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公开(公告)号：CN102163002B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201110042390.5
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70616
摘要： 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。本发明公开一种形成用于光刻设备的至少一个监控晶片的方法。监控晶片能够与扫描控制模块结合使用以定期地从监控晶片获取用于限定基线的测量结果，由此根据基线确定参数漂移。由此，可以实现对所述漂移执行容许和/或校正。通过使用所述光刻设备初始地曝光监控晶片以在监控晶片的每一个上执行多次曝光通过来确定基线。本发明还公开相关联的光刻设备。
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公开(公告)号：CN102754035A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201180009096.2
申请日：2011-01-14
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70616 , G03F7/70516 , G03F7/70525 , G03F9/7003 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7046
摘要： 一种控制光刻设备的扫描功能的方法。使用第一对准策略。监控晶片被曝光以确定与扫描功能相关的基准线控制参数。基准线控制参数周期性地从监控晶片重新获得。从基准线控制参数确定参数漂移。基于所述确定结果采取校正动作。使用不同于第一对准策略的第二对准策略曝光产品晶片。修正校正动作，从而在第二对准策略已经被用于曝光监控晶片的情况下、则使得实质上更接近本来应当做出的校正。
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公开(公告)号：CN102763040B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201180009597.0
申请日：2011-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70616
摘要： 光刻设备通过相对于彼此以一移动次序移动衬底和图案形成装置操作，使得图案被施加到衬底上的连续部分上。衬底的每一部分通过扫描操作来形成图案，其中图案形成装置通过辐射束来扫描且同时同步地通过图案化的辐射束扫描衬底，以便施加图案到衬底上的期望部分上。在每一扫描操作期间施加场内校正，以便补偿在扫描操作期间变化的扭曲效应。场内校正包括投影系统的一个或更多的性质的校正性变化和可选地图案形成装置和/或衬底台的平面外的移动。
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公开(公告)号：CN102754035B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201180009096.2
申请日：2011-01-14
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70616 , G03F7/70516 , G03F7/70525 , G03F9/7003 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7046
摘要： 一种控制光刻设备的扫描功能的方法。使用第一对准策略。监控晶片被曝光以确定与扫描功能相关的基准线控制参数。基准线控制参数周期性地从监控晶片重新获得。从基准线控制参数确定参数漂移。基于所述确定结果采取校正动作。使用不同于第一对准策略的第二对准策略曝光产品晶片。修正校正动作，从而在第二对准策略已经被用于曝光监控晶片的情况下、则使得实质上更接近本来应当做出的校正。
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公开(公告)号：CN101923290B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
摘要： 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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公开(公告)号：CN113168111B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN201980077324.6
申请日：2019-10-30
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了一种用于预测与在衬底上制造半导体器件的过程有关的产率的方法，该方法包括：获得将模型化参数转换为产率参数的经训练第一模型，上述模型化参数包括：a)与以下中的一项或多项相关联的几何参数：通过该过程制造的器件元件的几何特性、尺寸或位置，以及b)经训练自由参数；获得包括表征该过程的过程参数的过程参数数据；将过程参数数据转换为几何参数的值；以及使用经训练第一模型和几何参数的值来预测产率参数。
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公开(公告)号：CN117043683A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202280019583.5
申请日：2022-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种识别与对准标记中的不对称性相关的一个或多个主导性不对称模式的方法，该方法包括：使用多个对准条件，获得与至少一个衬底上的对准标记的测量结果相关的对准数据；识别对准数据的一个或多个主导性正交成分，一个或多个正交成分包括一数量的一起足以描述对准数据的方差的正交成分；以及如果不对称模式对应于与主导性正交成分之一最佳匹配的预期不对称模式形状，则将该不对称模式确定为主导性的。替代地，方法包括：对于每个已知的不对称模式，确定敏感度度量；以及如果敏感度度量高于敏感度阈值，则将不对称模式确定为主导性的。
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公开(公告)号：CN102163000B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201110042167.0
申请日：2011-02-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·V·帕迪瑞 , B·门奇奇科夫 , S·A·米德莱布鲁克斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70525 , G03F7/70625 , G03F7/70641
摘要： 本文公开了一种光刻设备和器件制造方法，尤其是一种控制光刻设备的扫描功能的方法以及如此配置的光刻设备。所述方法包括以下步骤：曝光监控晶片，以确定与所述扫描功能相关的基线控制参数；从所述监控晶片周期性地获取所述基线控制参数；根据所述基线控制参数确定参数漂移；和基于所述确定步骤进行校正动作，其中与用于在所述扫描控制模块和所述光刻设备之间的通信的参数表达不同的参数表达被用于控制所述扫描控制模块。
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公开(公告)号：CN102163002A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110042390.5
申请日：2011-02-18
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70616
摘要： 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。本发明公开一种形成用于光刻设备的至少一个监控晶片的方法。监控晶片能够与扫描控制模块结合使用以定期地从监控晶片获取用于限定基线的测量结果，由此根据基线确定参数漂移。由此，可以实现对所述漂移执行容许和/或校正。通过使用所述光刻设备初始地曝光监控晶片以在监控晶片的每一个上执行多次曝光通过来确定基线。本发明还公开相关联的光刻设备。
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公开(公告)号：CN1746775B
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200510113235.2
申请日：2005-08-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
摘要： 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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