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公开(公告)号：CN102732843A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210120364.4
申请日：2012-04-13
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明揭示了一种用于形成薄膜的大容量沉积设备，所述设备包括：多个源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述多个源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方与所述源容器耦合并连通，且来自所述源容器的已蒸发源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上并向上喷射穿过所述蒸发室的所述已蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器在所述蒸发室内部提供于所述源容器上方并供热给所述源容器以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；传感器，所述传感器安装在所述蒸发室中并感测穿过所述蒸发室的已蒸发源材料的量；和控制器，所述控制器从所述传感器获得关于所述蒸发室中的已蒸发源材料的量的反馈并控制从源容器蒸发的源材料的量。
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公开(公告)号：CN102732842A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210120348.5
申请日：2012-04-13
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/26 , C23C14/544 , C23C14/564
摘要： 本发明揭示了一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括：源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述源容器中；蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方耦接所述源容器并与所述源容器相通，且从所述源容器蒸发的源材料穿过所述蒸发室；喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上且向上喷射穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料；第一加热器，所述第一加热器提供于所述蒸发室或所述源容器内部的所述源材料上方且向所述源材料供应热量以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；以及阻挡板，所述阻挡板提供于所述蒸发室内部的所述第一加热器上方，且在所述第一加热器向所述源材料供应热量时防止容纳于所述源容器中的所述源材料或外来杂质飞溅和附着到所述喷孔。
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公开(公告)号：CN102365711A
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN201080015828.4
申请日：2010-03-26
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： H01L21/67115 , C23C14/243 , C23C14/26 , H01L21/67109
摘要： 本发明提供一种原料供应单元和一种用于供应原料的方法。所述原料供应单元包括：罐，用以存储原材料；喷射器，与所述罐连通，用以喷射自所述罐蒸发的所述原材料；高频线圈部件，环绕于所述罐的外侧；以及电阻型加热部件，设置于所述喷射器的外侧。由于将高频感应加热方法和电阻型加热方法结合起来对拟供应的原材料进行蒸发，所以可以使用大量的原材料，并且薄膜的厚度和质量可易于控制。
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公开(公告)号：CN102712994B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080060061.7
申请日：2010-12-24
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4485 , B01D1/0017 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/543 , C23C16/52
摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
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公开(公告)号：CN102712994A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080060061.7
申请日：2010-12-24
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4485 , B01D1/0017 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/543 , C23C16/52
摘要： 本发明揭示一种汽化装置及其控制方法，包含：汽化坩埚（vaporization crucible），用以容置原料；汽化加热单元，用以藉由加热所述汽化坩埚而汽化所述原料；温度量测单元，用以量测所述汽化坩埚的温度；功率量测单元，用以量测所述汽化加热单元的施加功率；以及控制单元，用以根据所述温度量测单元的温度变化值与所述功率量测单元的功率变化值其中之任一者，控制所述原料的汽化量。所述汽化装置使用非接触式/电子方法，所述非接触式/电子方法藉由原料的汽化期间的温度变化值与功率变化值而量测汽化量。因此，因不同于接触式方法，汽化量量测单元并不直接接触原料气体，故可供应各种原料并可达成大量原料供应或长时间原料供应而不会使功能劣化。另外，因所述电子方法能够精确地量测汽化量，故可提高原料供应的精确度。
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公开(公告)号：CN102668026B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201080046511.7
申请日：2010-10-04
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/67 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/54
CPC分类号： H01L21/6776 , C23C16/4401 , C23C16/4411 , C23C16/45563 , C23C16/4557 , C23C16/54 , H01L21/6715
摘要： 本发明提供一种基板处理装置及一种基板处理方法，其能够防止基板受热并有效地收集残余沉积材料。该基板处理装置包括：一腔室单元，包括一内部空间，该内部空间被划分成一引入段、一薄膜形成段及一卸出段；至少一个材料喷嘴单元，设置于该腔室单元的该薄膜形成段中，用以喷射一沉积材料至所传送的一基板；以及一冷却板单元，设置成围绕该腔室单元的该薄膜形成段并适以冷却该薄膜形成段的内部。此外，该基板处理装置更包括至少一个冷阱单元，该至少一个冷阱单元设置于该材料喷嘴单元的一下部，用以收集由该材料喷嘴单元喷射的全部沉积材料中未沉积于基板上而遗留的残余沉积材料。
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公开(公告)号：CN102414798B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201080019359.3
申请日：2010-04-23
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： C23C14/246 , H01L21/67115
摘要： 本发明提供一种原料供应单元、一种包含所述原料供应单元的薄膜沉积装置、以及一种沉积一薄膜的方法。所述原料供应单元包含：一液化部，用以液化一原料；一蒸发部，与所述液化部连通，用以蒸发所述已液化原料；以及一喷射器，与所述蒸发部连通，用以喷射所述已蒸发原料。所述液化部包含：一罐，具有一圆柱形状，用以储存所述原料；一活塞部，插入至所述罐的一侧，用以排放所述原料；以及一液化加热部，用以加热所述罐，以液化所述原料。于一固体原料被液化之后，自所述原料蒸发并供应一必要的部分，进而获得一较大的原料热量并使为蒸发及供应所述原料所耗用的热量最小化。
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公开(公告)号：CN102732841A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210120337.7
申请日：2012-04-13
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： C23C14/24
摘要： 本发明揭示一种用于供应材料的设备，所述设备蒸发将要作为薄膜沉积在衬底上的源材料，且所述设备将经蒸发源材料供应到面向衬底的喷射孔，所述设备包括：源容器，将要沉积在衬底上的源材料以固态或液态容纳在源容器中；蒸发室，蒸发室包括用于将源容器安装在其中的内部空间，且来自源容器的经蒸发源材料通过蒸发室；第一加热器，第一加热器提供在位于蒸发室内的源容器上方，且第一加热器将热供应到源容器，以蒸发容纳在源容器中的源材料；以及传递单元，传递单元使第一加热器和源容器中的一者在与另一者接近或与另一者远离的方向上往复运动。
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公开(公告)号：CN102668026A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080046511.7
申请日：2010-10-04
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： H01L21/20 , H01L31/042
CPC分类号： H01L21/6776 , C23C16/4401 , C23C16/4411 , C23C16/45563 , C23C16/4557 , C23C16/54 , H01L21/6715
摘要： 本发明提供一种基板处理装置及一种基板处理方法，其能够防止基板受热并有效地收集残余沉积材料。该基板处理装置包括：一腔室单元，包括一内部空间，该内部空间被划分成一引入段、一薄膜形成段及一卸出段；至少一个材料喷嘴单元，设置于该腔室单元的该薄膜形成段中，用以喷射一沉积材料至所传送的一基板；以及一冷却板单元，设置成围绕该腔室单元的该薄膜形成段并适以冷却该薄膜形成段的内部。此外，该基板处理装置更包括至少一个冷阱单元，该至少一个冷阱单元设置于该材料喷嘴单元的一下部，用以收集由该材料喷嘴单元喷射的全部沉积材料中未沉积于基板上而遗留的残余沉积材料。
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公开(公告)号：CN102414798A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201080019359.3
申请日：2010-04-23
申请人： 韩商SNU精密股份有限公司
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/02
CPC分类号： C23C14/246 , H01L21/67115
摘要： 本发明提供一种原料供应单元、一种包含所述原料供应单元的薄膜沉积装置、以及一种沉积一薄膜的方法。所述原料供应单元包含：一液化部，用以液化一原料；一蒸发部，与所述液化部连通，用以蒸发所述已液化原料；以及一喷射器，与所述蒸发部连通，用以喷射所述已蒸发原料。所述液化部包含：一罐，具有一圆柱形状，用以储存所述原料；一活塞部，插入至所述罐的一侧，用以排放所述原料；以及一液化加热部，用以加热所述罐，以液化所述原料。于一固体原料被液化之后，自所述原料蒸发并供应一必要的部分，进而获得一较大的原料热量并使为蒸发及供应所述原料所耗用的热量最小化。
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