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公开(公告)号：CN116195023A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202180061360.0
申请日：2021-07-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·范索伊斯特
IPC: H01J37/075
Abstract: 一种发射器，被配置为发射带电粒子。发射器包括主体、金属层和带电粒子源层。主体具有尖端。金属层至少在该尖端上是第一金属。带电粒子源层在金属层上。尖端包括不同于第一金属的第二金属。
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公开(公告)号：CN110622276A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201880031355.3
申请日：2018-04-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J1/88 , H01J37/065
Abstract: 本发明涉及一种用于产生和发射诸如电子束之类的带电粒子束的带电粒子源模块，包括：框架，其包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；用于产生诸如电子束的带电粒子束的带电粒子源装置，其中诸如电子源的所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；以及布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述连接组件。
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公开(公告)号：CN118414686A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202280083344.6
申请日：2022-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·斯科特兹 , A·V·G·曼格努斯 , 任岩 , E·P·斯马克曼 , J·范索伊斯特
IPC: H01J37/22
Abstract: 一种被配置为投射带电粒子的多射束的带电粒子光学装置，装置包括：带电粒子设备，该带电粒子设备在以下之间切换：(i)操作配置，其中该设备被配置为沿着从多射束的源延伸到样品的操作束路径将多射束投射到所样品，和(ii)监测配置，其中该设备被配置为沿着从源延伸到检测器的监测束路径将多射束投射到检测器；其中监测束路径沿着操作束路径从所述检查束路径中途转向。
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公开(公告)号：CN116802764A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202180092385.7
申请日：2021-12-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·W·H·K·斯蒂恩布林克 , J·J·科宁 , J·范索伊斯特 , M·J-J·维兰德
IPC: H01J37/12
Abstract: 本文中公开了一种电子光学器件、透镜组件和电子光学装置列。电子光学器件包括阵列衬底和邻接衬底，并且被配置为在衬底之间提供电位差。孔径阵列被限定在衬底中的每个衬底中，以用于电子束波的路径。阵列衬底具有阶梯式厚度，使得阵列衬底在与孔径阵列相对应的区域中比阵列衬底的另一区域更薄。
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公开(公告)号：CN113711126B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN201980092597.8
申请日：2019-12-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J-G·C·范德托恩 , J·G·A·胡尹克 , H·W·H·赛维特 , A·E·库伊克 , M·J·C·龙德 , A·M·韦林克 , 刘士兵 , 罗映 , 王義向 , 陈嘉尧 , 朱博航 , J·范索伊斯特
Abstract: 公开了一种用于保持物体的载物台，该载物台包括：被布置为将物体夹持在载物台上的静电夹具；被布置为中和静电夹具的残余电荷的中和器；被布置为控制中和器的控制单元，其中残余电荷是在没有电压被施加到静电夹具时存在于静电夹具上的静电荷。
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公开(公告)号：CN118251745A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280053647.3
申请日：2022-05-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·范索伊斯特 , R·R·文斯特拉 , E·P·斯马克曼 , T·范祖芬 , A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/073
Abstract: 本公开涉及一种带电粒子射束装置，被配置为朝向样品投射带电粒子射束。该带电粒子射束装置包括被配置为朝向样品投射相应带电粒子射束的多个带电粒子光学柱，其中每个带电粒子光学柱包括：带电粒子源，该带电粒子源被配置为朝向样品发射带电粒子射束，该带电粒子源被包括在源阵列中；物镜，该物镜包括静电电极，该静电电极被配置为朝向带电粒子射束引导样品；以及检测器，该检测器与物镜阵列相关联，该检测器被配置为检测从样品发射的带电粒子信号。物镜是带电粒子光学柱的射束最下游元件，该射束最下游元件被配置为影响朝向样品引导的带电粒子射束。
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公开(公告)号：CN116491030A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202180063145.4
申请日：2021-08-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·W·H·J·范德克鲁恩 , J·范索伊斯特
IPC: H01R13/53
Abstract: 本文公开了用于将真空工具的馈通装置电连接到高压电源的连接器，连接器包括：连接器导线组件，其被配置为与高压电源电连接；以及包括通道的连接器绝缘体，通道被配置为延伸到连接器绝缘体中并且接收馈通引脚，以将连接器导线组件与馈通引脚电连接；其中连接器绝缘体被配置为与馈通装置接合，使得连接器绝缘体的边界表面沿着通道的纵向轴线的方向基本上双向地延伸。
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公开(公告)号：CN110622276B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN201880031355.3
申请日：2018-04-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J1/88 , H01J37/065
Abstract: 本发明涉及一种用于产生和发射诸如电子束之类的带电粒子束的带电粒子源模块，包括：框架，其包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件；用于产生诸如电子束的带电粒子束的带电粒子源装置，其中诸如电子源的所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处；以及布置在所述第一框架部分处的电力连接组件，其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述连接组件。
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公开(公告)号：CN118402034A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202280082769.5
申请日：2022-11-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 一种带电粒子评估装置，包括：带电粒子束设备；致动样品台；热部件和热补偿器。致动样品台被配置为保持样品。热部件被配置为操作使得在操作期间热量向保持在样品保持器上的样品辐射。热部件小于样品。热补偿器被配置为加热样品以便降低其中的热梯度。
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公开(公告)号：CN115335949A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202180024634.9
申请日：2021-03-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·范索伊斯特 , G·S·M·贝格隆德 , R·W·J·M·黄·芬恩·钟 , D·马丁内斯·内格雷特·加斯奎 , L·迪努·古特勒
Abstract: 一种用于将带电粒子多射束投射到样品的带电粒子设备，该设备包括：被配置为生成朝向样品的初级束的初级柱、以及用于对样品的带电粒子泛射的泛射柱。泛射柱包括：带电粒子源(301)，被配置为沿着束路径发射带电粒子束；源透镜(310)，被布置在带电粒子源的下游；聚束透镜(320)，被布置在源透镜的下游；以及孔径体(350)，被布置在聚束透镜的下游，其中孔径体用于使带电粒子束的部分通过；并且其中源透镜是可控制的以便可变地设置带电粒子束在源透镜下游的束角。
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