发光器件
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103579429B

    公开(公告)日:2018-04-10

    申请号:CN201310176523.7

    申请日:2013-05-14

    发明人: 林贤哲 崔宰熏

    IPC分类号: H01L33/14

    摘要: 本发明公开了一种发光器件。该发光器件包括:第一导电类型半导体层;第二导电类型半导体层;以及有源层,置于第一导电类型半导体层与第二导电类型半导体层之间。该第二导电类型半导体层包括:电子阻挡区域,布置为靠近有源层且具有图案,该图案具有彼此隔开的多个元件。本发明的发光器件通过使用EBL阻挡电子溢出并提高空穴注入效率,从而提高其内部量子效能。

    发光元件和照明系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106165128A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201580018523.1

    申请日:2015-04-07

    IPC分类号: H01L33/36

    摘要: 实施例涉及发光元件、用于生产发光元件的方法、发光元件封装以及照明系统。根据实施例的发光元件可以包括:第一导电半导体层(112);第二导电半导体层(116),所述第二导电半导体层(116)被布置在第一导电半导体层(112)下方;有源层(114),所述有源层(114)被布置在第一导电半导体层(112)和第二导电半导体层(116)之间;多个孔(H),所述多个孔(H)通过穿透第二导电半导体层(116)和有源层(114)将第一导电半导体层(112)的部分暴露于第二导电半导体层(116)的底表面;第一接触电极(160),所述第一接触电极(160)通过多个孔(H)从第二导电半导体层(116)的底表面被电连接到第一导电半导体层(112);绝缘层(140),所述绝缘层(140)被布置在第一接触电极(160)和多个孔(H)之间;结合层(156),所述结合层(156)被电连接到第一接触电极(160);支撑构件(158),所述支撑构件(158)被布置在结合层(156)下方;第二接触电极(132),所述第二接触电极(132)被电连接到第二导电半导体层(116);以及第一电流扩展半导体层(191),所述第一电流扩展半导体层(191)在第一接触电极(160)上方的第一导电半导体层(112)的内部。

    发光器件及照明系统
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104300050B

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201410343191.1

    申请日:2014-07-18

    发明人: 文用泰 林贤哲

    IPC分类号: H01L33/06 H01L33/32

    摘要: 本发明公开了一种发光器件,制造该发光器件的方法,发光器件封装件以及照明系统。该发光器件包括第一导电型半导体层(112);在第一导电型半导体层(112)上的包括量子阱(114w)和量子墙(114b)的有源层(114);在有源层(114)上的未掺杂的最终势垒层(127);在未掺杂的最终势垒层(127)上的AlxInyGa(1‑x‑y)N基层(0≤x≤1,0≤y≤1)(128);以及在AlxInyGa(1‑x‑y)N基层(128)上的第二导电型半导体层(116)。

    发光器件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103579429A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310176523.7

    申请日:2013-05-14

    发明人: 林贤哲 崔宰熏

    IPC分类号: H01L33/14

    摘要: 本发明公开了一种发光器件。该发光器件包括:第一导电类型半导体层;第二导电类型半导体层;以及有源层,置于第一导电类型半导体层与第二导电类型半导体层之间。该第二导电类型半导体层包括:电子阻挡区域,布置为靠近有源层且具有图案,该图案具有彼此隔开的多个元件。本发明的发光器件通过使用EBL阻挡电子溢出并提高空穴注入效率,从而提高其内部量子效能。

    发光器件及照明系统
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104300050A

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201410343191.1

    申请日:2014-07-18

    发明人: 文用泰 林贤哲

    IPC分类号: H01L33/06 H01L33/32

    摘要: 本发明公开了一种发光器件,制造该发光器件的方法,发光器件封装件以及照明系统。该发光器件包括第一导电型半导体层(112);在第一导电型半导体层(112)上的包括量子阱(114w)和量子墙(114b)的有源层(114);在有源层(114)上的未掺杂的最终势垒层(127);在未掺杂的最终势垒层(127)上的AlxInyGa(1-x-y)N基层(0≤x≤1,0≤y≤1)(128);以及在AlxInyGa(1-x-y)N基层(128)上的第二导电型半导体层(116)。