公开(公告)号：CN105980932A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201480075272.6

申请日：2014-11-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F7/70683

Abstract: 一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN105980932B

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201480075272.6

申请日：2014-11-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G03F7/70683

Abstract: 种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括:照射目标,该目标具有交替的第和第二结构,其中第二结构的形式是依赖于焦距的,而第结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性;以及检测由目标重定向的辐射,以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量,其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。种用于形成这种目标的相关联的掩模和种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN108931891B

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201810681219.0

申请日：2014-11-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开的实施例涉及检查方法、光刻设备、掩模以及衬底。一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。

公开(公告)号：CN108931891A

公开(公告)日：2018-12-04

申请号：CN201810681219.0

申请日：2014-11-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： Y·J·L·M·范多梅伦 ,  P·D·恩格布罗姆 ,  L·G·M·克塞尔斯 ,  A·J·登博夫 ,  K·布哈塔查里亚 ,  P·C·欣南 ,  M·J·A·皮特斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开的实施例涉及检查方法、光刻设备、掩模以及衬底。一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。