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公开(公告)号：CN116083843A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202310109595.3
申请日：2018-08-24
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 本发明涉及金属材料OLED沉积掩模及沉积掩模的残余应力的测量方法。特别地，所述沉积掩模包括：沉积区域和非沉积区域，其中，所述沉积区域包括有效部分和非有效部分，其中，所述有效部分包括多个通孔，多个所述通孔包括从一个表面沿深度方向的小表面孔和从与所述一个表面相反的另一表面沿深度方向与所述小表面孔连通的大表面孔、以及在所述另一表面上位于多个所述大表面孔之间的岛状部分，并且其中，所述非沉积区域包括第一凹槽部分，所述第一凹槽部分包括沿所述沉积掩模的深度方向的凹槽。
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公开(公告)号：CN112640152A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057661.9
申请日：2019-08-30
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 实施例的蒸镀用掩模包括用于形成蒸镀图案的蒸镀区域和除蒸镀区域以外的非蒸镀区域，所述蒸镀区域包括沿长度方向隔开的多个有效部和除有效部以外的非有效部，所述有效部包括：多个小表面孔，形成在一表面上；多个大表面孔，形成在与所述一表面相反的另一表面上；通孔，连通所述小表面孔和所述大表面孔；以及岛部，位于多个所述通孔之间，所述非有效部包括彼此隔开的多个第一槽，所述第一槽彼此隔开配置，所述第一槽的面积占所述非有效部的总面积的10％～60％。
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公开(公告)号：CN109844974A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780063868.8
申请日：2017-08-22
申请人： LG伊诺特有限公司
IPC分类号： H01L51/00 , H01L21/027 , H01L21/475 , H01L21/203 , H01L51/56 , C23C14/04 , C23F1/02
摘要： 用于制造沉积掩模的金属板包括：基础金属板；以及设置在基础金属板上的表面层，其中表面层包含与基础金属板的元素不同的元素，或者具有与基础金属板的组成比不同的组成比，以及基础金属板的蚀刻速率大于表面层的蚀刻速率。一个实施方案包括用于蚀刻因子大于或等于2.5的沉积掩模的制造方法。该实施方案的沉积掩模包括沉积图案区域和非沉积区域，沉积图案区域包括复数个通孔，沉积图案区域分为有效区域、外周区域和非有效区域，并且通孔可以形成在有效区域和外周区域中。
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公开(公告)号：CN111066169B
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN201880058019.8
申请日：2018-08-24
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 根据本发明的实施方式的用于OLED像素沉积的金属材料沉积掩模包括用于形成沉积图案的沉积区域和除沉积区域之外的非沉积区域。沉积区域包括沿纵向方向间隔开的多个有效部分和除有效部分之外的非有效部分。有效部分包括：形成在一个表面上的多个小面积孔；形成在与一个表面相反的一侧的背面上的多个大面积孔；连通小面积孔和大面积孔的通孔；以及位于多个通孔之间的岛状部分，其中，通孔的直径不大于33μm并且通孔中的两个相邻通孔的中心之间的距离不大于48μm，这对应于500PPI的分辨率，大面积孔相对于背面的倾斜角为40度至55度，非沉积区域的在纵向方向上的平均中心线平均表面粗糙度和非沉积区域的在宽度方向上的平均中心线平均表面粗糙度为0.1μm至0.3μm，非沉积区域的在纵向方向上的平均十点平均表面粗糙度(Rz)和非沉积区域的在宽度方向上的平均十点平均表面粗糙度为0.5μm至2.0μm，在纵向方向上的平均中心线平均表面粗糙度值相对于在宽度方向上的平均中心线平均表面粗糙度的偏差小于50％，并且在纵向方向上的平均十点平均表面粗糙度值相对于在宽度方向上的平均十点平均表面粗糙度的偏差小于50％。
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公开(公告)号：CN103782204B
公开(公告)日：2018-05-04
申请号：CN201280042861.5
申请日：2012-08-31
申请人： LG伊诺特有限公司
发明人： 曹守铉
IPC分类号： G02B5/04 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B5/0226 , F21V11/16 , G02B5/0221 , G02B5/0231 , G02B5/0278 , G02B6/0053 , Y10T428/24355
摘要： 提供了一种光学片，所述光学片包括基膜以及多个结构，所述多个结构不规则地排列在所述基膜的一个表面上，使得一个结构的排列轴线处于与和所述基膜的一个侧面相邻的另一个结构的排列轴线错开所述另一个结构的长度或宽度的1%至50%的范围之内。因此，去除了保护膜和棱镜型光学片，并且工艺的缺点和可加工性得到改善，从而能够降低单价。此外，可以提高原本作为棱镜型光学片的最大缺点的遮蔽力。
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公开(公告)号：CN107709601A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201580080724.4
申请日：2015-08-25
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 本发明的实施方式涉及一种可适用于有机发光器件等的沉积工艺的掩膜结构，并且允许提供一种沉积掩膜，该沉积掩膜包括：第一表面和第二表面，该第一表面和第二表面在金属板的厚度方向正交并且彼此面对；以及多个单位孔，多个单位孔具有穿过第一表面和第二表面并且彼此连通的第一表面孔和第二表面孔，其中，基于在任选的单位孔之间的尺寸变化将在相邻单位孔之间的第一表面孔或第二表面孔的尺寸变化控制在2％至10％之内，或者基于第一表面的表面将第一表面孔的中心和第二表面孔的中心布置在中心彼此不重合的位置。
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公开(公告)号：CN114752891B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202210426824.X
申请日：2018-08-24
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 本发明涉及一种沉积掩模，包括：金属板，该金属板包括沉积区域和非沉积区域，其中，沉积区域包括：多个小表面孔，所述小表面孔形成在金属板的一个表面上；多个大表面孔，所述大表面孔形成在与金属板的一个表面相反的另一表面上；以及多个通孔，所述通孔将小表面孔和大表面孔连通；并且其中，在金属板的纵向方向上的横截面中相对于另一表面将大表面孔的一个端部和另一端部连接的第一倾斜角与在垂直于金属板的纵向方向的侧向方向上的横截面中相对于另一表面将大表面孔的一个端部和另一端部连接的第二倾斜角不同。
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公开(公告)号：CN114883514A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210427718.3
申请日：2018-08-24
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 本发明涉及一种沉积掩模，该沉积掩模包括：金属板，金属板用于有机发光二极管像素图案的有机材料沉积；多个小表面孔，小表面孔形成在金属板的一个表面上；多个大表面孔，大表面孔形成在与金属板的一个表面相反的另一表面上；以及多个通孔，通孔将小表面孔和大表面孔连通；其中，小表面孔的在金属板的纵向方向上的横截面中的高度与小表面孔的在金属板的侧向方向上的横截面中的高度不同。
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公开(公告)号：CN114752891A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210426824.X
申请日：2018-08-24
申请人： LG伊诺特有限公司
摘要： 本发明涉及一种沉积掩模，包括：金属板，该金属板包括沉积区域和非沉积区域，其中，沉积区域包括：多个小表面孔，所述小表面孔形成在金属板的一个表面上；多个大表面孔，所述大表面孔形成在与金属板的一个表面相反的另一表面上；以及多个通孔，所述通孔将小表面孔和大表面孔连通；并且其中，在金属板的纵向方向上的横截面中相对于另一表面将大表面孔的一个端部和另一端部连接的第一倾斜角与在垂直于金属板的纵向方向的侧向方向上的横截面中相对于另一表面将大表面孔的一个端部和另一端部连接的第二倾斜角不同。
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