公开(公告)号：CN115066739A

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN202180013090.6

申请日：2021-02-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 付晨曦 ,  狄隆 ,  L·库因德尔斯玛 ,  曾国峰 ,  P·P·亨佩尼尤斯 ,  刘瑜 ,  罗映

IPC: H01J41/12 ,  F16L23/032

Abstract: 用于对安装有泵的真空容器的振动进行阻尼的设备和系统包括：泵体以及与泵体耦合的阻尼元件，其中泵体和阻尼元件形成基于质量的阻尼器，并且其中泵体形成基于质量的阻尼器的质量部件；并且阻尼元件形成基于质量的阻尼器的阻尼部件。设备和系统还包括：泵体，其被配置为固定到带电粒子检查设备的柱体；与泵体耦合的传感器；与泵体耦合的致动器；以及与传感器和致动器通信地耦合的电路，该电路用于接收指示柱体的振动的运动数据、基于运动数据来确定阻尼、以及根据阻尼来将致动器致动为对柱体的振动作出反应。

公开(公告)号：CN114287051A

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN202080060552.5

申请日：2020-08-25

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 王義向 ,  刘士兵 ,  曹善会 ,  邱康生 ,  窦菊英 ,  罗映 ,  李瀛龙 ,  李强 ,  R·范德威尔克 ,  J-G·C·范德托恩

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/683

Abstract: 公开了用于晶片接地和晶片接地位置调节的系统和方法。第一方法可以包括：接收与通过电信号接地的晶片相关联的电特性的第一值；使用至少第一值确定第一控制参数；以及使用第一控制参数和第一值控制电信号的特性。用于调节晶片的接地位置的第二方法可以包括：终止晶片与接触晶片的至少一个接地引脚之间的电连接；调节晶片与接地引脚之间的相对位置；以及恢复接地引脚与晶片之间的电连接。第三方法可以包括：引起接地引脚通过撞击穿透晶片上的涂层；以及在接地引脚与晶片之间建立电连接。

公开(公告)号：CN113614872A

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：CN201980086941.2

申请日：2019-12-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 罗映 ,  董仲华 ,  殷学会 ,  狄隆 ,  邓年沛 ,  方伟 ,  浦凌凌 ,  费若冲 ,  朱博航 ,  刘瑜

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/20 ,  H01J37/21 ,  H01J37/28

Abstract: 公开了一种带电粒子束系统(300)。带电粒子束系统包括平台(201)，该平台被配置为保持样本(203)并且能够在X‑Y‑Z轴中的至少一个轴上移动。带电粒子束系统还包括用于确定平台的横向位移和竖直位移的定位感测系统(350,340)以及束偏转控制器(367)，该束偏转控制器(367)被配置为：施加第一信号，以将入射在样本上的初级带电粒子束(330)偏转来至少部分地补偿横向位移；以及施加第二信号，以调整入射在样本上的经偏转的带电粒子束的焦点来至少部分地补偿平台的竖直位移。第一信号和第二信号可以包括分别具有在10kHz至50kHz以及50kHz至200kHz的范围中的高带宽的电信号。另外，公开了一种非暂时性计算机可读介质，包括用于使装置(300)执行方法的指令的集合，装置包括带电粒子源(310)以生成初级带电粒子束(314,330)，该方法包括：确定平台(201)的横向位移，其中平台能够在X‑Y轴中的至少一个轴上移动；以及指示控制器(367)施加第一信号，以使入射在样本(203)上的初级带电粒子束偏转来至少部分地补偿横向位移。

公开(公告)号：CN119452451A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380050119.7

申请日：2023-09-01

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 罗映 ,  董仲华

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22 ,  H01J37/26

Abstract: 系统、装置和方法包括基于成像系统的功率输入生成参考信号；生成指示样品的扫描的扫描信号；从根据扫描而生成的图像中提取第一扰动数据和第二扰动数据；使用所提取的第一扰动数据和第二扰动数据、参考信号和扫描信号生成图像扰动的校准频率、幅度和相位；将图像扰动的校准频率、幅度和相位与参考信号进行组合以生成补偿信号；并且使用补偿信号来控制多个偏转驱动器，该多个偏转驱动器被用于操纵带电粒子以扫描样品。

公开(公告)号：CN113711126B

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN201980092597.8

申请日：2019-12-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J-G·C·范德托恩 ,  J·G·A·胡尹克 ,  H·W·H·赛维特 ,  A·E·库伊克 ,  M·J·C·龙德 ,  A·M·韦林克 ,  刘士兵 ,  罗映 ,  王義向 ,  陈嘉尧 ,  朱博航 ,  J·范索伊斯特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/00 ,  H01J37/20

Abstract: 公开了一种用于保持物体的载物台，该载物台包括：被布置为将物体夹持在载物台上的静电夹具；被布置为中和静电夹具的残余电荷的中和器；被布置为控制中和器的控制单元，其中残余电荷是在没有电压被施加到静电夹具时存在于静电夹具上的静电荷。

公开(公告)号：CN118251747A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202280075606.4

申请日：2022-10-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 王少谦 ,  P·P·亨佩尼尤斯 ,  罗映 ,  O·阿尔贾奈德赫

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  B25J15/00

Abstract: 用于减少腔室的振动的系统、装置和方法可以包括：获得与被刚性耦合到腔室的传送设备相关联的预定义运动数据；在传送设备移动之前，基于预定义运动数据来确定传送设备的移动；基于移动来确定由移动引起的要被施加到腔室的第一力；并且使腔室的支撑设备在传送设备移动时向腔室施加第二力以抵消第一力。

公开(公告)号：CN113711126A

公开(公告)日：2021-11-26

申请号：CN201980092597.8

申请日：2019-12-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J-G·C·范德托恩 ,  J·G·A·胡尹克 ,  H·W·H·赛维特 ,  A·E·库伊克 ,  M·J·C·龙德 ,  A·M·韦林克 ,  刘士兵 ,  罗映 ,  王義向 ,  陈嘉尧 ,  朱博航 ,  J·范索伊斯特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/00 ,  H01J37/20

Abstract: 公开了一种用于保持物体的载物台，该载物台包括：被布置为将物体夹持在载物台上的静电夹具；被布置为中和静电夹具的残余电荷的中和器；被布置为控制中和器的控制单元，其中残余电荷是在没有电压被施加到静电夹具时存在于静电夹具上的静电荷。

公开(公告)号：CN114287051B

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202080060552.5

申请日：2020-08-25

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 王義向 ,  刘士兵 ,  曹善会 ,  邱康生 ,  窦菊英 ,  罗映 ,  李瀛龙 ,  李强 ,  R·范德威尔克 ,  J-G·C·范德托恩

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01L21/683

Abstract: 公开了用于晶片接地和晶片接地位置调节的系统和方法。第一方法可以包括：接收与通过电信号接地的晶片相关联的电特性的第一值；使用至少第一值确定第一控制参数；以及使用第一控制参数和第一值控制电信号的特性。用于调节晶片的接地位置的第二方法可以包括：终止晶片与接触晶片的至少一个接地引脚之间的电连接；调节晶片与接地引脚之间的相对位置；以及恢复接地引脚与晶片之间的电连接。第三方法可以包括：引起接地引脚通过撞击穿透晶片上的涂层；以及在接地引脚与晶片之间建立电连接。

公开(公告)号：CN115298793A

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN202180022535.7

申请日：2021-03-18

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 王義向 ,  刘士兵 ,  罗映

IPC: H01J37/20 ,  H01L21/683

Abstract: 一种静电卡盘控制系统被配置为在晶片的检查过程期间利用，该静电卡盘控制系统包括载物台的静电卡盘，该载物台被配置为在检查过程期间被解除对接，其中静电卡盘包括多个部件，该多个部件被配置为在检查过程期间影响晶片与静电卡盘之间的相互作用；第一传感器，被配置为生成多个部件中的至少一些部件与晶片之间的测量数据；以及控制器，包括电路系统，该电路系统被配置为接收测量数据以确定晶片相对于静电卡盘的特性并且生成调整数据以使得能够在载物台被解除对接的同时基于所确定的特性来调整多个部件中的至少一些部件。