波束区域(52),调节器的阵列置于波束区域中,而光敏元件的阵列置于非波束区域中,并与相邻的波束区域中的调节器通信。

    箝制基板的方法及箝夹准备单元

    公开(公告)号:CN102422385B

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201080017866.3

    申请日:2010-02-18

    IPC分类号: H01L21/00 G03F7/00

    摘要: 本发明涉及一种将基板(22)箝制于基板支撑结构(23)的表面上的方法。首先,将液体施加于该基板支撑结构的表面上。该表面设有多个接触组件。所施加的液体使得接触组件被液体层所完全覆盖。接着,提供所述基板并将所述基板放置于所述液体层上。最后,从所述基板下移除液体,使得所述基板搁置于多个接触组件上且被所述基板与所述基板支撑结构的表面之间的液体的毛细层所施加的毛细箝制力所箝制。