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公开(公告)号：CN106498351A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610959060.5
申请日：2016-11-03
申请人： 天津津航技术物理研究所
CPC分类号： C23C14/0036 , C23C14/0635 , C23C14/221 , C23C14/3442
摘要： 本发明公开了一种提高离子束反应溅射法制备碳化锗薄膜牢固度的方法，其包括以下步骤：S1：基片清洗；S2：预溅射，将清洗后的基片放入离子束溅射镀膜机内，以Ge作为靶材，CH4作为反应气体，用离子源对Ge靶材进行预溅射；S3：辅助离子源预轰击基片；S4：离子束反应溅射淀积Ge1-xCx薄膜，开启主离子源，向真空室通入反应气体CH4，进行Ge1-xCx薄膜淀积。本发明使用辅助离子源对基底进行预轰击，可以有效提高Ge1-xCx薄膜与基底之间的附着力，该工艺过程简单、有效、可靠。
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公开(公告)号：CN1845882A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480024717.4
申请日：2004-06-28
申请人： 法国圣戈班玻璃厂
IPC分类号： C03C17/22 , C03C17/245 , C23C14/34
CPC分类号： C03C17/22 , B32B17/10174 , C03C17/225 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2217/21 , C03C2217/281 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C03C2218/155 , C23C14/0052 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3442 , C23C14/5833 , H01J2211/446
摘要： 本发明施加一种基材(1)，特别是玻璃的该基材，通过阴极雾化，特别是磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的活性的阴极雾化，在曝露在至少一种来源于离子源(4)的离子束的条件下，在其上面涂有至少一层电介质薄层，其特征在于，曝露在离子束下的所述电介质层具有能够根据离子源参数调节的折光指数，所述离子源是一个线性源。
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公开(公告)号：CN107475664A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710431100.3
申请日：2017-06-07
CPC分类号： C23C14/022 , A47G19/02 , C23C14/0688 , C23C14/325 , C23C14/3442
摘要： 本发明涉及一种使用等离子体混合涂覆设备的餐具的制造方法。对本发明的餐具而言，该餐具是对众人使用的餐具赋予抗菌功能而防止受食物腐蚀以及为了使其能够长期使用而向餐具赋予洗涤时耐磨功能的餐具，一旦向餐具涂覆具有对人体有害的各种细菌的抗菌能力的功能性薄膜，则各种细菌因涂覆的功能性薄膜而无法在餐具繁殖，从而使人们能够安全地摄取食物。同时，具有以下特征，沉积有具有如下的多种功能的薄膜：防止餐具因食物中存在的各种酸性物质而腐蚀的现象，且对洗涤时使用的纤维百洁布耐磨。
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公开(公告)号：CN105377782A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201480038941.2
申请日：2014-05-06
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： C03C17/3435 , C03C3/091 , C03C17/245 , C03C17/3411 , C03C21/002 , C03C2217/78 , C03C2217/91 , C23C14/34 , C23C14/3442 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/14 , Y10T428/2495 , Y10T428/31612
摘要： 本发明的一个或多个方面涉及一种制品，该制品包含设置在无机氧化物基材(110)上的光学膜结构(220),该无机氧化物基材可包含可作为无定形或晶体的强化的或非强化的基材,从而制品呈现耐刮擦性并保留与不含设置在其上面的光学膜结构的无机氧化物基材相同或更加改善的光学性质。在一种或多种实施方式中，该制品在可见光谱上(例如,380nm–780nm)呈现85％或更大的平均透明度。光学膜结构(200)的实施方式包括含铝的氧化物、含铝的氮氧化物、含铝的氮化物(例如,AlN)及其组合。本文所述的光学膜结构还包括含有氧化物的透明电介质，所述氧化物是例如硅氧化物、锗氧化物、铝氧化物及其组合。还提供了形成这种制品的方法。
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公开(公告)号：CN103210114A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201180055302.3
申请日：2011-11-28
申请人： 株式会社野村镀金
CPC分类号： H01B1/04 , C01B32/05 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/0605 , C23C14/22 , C23C14/221 , C23C14/3442 , G01R1/067 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要： 在真空减压下，向基材（13）照射气体团簇离子束（4a）而使基材（13）清洁化和/或平坦化的工序；以及使中间层膜形成材料蒸发汽化，使该蒸发汽化物附着在基材（13）的表面，并且向中间层膜形成材料照射气体团簇离子束（4a）形成中间层膜的工序，使包括硼材料和实质上不含氢的碳质材料的碳膜形成材料蒸发汽化，使该蒸发汽化物附着在上述中间层膜表面，并且向碳膜形成材料照射气体团簇离子束（4a）而进行成膜。
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公开(公告)号：CN1229660C
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN02102697.1
申请日：2002-03-06
申请人： 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 , 鸿海精密工业股份有限公司
IPC分类号： G02B6/124
CPC分类号： C23C14/3442 , C23C14/46 , C23C14/56 , G02B6/12009 , G02B6/132 , G02B6/136 , G02B2006/12038 , G02B2006/12061 , G02B2006/12176
摘要： 一种制造阵列波导光栅器件的方法及装置，是采用高密度等离子体技术，以消除传统加工方法如金属有机化学气相沉积(MOCVD)与等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)使用有毒的化学物质而产生的污染。
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公开(公告)号：CN107841718A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201711029947.5
申请日：2017-10-30
申请人： 深圳市西陆光电技术有限公司
发明人： 林壁鹏
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/3442 , C23C14/562 , C23C14/564
摘要： 本发明公开了一种无胶双面挠性覆铜板生产设备，包括真空腔体、收放卷系统，所述真空腔体一侧设置有靶极车，所述靶极车上设置有靶极，所述靶极车与所述真空腔体之间设置有第二密封件。有益效果在于：(1)空腔体为圆形，不会形成抽气死角，真空度均匀；真空获得系统为分子泵无油系统，确保了真空室内无返油；配置的深冷泵提高对连续镀膜过程中基材放气的抽速，从而提高了工作效率。(2)采用了双收放卷系统，可以满足磁控溅射区全幅宽的一卷双面镀及两卷单面镀；也可以满足镀区半幅宽的两卷镀单面及双面镀，功能全面。(3)在进入磁控溅射区处设离子源处理装置，对基材表面进行离子轰击，提高基材表面粗糙度，确保膜层与基材之间的剥离强度。
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公开(公告)号：CN106480416A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610869585.X
申请日：2016-09-28
申请人： 南宁市日建塑料包装有限责任公司
IPC分类号： C23C14/34 , C08J7/04 , C08J7/06 , C09D11/102 , C09D11/03 , C09D11/033
CPC分类号： C23C14/3442 , C08J7/047 , C08J7/065 , C09D11/03 , C09D11/033 , C09D11/102
摘要： 本发明属于印刷加工领域，特别涉及一种提高塑料印刷品中油墨附着力的方法，包括以下步骤：(1)塑料制品的前处理，(2)印刷。本发明采用了离子溅射法对塑料制品表面进行氧化处理，能快速的使能量传至塑料表面特定的官能团上，达到均匀加热和均匀氧化的目的；印刷油墨的配制是在普通油墨的基础上，通过添加微晶蜡、N,N-二甲基苯胺、木质素基环氧树脂和表面活性剂，增加油墨与塑料制品的相容性和渗透性。本发明制备的塑料印刷品具有塑料制品和油墨之间附着力强、耐摩擦等优点。
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公开(公告)号：CN103069510B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201280002307.4
申请日：2012-08-24
申请人： 古河电气工业株式会社
CPC分类号： H01B12/02 , C23C14/082 , C23C14/083 , C23C14/3442 , C23C14/562 , H01L39/2461 , Y10S505/704
摘要： 一种超导导体用基材2的制造方法，具有：在基板10上形成具有导电性的非取向的基础层24的导电性基础层形成工序和在基础层24上形成双轴取向层26的双轴取向层形成工序。
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公开(公告)号：CN103890898A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201280038054.6
申请日：2012-07-25
申请人： 法雷奥照明公司
发明人： 马克·布莱泽尔 , 弗雷德里克·莫雷特 , 弗雷德里克·布勒塔尼奥尔
IPC分类号： H01J37/32 , C23C16/458 , H05H1/24 , H05H1/44
CPC分类号： C23C14/3442 , C23C16/513 , H01J37/32009 , H01J37/32357 , H01J37/32376 , H01J37/32422 , H01J37/32431 , H01J37/32899 , H01J37/32935
摘要： 用于处理对象(14)的表面的设备(10)包括：用于放置对象(14)的真空腔室(12)；和处理装置(32)，其与包含对象(14)的表面的真空腔室(12)连通，包括至少两个等离子体发生器(34)。该设备(10)还包含用于以独立于任何其他发生器(34)的方式来控制任何一个发生器(34)的装置(46)。这些控制装置(46)包含用于激活/停止该发生器(34)的装置(48)。本发明还涉及一种处理对象(14)的表面的方法。
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