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    一种梯度递减结构防液涂层的制备方法
    2.
    发明授权
    一种梯度递减结构防液涂层的制备方法 有权 转让 质押

    公开(公告)号：CN106868473B

    公开(公告)日：2018-07-13

    申请号：CN201710049239.1

    申请日：2017-01-23

    申请人： 江苏菲沃泰纳米科技有限公司

    发明人： 宗坚

    IPC分类号： C23C16/517 ,  C23C16/448 ,  C09D4/00 ,  C09D4/02 ,  C09D171/02

    CPC分类号： C09D4/00 ,  C09D171/02 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/517

    摘要： 一种梯度递减结构防液涂层的制备方法，属于等离子化学气相沉积技术领域。该方法中：首先将基材置于等离子体室的反应腔体内，对反应腔体连续抽真空，将反应腔体内的真空度抽到10‑200毫托，通入惰性气体或氮气；其次同时通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽；开启等离子体放电，进行化学气相沉积；放电结束，关闭等离子体电源，停止通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽，持续抽真空，保持反应腔体真空度为10‑200毫托1‑5min后通入大气至一个大气压，然后取出基材即可。本发明通过同时通入单体蒸汽，并控制单体蒸汽的流量以不同的速率递减，制得的涂层结构韧性硬度为梯度变化，可降低应力开裂、变形，同时拥有较好的阻隔防护性能。

    一种在MPCVD制备碳化钼晶体时利用在直流电弧引入钼源的方法
    3.
    发明公开
    一种在MPCVD制备碳化钼晶体时利用在直流电弧引入钼源的方法 无效

    公开(公告)号：CN107338476A

    公开(公告)日：2017-11-10

    申请号：CN201710639970.X

    申请日：2017-07-31

    申请人： 武汉工程大学

    发明人： 马志斌 ,  任昱霖

    IPC分类号： C30B29/36 ,  C30B29/64 ,  C30B25/00 ,  C23C16/448 ,  C23C16/511 ,  C23C16/32

    CPC分类号： C30B29/36 ,  C23C16/32 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/511 ,  C30B25/00 ,  C30B29/64

    摘要： 本发明公开了一种在MPCVD制备碳化钼晶体时利用在直流电弧引入钼源的方法，包含如下步骤：将两根清洗后的纯钼杆插入反应腔内上法兰的绝缘孔中，并将两根纯钼杆上端分别与直流电源的正电极端以及负电极端相连接；将硅衬底放入反应腔内的基片台上，对腔体抽真空；向反应腔腔体通入氢气，并调节微波功率和气压直至等离子体稳定，通入反应气体甲烷；打开直流电源，调节电压值，使得两根纯钼杆电极之间产生弧光放电，向微波等离子体中引入钼；待反应结束后，关机，取出样品。本发明通过直流电弧放电产生的高温使金属钼从固态转变为气态，带入下方的微波等离子体中参与反应，解决了碳化钼制备过程中钼的引入问题，极大的提高了碳化钼的制备效率。

    汽化装置及其控制方法
    5.
    发明授权
    汽化装置及其控制方法 失效

    公开(公告)号：CN102712994B

    公开(公告)日：2014-08-20

    申请号：CN201080060061.7

    申请日：2010-12-24

    申请人： 韩商SNU精密股份有限公司

    发明人： 徐承彻 ,  孔斗源 ,  李锺夏 ,  李璟范 ,  郑成在 ,  赵晃新

    IPC分类号： C23C14/24

    CPC分类号： C23C16/4485 ,  B01D1/0017 ,  B01D1/0082 ,  C23C14/24 ,  C23C14/543 ,  C23C16/52

    摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。

    汽化装置及其控制方法
    7.
    发明公开
    汽化装置及其控制方法 失效

    公开(公告)号：CN102712994A

    公开(公告)日：2012-10-03

    申请号：CN201080060061.7

    申请日：2010-12-24

    申请人： 韩商SNU精密股份有限公司

    发明人： 徐承彻 ,  孔斗源 ,  李锺夏 ,  李璟范 ,  郑成在 ,  赵晃新

    IPC分类号： C23C14/24

    CPC分类号： C23C16/4485 ,  B01D1/0017 ,  B01D1/0082 ,  C23C14/24 ,  C23C14/543 ,  C23C16/52

    摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。

    均热装置
    8.
    发明授权
    均热装置 有权

    公开(公告)号：CN101990583B

    公开(公告)日：2012-09-05

    申请号：CN200880128603.2

    申请日：2008-04-11

    申请人： 东芝三菱电机产业系统株式会社

    发明人： 山荫久明 ,  山田义人

    IPC分类号： C23C14/24

    CPC分类号： C23C16/4485 ,  C23C14/243 ,  F22B1/16

    摘要： 一种均热装置，包括容器结构体、材料供给管(12)及加热装置(6)。容器结构体具有内容器(2)和外容器(1)。在外容器(1)中，填充有工作流体。将内容器(2)与外容器(1)的各自的上端部接合，并在内容器(2)与外容器(1)之间形成有中空部(4)。材料供给管(12)从容器结构体的外部到达内容器(2)的内表面。加热装置(6)配置于外容器(1)的底部。在内容器(2)的底面，形成有朝内容器(2)的内部侧突起的多个突起(10)和底面朝突起(10)的内侧凹陷、并可收纳汽化了的工作流体的凹部(11)。