公开(公告)号：CN109075004B

公开(公告)日：2021-10-26

申请号：CN201780024598.X

申请日：2017-04-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·斯米茨 ,  J·J·科宁 ,  C·F·J·洛德韦克 ,  H·W·穆克 ,  L·阿塔尔德

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/02

Abstract: 公开了一种带电粒子束系统，其包括：带电粒子束发生器，其用于产生带电粒子的射束；带电粒子光学列，其布置在真空腔中，带电粒子光学列被布置成将带电粒子的射束投射到目标上，带电粒子光学列包括影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件；提供清洁剂的源；导管，其连接到源并且布置成将清洁剂朝向带电粒子光学元件引入；其中带电粒子光学元件包括：带电粒子传输孔，其用于传输和/或影响带电粒子的射束；以及至少一个通气孔，其在带电粒子光学元件的第一侧和第二侧之间提供流动路径；其中通气孔的横截面大于带电粒子传输孔的横截面。此外，公开了一种用于防止或移除带电粒子传输孔中污染的方法，其包括在射束发生器运行时引入清洁剂的步骤。

公开(公告)号：CN113871279A

公开(公告)日：2021-12-31

申请号：CN202111172533.4

申请日：2017-04-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·斯米茨 ,  J·J·科宁 ,  C·F·J·洛德韦克 ,  H·W·穆克 ,  L·阿塔尔德

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/26 ,  H01J37/317 ,  H01J37/32

Abstract: 公开了一种带电粒子束系统，其包括：带电粒子束发生器，其用于产生带电粒子的射束；带电粒子光学列，其布置在真空腔中，带电粒子光学列被布置成将带电粒子的射束投射到目标上，带电粒子光学列包括影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件；提供清洁剂的源；导管，其连接到源并且布置成将清洁剂朝向带电粒子光学元件引入；其中带电粒子光学元件包括：带电粒子传输孔，其用于传输和/或影响带电粒子的射束；以及至少一个通气孔，其在带电粒子光学元件的第一侧和第二侧之间提供流动路径；其中通气孔的横截面大于带电粒子传输孔的横截面。此外，公开了一种用于防止或移除带电粒子传输孔中污染的方法，其包括在射束发生器运行时引入清洁剂的步骤。

公开(公告)号：CN115335952A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202180024180.5

申请日：2021-03-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·B·斯特罗姆 ,  J·F·C·范古普 ,  J·C·J·德兰根 ,  A·Y-F·阿亚尔 ,  M·M·布鲁伊宁克 ,  C·R·范登贝格 ,  C·奥滕 ,  L·迪努·古特勒 ,  M·斯米茨

IPC: H01J37/09 ,  G01N23/2251 ,  H01J37/317 ,  B41J2/14 ,  H01J9/02 ,  H01J29/80

Abstract: 本文公开了一种包括多个衬底的衬底堆叠，其中：衬底堆叠中的每个衬底包括至少一个对准开口组；在每个衬底中的至少一个对准开口组被对准，以用于使光束穿过每个衬底中对应的对准开口；并且每个衬底包括至少一个对准开口，该至少一个对准开口具有比其他衬底中对应的对准开口更小的直径。

公开(公告)号：CN116057662A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202180055634.5

申请日：2021-08-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： D·F·瓦尔沃特 ,  M·斯米茨 ,  T·范德皮尤特

IPC: H01J37/15

Abstract: 本文公开了一种致动器装置(70)，该致动器装置(70)包括：限定腔(71)的壁(504)；壳体(72)，从壁(504)突出并且限定与腔(71)流体连通的内部(73)；致动器(901)，包括：力施加器(74)，被配置为在腔(71)中的组件上施加力；以及致动机构(75)，被配置为驱动力施加器(74)，其中致动机构(75)的至少一部分是在壳体(72)的所述内部内并暴露于腔(71)；以及控制元件(76)，被配置为控制致动机构(75)，其中控制元件(76)经由密封件(77)延伸通过壳体(72)。

公开(公告)号：CN113871279B

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202111172533.4

申请日：2017-04-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·斯米茨 ,  J·J·科宁 ,  C·F·J·洛德韦克 ,  H·W·穆克 ,  L·阿塔尔德

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/26 ,  H01J37/317 ,  H01J37/32

Abstract: 公开了一种带电粒子束系统，其包括：带电粒子束发生器，其用于产生带电粒子的射束；带电粒子光学列，其布置在真空腔中，带电粒子光学列被布置成将带电粒子的射束投射到目标上，带电粒子光学列包括影响带电粒子的射束的带电粒子光学元件；提供清洁剂的源；导管，其连接到源并且布置成将清洁剂朝向带电粒子光学元件引入；其中带电粒子光学元件包括：带电粒子传输孔，其用于传输和/或影响带电粒子的射束；以及至少一个通气孔，其在带电粒子光学元件的第一侧和第二侧之间提供流动路径；其中通气孔的横截面大于带电粒子传输孔的横截面。此外，公开了一种用于防止或移除带电粒子传输孔中污染的方法，其包括在射束发生器运行时引入清洁剂的步骤。

公开(公告)号：CN115917698A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180042316.5

申请日：2021-06-03

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·奥滕 ,  P-P·克兰斯 ,  M·斯米茨 ,  L·德尔·廷 ,  C·泰武尼森 ,  Y-S·黄 ,  S·W·H·K·斯蒂恩布林克 ,  胡学让 ,  席庆坡 ,  罗希楠 ,  刘学东

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/18

Abstract: 本文所公开的是一种用于支撑被配置为操纵带电粒子设备中的带电粒子路径的装置的模块，该模块包括：被配置为支撑该装置的支撑布置，其中该装置被配置为操纵带电粒子设备内的带电粒子路径；以及被配置为在模块内移动支撑布置的支撑定位系统；其中模块被布置为在带电粒子设备中是现场可更换的。