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    电子束引出窗及包含其的电子束发生器
    1.
    发明公开
    电子束引出窗及包含其的电子束发生器 审中-实审

    公开(公告)号：CN112863978A

    公开(公告)日：2021-05-28

    申请号：CN202110278015.4

    申请日：2021-03-15

    申请人： 中国科学院上海应用物理研究所

    发明人： 戴志敏 ,  何子锋 ,  周大勇 ,  杨永金 ,  黄建鸣 ,  王永其 ,  吴新时 ,  林俊

    IPC分类号： H01J37/06 ,  H01J37/07

    摘要： 本发明公开了一种电子束引出窗及包含其的电子束发生器，该电子束引出窗包括：薄膜；窗体，窗体的中部设置有窗口；至少一个第一格栅单元，第一格栅单元包括第一格栅槽；至少一个第二格栅单元，第二格栅单元包括第二格栅槽，第一格栅单元与第二格栅单元间隔设置，且均位于窗口上，第二格栅单元相对于第一格栅单元沿扫描方向被配置于窗口的远端。该电子束引出窗利用了近端第一格栅槽长度短的优点，便于薄膜上的热量快速传导至窗体，同时，窗口被第一格栅单元和第二格栅单元分割，使得第二格栅槽的长度变短，有利于第二格栅单元中部的热量传导至窗体的边缘，延长薄膜及电子束引出窗的使用寿命。

    一种用于磁控注入电子枪的返流电子抑制器件
    3.
    发明公开
    一种用于磁控注入电子枪的返流电子抑制器件 审中-实审

    公开(公告)号：CN116504602A

    公开(公告)日：2023-07-28

    申请号：CN202310722006.9

    申请日：2023-06-19

    申请人： 四川杰诺创科技有限公司

    发明人： 成永东 ,  代博欣 ,  蒋伟 ,  周伟 ,  陈锴文 ,  陈杨进 ,  王婷 ,  李杰

    IPC分类号： H01J37/07 ,  H01J37/075

    摘要： 本发明公开了一种用于磁控注入电子枪的返流电子抑制器件，涉及磁控注入电子枪反流电子抑制领域，其包括套设在电子枪阴极上的直角结构遮挡电极，以及套设在直角结构遮挡电极前端的遮挡块；直角结构遮挡电极的电压与电子枪阴极相同；直角结构遮挡电极的直角与阴极发射带中心的水平距离为48 mm，直角结构遮挡电极的直角高度大于等于6mm；遮挡块的右端与阴极发射带中心的水平距离为34 mm，遮挡块的高度大于等于5mm。本发明能有效抑制返流电子向电子枪前端运动，防止返流电子击打在电子枪前端的陶瓷上，保障了回旋行波管的长时间稳定安全工作。

    三维物品的增量制造
    5.
    发明公开
    三维物品的增量制造 有权

    公开(公告)号：CN108541332A

    公开(公告)日：2018-09-14

    申请号：CN201680079171.5

    申请日：2016-10-13

    申请人： 阿卡姆股份公司

    发明人： M.法格

    IPC分类号： H01J37/075 ,  H01J37/07 ,  B22F3/105 ,  B29C67/00 ,  B33Y10/00 ,  B22F3/10 ,  B33Y30/00 ,  H01J29/46 ,  B23K15/02 ,  B29C64/153 ,  B23K15/00 ,  H01J37/24 ,  B33Y50/02 ,  H01J37/317 ,  B29C64/393

    摘要： 本发明涉及一种通过接连地沉积粉末材料的单独层而形成三维物品的方法，所述粉末材料的单独层被熔融在一起以便形成物品，其包括操作包括阴极（102）、栅极（104）以及阳极（106）的三极电子射束源的方法，具有如下步骤：（a）将电子射束电流、阴极加热功率、栅极电势Ug和阴极电势Uc设置到预定的起始值；（b）减小阴极加热功率并且降低Ug-Uc电势差以用于维持预定的电子射束电流；（c）利用至少一个X射线检测器（190）来检测发源自电子射束源的X射线信号；（d）重复所述减小和检测步骤直到所检测的X射线信号高于预定值为止；以及（e）使阴极加热功率在导致高于所述预定值的X射线信号的加热功率值之上增加预定安全值。从而确定了最低可接受的阴极加热功率而不影响电子射束电流，并且因而延长了阴极元件的寿命时间。

    带电粒子源模块
    6.
    发明公开
    带电粒子源模块 审中-实审

    公开(公告)号：CN114937585A

    公开(公告)日：2022-08-23

    申请号：CN202210698168.9

    申请日：2018-04-10

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： L·迪努-格尔特勒 ,  E·P·霍杰沃斯特 ,  J·范索伊斯特

    IPC分类号： H01J37/065 ,  H01J37/067 ,  H01J37/07 ,  H01J37/10 ,  H01J37/244 ,  H01J37/317 ,  H01J37/04 ,  H01J1/88 ,  H01J3/02 ,  G03F7/20

    摘要： 本发明涉及一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块，包括：框架，包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在第一框架部分和第二框架部分之间的并且刚性地连接至它们的一个或多个刚性支撑构件，框架包括安装构件，安装构件通过挠曲连接件而连接到第二框架部分；用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，其中带电粒子源装置被布置在第二框架部分处，包括：发射器装置，被配置用于发射带电粒子；以及电极，用于从由发射器装置发射的带电粒子形成带电粒子束；和布置在第一框架部分处的电力连接组件，电力连接组件刚性地连接到第一框架部分，并且带电粒子源装置刚性地连接到第二框架部分，其中带电粒子源装置经由电线电连接至电力连接组件。

    一种离子注入机的靶盘装置
    7.
    发明授权
    一种离子注入机的靶盘装置 有权

    公开(公告)号：CN107256819B

    公开(公告)日：2019-02-12

    申请号：CN201710456645.X

    申请日：2017-06-16

    申请人： 上海集成电路研发中心有限公司

    发明人： 康晓旭 ,  曾绍海

    IPC分类号： H01J37/07 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317

    摘要： 本发明公开了一种离子注入机的靶盘装置，包括靶盘平台和支撑架，支撑架的上端安装靶盘平台，用于放置待加工晶圆，高能离子束进入所述靶盘装置，入射在待加工晶圆上，实现离子注入工艺，其中，还包括石墨电极单元和供电单元，所述支撑架的下端安装石墨电极单元，所述石墨电极单元为中空结构，包括石墨电极和中空区域Ⅰ，所述石墨电极和所述供电单元连接。本发明提供的一种离子注入机的靶盘装置，放置硅片的靶盘面积小于硅片面积，同时在靶台后面放置石墨电极，并在其上施加一定电压，对轰击在其上的束流进行减速，从而避免高能离子束轰击靶盘装置的其他部件，产生二次污染离子和轰击产生的颗粒。

    电子显微镜、用于电子显微镜的电子源、和操作电子显微镜的方法
    10.
    发明公开
    电子显微镜、用于电子显微镜的电子源、和操作电子显微镜的方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN118414683A

    公开(公告)日：2024-07-30

    申请号：CN202280083655.2

    申请日：2022-10-13

    申请人： ICT半导体集成电路测试有限公司

    发明人： P·阿达麦茨

    IPC分类号： H01J1/304 ,  H01J37/07 ,  H01J37/073 ,  H01J3/02

    摘要： 描述了一种电子显微镜(100)。电子显微镜包括用于产生电子束的电子源(110)、用于准直电子源下游的电子束的聚光透镜(130)和用于将电子束聚焦到样本(16)上的物镜(140)。电子源包括：冷场发射器，具有发射尖端(112)；提取电极(114)，用于从冷场发射器提取电子束(105)以沿光轴线(A)传播，提取电极具有被配置为第一射束限制孔的第一开口(115)、用于通过加热发射尖端(112)来清洁发射尖端的第一清洁布置(121)、以及用于通过加热提取电极(114)来清洁提取电极的第二清洁布置(122)。进一步描述了操作这种电子显微镜的方法。