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公开(公告)号：CN104040433A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN105122139B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201380071158.1
申请日：2013-12-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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公开(公告)号：CN104040433B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201280065095.4
申请日：2012-12-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·巴特勒 , A·布里克 , P·亨纳斯 , M·胡克斯 , S·A·J·霍尔 , H·范德斯库特 , B·斯拉格海克 , P·蒂纳曼斯 , M·范德威吉斯特 , K·扎尔 , T·P·M·卡迪 , R·比尔恩斯 , O·菲思克尔 , W·安吉内恩特 , N·J·M·博施
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN105122139A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201380071158.1
申请日：2013-12-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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