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公开(公告)号：CN104040433A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN104040433B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN104487898B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201380039089.6
申请日：2013-06-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01N23/203 , G03F7/70058 , G03F7/70625 , H01J37/26
Abstract: 一种检查方法确定了衬底图案的轮廓参数的值。制造具有基准图案目标(BP)的基准衬底，其具有由例如CD(中间临界尺寸)、SWA(侧壁角)和RH(抗蚀剂高度)等轮廓参数所描述的轮廓。散射量测用于获得来自第一和第二目标的第一和第二信号。微分图案轮廓参数的值通过使用贝叶斯微分成本函数基于基准光瞳和受扰光瞳之间的差并且光瞳对图案轮廓参数的依赖性来计算。例如，测量基准过程和受扰过程之间的差，用于光刻过程的稳定控制。正向反馈微分叠层参数也由与图案目标相同的衬底上的叠层目标的观测来计算。
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公开(公告)号：CN104487898A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201380039089.6
申请日：2013-06-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01N23/203 , G03F7/70058 , G03F7/70625 , H01J37/26
Abstract: 一种检查方法确定了衬底图案的轮廓参数的值。制造具有基准图案目标(BP)的基准衬底，其具有由例如CD(中间临界尺寸)、SWA(侧壁角)和RH(抗蚀剂高度)等轮廓参数所描述的轮廓。散射量测用于获得来自第一和第二目标的第一和第二信号。微分图案轮廓参数的值通过使用贝叶斯微分成本函数基于基准光瞳和受扰光瞳之间的差并且光瞳对图案轮廓参数的依赖性来计算。例如，测量基准过程和受扰过程之间的差，用于光刻过程的稳定控制。正向反馈微分叠层参数也由与图案目标相同的衬底上的叠层目标的观测来计算。
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