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公开(公告)号：CN104203877B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380018672.9
申请日：2013-04-03
申请人： 拉尔夫·施皮茨尔
发明人： 拉尔夫·施皮茨尔
CPC分类号： C07C2/76 , B01J19/126 , B01J2219/0875 , B01J2219/1206 , H01J37/32 , H01J2237/339 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , C07C11/24
摘要： 使用等离子体技术制备乙炔的方法和装置，其中，将含有至少一种烃的气体进料到等离子体源的非热等离子体中。
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公开(公告)号：CN102144275A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200980134077.5
申请日：2009-09-01
申请人： 陶氏康宁公司
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： C23C16/24 , B01F13/0001 , B01J2/04 , B82Y40/00 , H01J37/32082 , H01J2237/339 , Y10S977/891
摘要： 本发明提供了一种用于合成纳米颗粒的低压甚高频脉冲等离子体反应器系统。该系统包括腔室，该腔室用于接纳至少一个基板，并且能够被抽真空至所选压强。该系统还包括用于从至少一种前驱体气体产生等离子体的等离子体源，以及用于以所选频率提供连续或脉冲射频功率至等离子体的甚高频射频功率源。该频率是基于脉冲射频功率和等离子体之间的耦合效率来选择的。VHF放电和气体前驱体的参数是基于纳米颗粒性质来选择的。纳米颗粒平均大小和颗粒大小分布是通过控制辉光放电的驻留时间(脉冲调制等离子体)相对于通过放电区的气体分子驻留时间、以及纳米颗粒前驱体气体(一种或多种)的质量流量来操控的。
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公开(公告)号：CN104379247A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380029242.7
申请日：2013-05-29
申请人： 道康宁公司
发明人： 杰弗里·安德森 , J·A·凯西 , 瓦斯根·阿拉姆·莎玛米安
CPC分类号： B01J19/00 , B01J2/04 , B01J19/0006 , B01J2219/00164 , C01B33/00 , C01B33/02 , C01B33/021 , C09K11/59 , H01J37/32082 , H01J2237/339
摘要： 本发明描述了一种用于制备纳米粒子的系统。所述系统可包括用于产生在气体中包含纳米粒子的纳米粒子气溶胶的反应器。所述系统还包括扩散泵，所述扩散泵具有配备入口和出口的腔室。所述腔室的入口与所述反应器的出口流体连通。所述扩散泵还包括与所述腔室流体连通用于支撑扩散泵流体的储集器和用于使所述储集器中的所述扩散泵流体汽化成蒸汽的加热器。此外，所述扩散泵具有与所述储集器流体连通的喷射组件，所述喷射组件具有喷嘴用于将所述汽化的扩散泵流体排放至所述腔室中。所述系统可还包括与所述腔室的所述出口流体连通的真空泵。还提供了制备纳米粒子的方法。
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公开(公告)号：CN104203877A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380018672.9
申请日：2013-04-03
申请人： 拉尔夫·施皮茨尔
发明人： 拉尔夫·施皮茨尔
CPC分类号： C07C2/76 , B01J19/126 , B01J2219/0875 , B01J2219/1206 , H01J37/32 , H01J2237/339 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , C07C11/24
摘要： 使用等离子体技术制备乙炔的方法和装置，其中，将含有至少一种烃的气体进料到等离子体源的非热等离子体中。
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公开(公告)号：CN1278021A
公开(公告)日：2000-12-27
申请号：CN00109269.3
申请日：2000-06-15
申请人： 李铁真 , 株式会社日进纳米技术
CPC分类号： B82Y30/00 , B01J23/26 , B01J23/44 , B01J23/755 , B01J37/0238 , B01J38/08 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C23C16/26 , C23C16/458 , H01J9/025 , H01J2201/30469 , H01J2237/339 , Y02P20/584
摘要： 一种低温热CVD设备和利用设备合成碳纳米管的方法,是将该设备中的反应管分成在空间上邻接气体输入部分、用于热分解输入气体的第一区,和空间上邻接排气部分、用于利用前述的分解气体合成碳纳米管第二区,并且,保持两区的温度,使第二区的温度低于第一区的温度。将具有第一金属催化膜的第一基片用腐蚀气腐蚀,形成纳米级催化颗粒,利用上述设备热分解碳源气,在其温度低于第一区的第二区中,从催化颗粒上合成碳纳米管。
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公开(公告)号：CN107224944A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710075012.4
申请日：2017-02-10
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： B01J13/04
CPC分类号： B01J19/088 , B01J2219/0809 , B01J2219/0813 , B01J2219/0828 , B01J2219/083 , B01J2219/0839 , B01J2219/0875 , B01J2219/0886 , B01J2219/0898 , H01J37/32055 , H01J37/32458 , H01J37/32825 , H01J2237/339 , B01J13/046
摘要： 本发明提供一种微粒子制造装置以及制造方法，通过使在针对回收量以及投入电力能量的处理中所利用的能量的效率变良好，从而能够增加微粒子的生产量以及实现低成本化。具有真空腔(1)、与真空腔连接且从材料供给口(12)向真空腔内供给材料粒子(30)的材料供给装置(10)、设置于真空腔且产生等离子体的电极(4)、以及与真空腔连接且回收微粒子的微粒子回收装置(3)，在所述真空腔内产生放电并根据所述材料来制造所述微粒子的装置，在真空腔的壁(13)与所述等离子体产生区域之间设置内腔(51)，该内腔(51)在与所述真空腔之间设置外侧空间(115)，还具备向所述真空腔的所述壁与所述内腔的壁(51a)之间的所述外侧空间供给气体的气体供给管(15)。
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公开(公告)号：CN103392218B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201180068069.2
申请日：2011-12-14
申请人： 六号元素有限公司
CPC分类号： C23C16/274 , C01B32/25 , C23C16/511 , C30B25/105 , C30B29/04 , H01J37/32192 , H01J37/32642 , H01J2237/339
摘要： 一种用于经由化学气相沉积制造合成金刚石材料的微波等离子体反应器，所述微波等离子体反应器包括：等离子体腔；基底保持器，所述基底保持器设置在所述等离子体腔中并且包括用于支承基底的支承表面，在使用时合成金刚石材料沉积在所述支承表面上；微波耦合结构，所述微波耦合结构用于将微波从微波发生器进给到所述等离子体腔内；以及气体流动系统，所述气体流动系统用于将工艺气体进给到所述等离子体腔内和将工艺气体从所述等离子体腔内移除；其中，所述微波等离子体反应器还包括绕在所述等离子体腔内的所述基底保持器设置的导电等离子体稳定环。
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公开(公告)号：CN102144275B
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN200980134077.5
申请日：2009-09-01
申请人： 陶氏康宁公司
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： C23C16/24 , B01F13/0001 , B01J2/04 , B82Y40/00 , H01J37/32082 , H01J2237/339 , Y10S977/891
摘要： 本发明提供了一种用于合成纳米颗粒的低压甚高频脉冲等离子体反应器系统。该系统包括腔室，该腔室用于接纳至少一个基板，并且能够被抽真空至所选压强。该系统还包括用于从至少一种前驱体气体产生等离子体的等离子体源，以及用于以所选频率提供连续或脉冲射频功率至等离子体的甚高频射频功率源。该频率是基于脉冲射频功率和等离子体之间的耦合效率来选择的。VHF放电和气体前驱体的参数是基于纳米颗粒性质来选择的。纳米颗粒平均大小和颗粒大小分布是通过控制辉光放电的驻留时间(脉冲调制等离子体)相对于通过放电区的气体分子驻留时间、以及纳米颗粒前驱体气体(一种或多种)的质量流量来操控的。
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公开(公告)号：CN103392218A
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201180068069.2
申请日：2011-12-14
申请人： 六号元素有限公司
CPC分类号： C23C16/274 , C01B32/25 , C23C16/511 , C30B25/105 , C30B29/04 , H01J37/32192 , H01J37/32642 , H01J2237/339
摘要： 一种用于经由化学气相沉积制造合成金刚石材料的微波等离子体反应器，所述微波等离子体反应器包括：等离子体腔；基底保持器，所述基底保持器设置在所述等离子体腔中并且包括用于支承基底的支承表面，在使用时合成金刚石材料沉积在所述支承表面上；微波耦合结构，所述微波耦合结构用于将微波从微波发生器进给到所述等离子体腔内；以及气体流动系统，所述气体流动系统用于将工艺气体进给到所述等离子体腔内和将工艺气体从所述等离子体腔内移除；其中，所述微波等离子体反应器还包括绕在所述等离子体腔内的所述基底保持器设置的导电等离子体稳定环。
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