一种整片制作和测试边发射光器件的方法

    公开(公告)号:CN108718032A

    公开(公告)日:2018-10-30

    申请号:CN201810478523.5

    申请日:2018-05-18

    发明人: 朱洪亮 黄永光

    IPC分类号: H01S5/10 H01S5/34 H01S5/00

    摘要: 本发明公开了一种整片制作和测试边发射光器件的方法,步骤如下:S1,在晶圆衬底上外延生长多量子阱(MQW)结构和光器件材料结构;S2,在光器件材料结构片上刻制沟槽,形成若干光器件单元;S3,在光器件单元内刻制光波导条,然后生长绝缘介质,并在光波导条两边的沟槽内填充低折射率聚合物;S4,制作正面电极并金属化;S5,在光器件单元的出光端蒸镀减反射膜、背光端蒸镀高反射膜;S6,对晶圆衬底背面制作背面电极并金属化;S7,对晶圆衬底上的光器件单元进行整片在线测试和筛选;S8,切割晶圆衬底,裂解光器件单元,进行后续封装。本发明将沟槽底部刻制成减反射面,避免了凹沟槽底部反射光对器件性能的影响,减少沟槽刻蚀深度,节约刻蚀时间。

    一种金属-半导体复合结构、SPPs激发方式及制备方法

    公开(公告)号:CN108666865A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201810434917.0

    申请日:2018-05-09

    IPC分类号: H01S5/10 B82Y40/00

    CPC分类号: H01S5/10 B82Y40/00

    摘要: 本发明公开了一种金属-半导体复合结构、SPPs激发方法及制备方法,结构依次包括:透明基底,位于透明基底上的多层介质膜,位于多层介质膜表面的半导体纳米结构,覆盖于半导体纳米结构上的透明介质薄膜以及位于透明介质薄膜上的金属薄膜;半导体纳米结构用于形成金属薄膜表面纳米尺度的缺陷,并产生荧光信号以激发金属SPPs;透明基底和多层介质膜构成双色镜衬底,双色镜衬底对激光高透且对荧光高反;激发方法包括:将波长相对较短的激光透过双色镜衬底后垂直入射到所述半导体纳米结构上,以激发半导体纳米结构产生波长相对较长的单光子荧光信号,进而由荧光信号激发金属薄膜的SPPs。本发明能够提高SPPs的激发效率并降低SPPs的探测难度和探测成本。

    太赫兹量子级联激光器系统、气体鉴定系统及方法

    公开(公告)号:CN108023272A

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201610971330.4

    申请日:2016-11-03

    摘要: 本发明提供一太赫兹量子级联激光器系统,包括直流源;与其连接的T型偏置器,用于将偏置信号提供给所述激光器,及耦合所述激光器的拍频信号并将该信号引出到环形器;或将偏置信号与射频信号叠加输入所述激光器;与T型偏置器一端连接的环形器,用于隔离射频、拍频信号;与环形器一端连接的频率检测装置,用于检测拍频信号频率;与环形器另一端连接的射频源,用于提供与拍频信号频率相等的射频信号;及与T型偏置器另一端连接的所述激光器,用于产生拍频信号及宽光谱的太赫兹波。通过本发明的太赫兹量子级联激光器系统、气体鉴定系统及方法,解决了现有技术中太赫兹量子级联激光器的光谱范围较窄,无法快速准确地检测出被测气体样品特征谱的问题。

    谐振腔及应用该谐振腔的绝热激光器

    公开(公告)号:CN106785903A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201510801017.1

    申请日:2015-11-19

    IPC分类号: H01S5/10 H01S5/024 H01S5/06

    CPC分类号: H01S5/10 H01S5/024 H01S5/06

    摘要: 本申请揭示了一种谐振腔,所述谐振腔包括对应设置的第一反射结构和第二反射结构、以及位于第一反射结构和第二反射结构之间的增益单元,所述增益单元包括对光线进行放大的增益结构和对光程进行补偿的温度补偿结构,所述增益结构和温度补偿结构分别采用正温度系数材料和负温度系数材料制成,所述温度补偿结构通过对光程进行补偿来维持射出谐振腔的光线的波长保持不变。本申请中采用负温度系数材料作为补偿能使得谐振腔在不同温度下保持波长稳定;绝热激光器中谐振腔增益单元的有效折射率不会变化,进而光程保持不变,激光器的输出波长不会随着温度漂移。

    一种太赫兹量子级联光放大器及其制作方法

    公开(公告)号:CN106067656A

    公开(公告)日:2016-11-02

    申请号:CN201610404270.8

    申请日:2016-06-08

    摘要: 本发明提供一种太赫兹量子级联光放大器,包括:半绝缘GaAs衬底;位于所述衬底表面的GaAs缓冲层;位于所述缓冲层表面的n型重掺杂下接触层;位于所述下接触层表面的有源区;位于有源区上表面的n型重掺杂上接触层;位于所述上接触层表面、且彼此分隔的上电极金属层,各上电极金属层间设有凹至所述缓冲层的深隔离槽;及位于所述下接触层表面及有源区两侧的下电极金属层;所述光放大器根据各上电极金属层分主波导段,和位于主波导段两端、且对称分布的至少两个耦合腔波导段,主波导段和耦合腔波导段在水平方向上呈一直线分布。通过本发明的光放大器,解决了现有光放大器是分立器件,无法与前级THz QCL同时制备,实现片上集成,而且在使用过程中还需进行光学对准的问题。

    一种调整半导体激光器波长的方法

    公开(公告)号:CN105449516A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201511022234.7

    申请日:2015-12-30

    IPC分类号: H01S5/068 H01S5/10

    CPC分类号: H01S5/068 H01S5/10

    摘要: 一种调整半导体激光器波长的方法,包括以下步骤:(1)将加工好的半导体激光器外延片解理成巴条;(2)将巴条放入镀膜机中,镀膜机抽真空后对巴条烘烤;(3)达到步骤(2)中所述烘烤温度和真空度后,在巴条前腔面蒸镀增透膜,改变前腔面的反射率;(4)在后腔面上蒸镀高反膜,交替蒸镀光学厚度为λ/4的高低折射率镀膜,λ为半导体激光器的波长,使后腔面反射率大于98%。该方法可以主动双向调节半导体激光器波长,工艺简单,易于实现,可以在一定范围内调整半导体激光器的波长,提高了半导体激光器波长的对档率。

    紧凑芯片中的长半导体激光腔

    公开(公告)号:CN103222137B

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201180047881.7

    申请日:2011-10-25

    IPC分类号: H01S5/20

    摘要: 通过使用由蚀刻面形成的全内反射(TIR)表面,长半导体激光器腔体被放置在相对较短长度的芯片里。在一个实施例中,通过使用成三个45度角的TIR表面来连接界定激光腔的四段脊波导或掩埋异质结构(BH)波导,沿着矩形半导体芯片的周边边界形成激光腔。在其他实施例中,甚至使用更多TIR表面和波导段或节段,制造矩形或四边形螺旋结构形状的更长的激光腔。这些结构被限制在邻近波导部分的间隙中,如果其中间隙太小,会引起节段之间的不被期望的耦合。但是,使用邻近部分之间的蚀刻凹槽已被证明可减少这种耦合效应。

    用于光学网络的反射式半导体光学放大器

    公开(公告)号:CN102986098B

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:CN201180032578.X

    申请日:2011-06-16

    IPC分类号: H01S5/50 H01S5/026 H04B10/291

    摘要: 本文献涉及无源光学网络PON。更特定但不专有地说,其涉及将反射式半导体光学放大器RSOA用于放大千兆位(Gigabit)无源光学网络GPON或波分多路复用无源光学网络WDM-PON中的信号。描述经配置以放大光学网络内不同波长的光的设备(21)。所述设备(21)包括经配置以放大第一波长(25)的光的第一活性材料(22)和经配置以放大第二波长(26)的光的第二活性材料(23)。此外,所述设备(21)包括使所述第一和第二活性材料(22,23)分开的第一反射镜(24),所述反射镜(24)经配置以反射所述第一波长(25)的光且经配置以对所述第二波长(26)的光大体上透射。此外,所述设备包括与所述第一反射镜(24)相对的邻近所述第二活性材料(23)的第二反射镜(27),所述第二反射镜(27)经配置以反射所述第二波长(26)的光。