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公开(公告)号:CN103852974B
公开(公告)日:2016-12-28
申请号:CN201310292187.2
申请日:2013-07-12
申请人: 乐金显示有限公司 , 仁荷大学博物馆产学协力团
CPC分类号: H01L51/0018 , C08F20/10 , C08F20/24 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0384 , H01L27/3283 , H01L51/0043 , H01L51/56
摘要: 本发明涉及利用光二聚化学作用的光致抗蚀剂和使用该光致抗蚀剂的有机发光二极管显示器的制造方法。本发明的光致抗蚀剂为高度氟化的光致抗蚀剂,包含由两种不同的单体所形成的共聚物。当该共聚物用作光致抗蚀剂时,所述光致抗蚀剂具有以下特性:当用波长为365nm的紫外光进行曝光时,其变得不溶。
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公开(公告)号:CN105555822A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201480050881.6
申请日:2014-07-15
申请人: 破立纪元有限公司
CPC分类号: H01L29/78606 , C08G65/4006 , C08G65/48 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0384 , G03F7/0388 , H01L27/1225 , H01L27/127 , H01L27/1288 , H01L29/66742 , H01L29/7869 , H01L29/78696
摘要: 本发明的聚合材料可以用相对低的光暴露能量进行图案化并且是热力学稳定的、机械坚固的、抗水渗透的,并显示良好的与金属氧化物、金属、金属合金以及有机材料的粘附性。此外,其可以是溶液加工的(例如,通过旋涂),并在固化形式中可以显示良好的化学(例如,溶剂和蚀刻剂)耐受性。
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公开(公告)号:CN103988127A
公开(公告)日:2014-08-13
申请号:CN201280060449.6
申请日:2012-12-06
申请人: 旭化成电子材料株式会社
CPC分类号: G03F7/0233 , C08G8/22 , C08G16/0225 , C08G61/02 , C08G61/127 , C08G61/128 , C08G2261/3424 , C08G2261/76 , C08L61/12 , C08L65/00 , G03F7/0045 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/023 , G03F7/0236 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0384 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/162 , G03F7/2004 , G03F7/30 , G03F7/322 , G03F7/40 , H01L21/56 , H01L23/293
摘要: 本发明提供含有(A-1)具有下述通式(1)所示结构的树脂和(B)光产酸剂的感光性树脂组合物。式(1)中,X、R1~R7、m1~m4、n1、n2、Y和W分别如说明书中所规定。
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公开(公告)号:CN105555822B
公开(公告)日:2018-05-08
申请号:CN201480050881.6
申请日:2014-07-15
申请人: 飞利斯有限公司
CPC分类号: H01L29/78606 , C08G65/4006 , C08G65/48 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0384 , G03F7/0388 , H01L27/1225 , H01L27/127 , H01L27/1288 , H01L29/66742 , H01L29/7869 , H01L29/78696
摘要: 本发明的聚合材料可以用相对低的光暴露能量进行图案化并且是热力学稳定的、机械坚固的、抗水渗透的,并显示良好的与金属氧化物、金属、金属合金以及有机材料的粘附性。此外,其可以是溶液加工的(例如,通过旋涂),并在固化形式中可以显示良好的化学(例如,溶剂和蚀刻剂)耐受性。
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公开(公告)号:CN107850841A
公开(公告)日:2018-03-27
申请号:CN201680043047.3
申请日:2016-06-27
申请人: 荣昌化学制品株式会社
CPC分类号: G03F7/0382 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0384
摘要: 本发明涉及用于形成半导体图案的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物。更详细地说,提供如下的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物:为了改善现有的负性光致抗蚀剂的物理性质而包含特定化合物,进而相比于现有的负性光致抗蚀剂,在短波长曝光源中具有高透明度、高分辨率,同时具有优秀的轮廓,进而适合用于半导体工艺。
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公开(公告)号:CN107556480A
公开(公告)日:2018-01-09
申请号:CN201710209017.1
申请日:2017-03-31
申请人: 信越化学工业株式会社
IPC分类号: C08G77/388 , G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/02
CPC分类号: G03F7/0757 , B32B3/266 , B32B3/30 , B32B27/28 , B32B2457/14 , C08G59/22 , C08G77/14 , C08G77/455 , C08G77/52 , C08G77/54 , C08G77/80 , C08J5/18 , C08J2383/14 , C08K3/36 , C08L83/10 , C08L83/14 , C09D183/10 , C09D183/14 , C09J183/14 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0384 , G03F7/161 , G03F7/168 , G03F7/2002 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L23/296 , H01L23/49894 , H01L24/83 , H01L2224/83855 , H01L2924/0715 , C08L63/00
摘要: 本发明所要解决的问题在于,提供一种含硅酮骨架高分子化合物、包含该高分子化合物的光固化性树脂组合物、其光固化性干膜、使用它们的积层体、及图案形成方法,所述硅酮骨架高分子化合物能够以厚膜容易地实行微细图案的形成,并且,能够形成一种作为电性/电子零件保护用皮膜、或基板接合用皮膜等的可靠性优良的固化物层(固化皮膜),其耐开裂性、及对于基板、电子零件或半导体元件等、尤其是对在电路基板中使用的基材的密接性等各种膜特性优良。本发明的解决问题的技术方案是一种含硅酮骨架高分子化合物,其由下述式(1)表示,包含硅酮骨架且重均分子量为3000~500000。
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公开(公告)号:CN103649220B
公开(公告)日:2015-09-09
申请号:CN201280034811.2
申请日:2012-07-16
申请人: 住友电木株式会社 , 普罗米鲁斯有限责任公司
IPC分类号: C08L65/00
CPC分类号: G03F7/0233 , C08F32/08 , C08F222/06 , C08F232/08 , C09D135/00 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0384
摘要: 公开了可用于形成可自成像薄膜的共聚物和包括这种共聚物的组合物。这些共聚物包括降冰片烯-型重复单元和马来酸酐-型重复单元,其中这种和马来酸酐-型重复单元中的至少一些被开环。由这些共聚物组合物形成的薄膜提供可自成像的低-k、热稳定层以供在微电子和光电器件中使用。
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公开(公告)号:CN103852974A
公开(公告)日:2014-06-11
申请号:CN201310292187.2
申请日:2013-07-12
申请人: 乐金显示有限公司 , 仁荷大学博物馆产学协力团
CPC分类号: H01L51/0018 , C08F20/10 , C08F20/24 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0384 , H01L27/3283 , H01L51/0043 , H01L51/56
摘要: 本发明涉及利用光二聚化学作用的光致抗蚀剂和使用该光致抗蚀剂的有机发光二极管显示器的制造方法。本发明的光致抗蚀剂为高度氟化的光致抗蚀剂,包含由两种不同的单体所形成的共聚物。当该共聚物用作光致抗蚀剂时,所述光致抗蚀剂具有以下特性:当用波长为365nm的紫外光进行曝光时,其变得不溶。
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公开(公告)号:CN103748131A
公开(公告)日:2014-04-23
申请号:CN201280039318.X
申请日:2012-06-20
申请人: 互应化学工业株式会社
CPC分类号: G03F7/0385 , C08G59/1466 , C08G59/40 , C08G59/42 , C08L63/10 , G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/038 , G03F7/0384 , G03F7/0388 , H05K3/287 , H05K3/3452
摘要: 本发明提供一种抗蚀剂用树脂组合物,在用抗蚀剂用树脂组合物的固化物填埋穿通孔、过孔等时,能够高效地形成耐断裂性、耐膨胀性、耐突出性等特性高的固化物。在本发明中,抗蚀剂用树脂组合物含有第一树脂和第二树脂。上述第一树脂是在双官能环氧树脂中加成具有羧基的烯键式不饱和化合物,进一步加成多元酸酐而形成的。上述第二树脂具有加成有一元羧酸的环氧基和加成有多元酸的环氧基。
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公开(公告)号:CN1200943C
公开(公告)日:2005-05-11
申请号:CN01103487.4
申请日:2001-02-07
申请人: 西巴特殊化学品控股有限公司
CPC分类号: C09D11/101 , A61K6/0052 , A61K6/08 , B33Y70/00 , C07F9/28 , C07F9/5036 , C07F9/5337 , C07F9/6521 , C08F2/50 , C09D4/00 , G03F7/0045 , G03F7/029 , G03F7/0384 , G03F7/0388 , G03F7/0755 , Y10S430/124 , A61K6/083 , C08L33/08 , C08L33/10 , C08L33/20 , C08L33/26 , C08L27/00 , C08L31/04 , C08L25/06 , C08L27/04 , C08L39/06 , A61K6/09 , C08L75/04 , A61K6/087 , C08L67/00 , C08L71/02 , A61K6/097 , C08L1/08
摘要: 其中各取代基如说明书中所定义的式I化合物是有价值的用于制备不对称二酰基膦氧化物和一酰基膦氧化物的中间体。
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