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公开(公告)号：CN113039487B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN201980075526.7
申请日：2019-10-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·P·施密特-韦弗 , K·布哈塔查里亚 , M·科思
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种确定光刻装置的参数的方法，其中该方法包括提供第一基底的第一高度变化数据(602)，提供第一基底的第一性能数据(604)，以及基于第一高度变化数据和第一性能数据确定模型(606)。该方法还包括获取(608)第二基底的第二高度变化数据，将第二高度变化数据输入(609)到模型(610)，以及通过运行模型确定(612)第二基底的第二性能数据。基于第二性能数据，该方法确定(614)装置的参数。
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公开(公告)号：CN107533299B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201680020990.2
申请日：2016-03-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·M·威廉斯 , K·布哈塔查里亚 , P·P·宾特维诺斯 , G·陈 , M·艾伯特 , P·J·M·H·克奈里森 , S·摩根 , M·范德沙 , L·H·M·维斯塔彭 , J-S·王 , P·H·瓦德尼尔
Abstract: 一种方法，包括：执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价；从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案；接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据；以及使用测量数据来调整量测目标参数或量测选配方案参数。
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公开(公告)号：CN110553602A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910871671.8
申请日：2015-10-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种度量方法、计算机产品和系统，包括根据目标的测量值来确定目标的结构不对称的类型，以及执行目标的光学测量的模拟以确定与不对称类型相关联的不对称参数的值。一种方法包括执行目标的光学测量的模拟以确定与根据目标的测量值确定的目标的结构不对称的类型相关联的不对称参数的值，以及分析不对称参数对于与目标相关联的目标形成参数的变化的敏感度。一种方法包括使用被目标衍射的辐射的测量参数来确定目标的结构不对称参数，以及基于对于与目标相关联的目标形成参数的变化最不敏感的结构不对称参数来确定目标的测量光束的属性。
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公开(公告)号：CN109791367A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059171.3
申请日：2017-08-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70633 , G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/47 , G01N21/88 , G02F2202/023 , G03F7/705 , G03F7/70641
Abstract: 一种方法，包括：针对堆叠灵敏度和套刻灵敏度，评估用于对使用图案化工艺处理的量测目标进行测量的多个衬底测量选配方案，以及从多个衬底测量选配方案中选择堆叠灵敏度的值满足或越过阈值并且套刻灵敏度的值在距离套刻灵敏度的最大值或最小值的特定有限范围内的一个或多个衬底测量选配方案。
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公开(公告)号：CN106462076B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201480079475.2
申请日：2014-08-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/705 , G03F7/70158 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/708 , H01L23/544
Abstract: 由光刻工艺形成度量目标，每个目标包括底部光栅和顶部光栅。可以通过使用辐射照明每个目标并且观测衍射辐射中非对称性而度量光刻工艺的重叠性能。选择度量配方和目标设计的参数以便于最大化重叠测量的精度而不是可重复性。方法包括计算在(i)表示由顶部光栅衍射的辐射的第一辐射分量与(ii)表示在穿过顶部光栅和插入层之后由底部光栅衍射的辐射的第二辐射分量之间的相对幅度和相对相位的至少一个。顶部光栅设计可以修改以使得相对幅度接近均一。度量配方中照明辐射的波长可以调节以使得相对相位接近π/2或3π/2。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107111250A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071813.2
申请日：2015-10-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括根据目标的测量值来确定目标的结构不对称的类型，以及执行目标的光学测量的模拟以确定与不对称类型相关联的不对称参数的值。一种方法包括执行目标的光学测量的模拟以确定与根据目标的测量值确定的目标的结构不对称的类型相关联的不对称参数的值，以及分析不对称参数对于与目标相关联的目标形成参数的变化的敏感度。一种方法包括使用被目标衍射的辐射的测量参数来确定目标的结构不对称参数，以及基于对于与目标相关联的目标形成参数的变化最不敏感的结构不对称参数来确定目标的测量光束的属性。
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公开(公告)号：CN114270269B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202080058446.3
申请日：2020-07-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·潘迪 , S·G·J·马斯杰森 , K·布哈塔查里亚 , A·J·登博夫
Abstract: 公开了一种用于量测工具的照射和检测设备以及相关方法。该设备包括照射装置，该照射装置能够被操作以产生测量照射，该测量照射包括多个离散波长带并且在每个波长带内包括具有至多单个峰的光谱。该检测装置包括检测分束器以将散射辐射分成多个通道，每个通道与所述波长带中的不同的波长带相对应；以及至少一个检测器，用于分开地检测每个通道。
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公开(公告)号：CN117970750A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311792145.5
申请日：2017-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·布哈塔查里亚
Abstract: 公开了一种测量目标的方法、相关联的光刻方法和光刻单元。该方法包括：在衬底上在一个或多个先前层之上的当前层中通过光刻工艺对结构的曝光之后，测量所述目标，其中所述一个或多个先前层均已经经历蚀刻步骤，所述目标仅被包括在所述一个或多个先前层中的至少一个中。以这种方式，获得了目标的蚀刻后测量。
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公开(公告)号：CN111736436B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202010721198.8
申请日：2017-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G01N21/47
Abstract: 一种方法，包括：获得使用图案化工艺处理的衬底上的量测目标的测量，该测量是使用测量辐射获得的；以及从测量导出图案化工艺的感兴趣参数，其中感兴趣参数由堆叠差异参数校正，堆叠差异参数表示目标的相邻周期性结构之间或量测目标与衬底上的另一相邻目标之间的物理配置中的非设计差异。
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公开(公告)号：CN108931891B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201810681219.0
申请日：2014-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： Y·J·L·M·范多梅伦 , P·D·恩格布罗姆 , L·G·M·克塞尔斯 , A·J·登博夫 , K·布哈塔查里亚 , P·C·欣南 , M·J·A·皮特斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开的实施例涉及检查方法、光刻设备、掩模以及衬底。一种用于获得与光刻过程有关的焦距信息的方法和设备。该方法包括：照射目标，该目标具有交替的第一和第二结构，其中第二结构的形式是依赖于焦距的，而第一结构的形式不具有与第二结构的形式相同的焦距依赖性；以及检测由目标重定向的辐射，以对于该目标获得表示目标的整体非对称性的非对称性测量，其中非对称性测量指示形成目标的束的焦距。一种用于形成这种目标的相关联的掩模和一种具有这种目标的衬底。
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