通过CVD制作金刚石层的方法

    公开(公告)号:CN104937136A

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201380064698.7

    申请日:2013-12-04

    IPC分类号: C23C16/27 C30B25/10 C30B29/04

    摘要: 使用微波等离子体化学气相沉积(CVD)合成技术采用合成金刚石材料涂覆非耐火的和/或非平面的基材(8)的方法,该方法包括:·形成复合基材组件(1),该组件(1)包括:·包含上表面的支撑基材(2);·布置在该支撑基材的上表面上方并且延伸至高于该支撑基材的上表面的高度hg的一个或多个导电耐火防护物(6);和布置在该支撑基材的上表面上方并且延伸至高于该支撑基材的上表面的高度hs的一个或多个非耐火的和/或非平面的基材,其中高度hs小于高度hg,其中高度差hg-hs处于0.2mm至10mm范围内;·将该复合基材组件置于微波等离子体CVD反应器的等离子体室内;·将工艺气体供给到等离子体室中,包括含碳气体和含氢气体;·在等离子体室中供给微波以在该复合基材组件上方的位置处形成微波等离子体;和·在该一个或多个非耐火的和/或非平面的基材上生长合成金刚石材料。